JPH05267935A - Oscillating circuit for semiconductor integrated circuit - Google Patents

Oscillating circuit for semiconductor integrated circuit

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JPH05267935A
JPH05267935A JP4064142A JP6414292A JPH05267935A JP H05267935 A JPH05267935 A JP H05267935A JP 4064142 A JP4064142 A JP 4064142A JP 6414292 A JP6414292 A JP 6414292A JP H05267935 A JPH05267935 A JP H05267935A
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circuit
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Yoshihiko Koike
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Abstract

PURPOSE:To reduce an area of the oscillating circuit in the semiconductor integrated circuit, and to obtain a stable oscillation without consuming excessive power by connecting selectively in parallel one or two or more sets of plural transistor sets in accordance with an oscillation frequency to be used. CONSTITUTION:In the inside of an IC, an amplifying inverter 40 and a self-bias resistance 42 are connected in parallel, and also, connected to terminals 44, 46 of the IC. In the outside of the IC, a crystal resonator 48 is connected to the terminals 44, 46, and also, grounded through capacitors 50, 52. Also, the inverter 40 contains three resistor sets 58, 60 and 62, and by switching switches 60c, 60d of a second transistor set 60 and switches 62c, 62d of a third transistor set 62, size of the inverter 40 can be varied. In such a way, in accordance with an oscillation frequency to be used, optimal size of the inverter can be selected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路用発振
回路に関する。近年、LSIは様々な産業で使用され、
その用途も多岐にわたっている。LSIを発振回路に使
用する際に、同一のLSIであっても発振周波数は1つ
とは限られず、様々の周波数で使用されている。このた
め、周波数に応じて、発振回路内の増幅用インバータの
増幅度を変えて使用する必要がある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an oscillator circuit for semiconductor integrated circuits. In recent years, LSI has been used in various industries,
Its uses are also diverse. When an LSI is used for an oscillation circuit, the same LSI is not limited to one oscillation frequency, and is used at various frequencies. Therefore, it is necessary to change the amplification degree of the amplification inverter in the oscillation circuit according to the frequency.

【0002】[0002]

【従来の技術】図9には、発振回路の構成が示されてい
る。図9(A)において、IC内部では、増幅用インバ
ータ10と自己バイアス用抵抗12とが並列接続される
とともに、ICの端子14,16に接続されている。I
C外部では、水晶振動子18が前記端子14,16に接
続されるとともに、コンデンサ20,22を介して接地
されている。IC内部で、前記端子16には、インバー
タ24が接続されており、該インバータ24から、所定
周波数の発振信号26が出力される。
2. Description of the Related Art FIG. 9 shows the structure of an oscillator circuit. In FIG. 9 (A), inside the IC, an amplification inverter 10 and a self-biasing resistor 12 are connected in parallel and are also connected to terminals 14 and 16 of the IC. I
Outside C, the crystal oscillator 18 is connected to the terminals 14 and 16 and is grounded via the capacitors 20 and 22. An inverter 24 is connected to the terminal 16 inside the IC, and an oscillation signal 26 having a predetermined frequency is output from the inverter 24.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記図9(A)の発振
回路において、インバータ10のサイズは、使用する周
波数にかかわらず、固定であるので、次のような問題が
あった。
In the oscillator circuit shown in FIG. 9A, the size of the inverter 10 is fixed regardless of the frequency used, so that there is the following problem.

【0004】まず、周波数が高い場合について考える
と、この場合には、図10の発振回路の負性抵抗特性に
示されるように、負性抵抗の絶対値は大きくなり、この
ため、発振回路は発振し難くなる。これを防ぐため、周
波数が高い場合には、インバータ10のサイズを大きく
することが必要である。
First, considering the case where the frequency is high, in this case, the absolute value of the negative resistance becomes large as shown in the negative resistance characteristic of the oscillation circuit of FIG. It becomes difficult to oscillate. To prevent this, it is necessary to increase the size of the inverter 10 when the frequency is high.

【0005】一方、周波数が低い場合について考える
と、この場合には、発振回路は発振し易いが、電源側か
らインバータ10を通って接地側に流れる貫通電流が大
きい。詳述すると、図9(B)には、インバータ10の
構成が示され、周波数が低い場合には、電源VCC側から
P型トランジスタ28、N型トランジスタ30を通り接
地側に流れる貫通電流32が大きくなる。このように、
接地側に流れ込む貫通電流32が大きいと、接地レベル
が上昇し、IC内部のMOSトランジスタのしきい値を
変化させるという問題がある。これを防ぐため、周波数
が低い場合には、インバータ10のサイズを小さくする
ことが必要である。
On the other hand, considering the case where the frequency is low, in this case, the oscillation circuit easily oscillates, but the through current flowing from the power source side through the inverter 10 to the ground side is large. More specifically, FIG. 9B shows the configuration of the inverter 10. When the frequency is low, the through current 32 that flows from the power supply V CC side to the ground side through the P-type transistor 28 and the N-type transistor 30. Will grow. in this way,
If the through current 32 flowing into the ground side is large, there is a problem that the ground level rises and the threshold value of the MOS transistor inside the IC is changed. To prevent this, it is necessary to reduce the size of the inverter 10 when the frequency is low.

【0006】以上のように、発振回路のインバータ10
のサイズが固定であると、周波数が高い場合、周波数が
低い場合に、問題があり、使用する周波数に応じて、イ
ンバータ10のサイズを変えることが必要である。
As described above, the inverter 10 of the oscillation circuit
When the size is fixed, there is a problem when the frequency is high and when the frequency is low, and it is necessary to change the size of the inverter 10 according to the frequency used.

【0007】上記問題点に対処するために、特開昭63
−82108号公報に示される発振回路用半導体集積回
路では、相互コンダクタンスの異なる複数のインバータ
をIC内に設け、使用する周波数に応じて、複数のイン
バータのうちの1つのインバータを選択使用していた。
すなわち、周波数が高い場合には、相互コンダクタンス
の大きいインバータが選択使用され、一方、周波数が低
い場合には、相互コンダクタンスの小さいインバータが
選択使用され、これにより、広範囲の周波数にわたっ
て、安定した発振が得られるようになっている。
In order to solve the above-mentioned problems, Japanese Patent Laid-Open No. Sho 63-63
In the semiconductor integrated circuit for an oscillation circuit disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 82108, a plurality of inverters having different mutual conductances are provided in the IC, and one of the plurality of inverters is selected and used according to the frequency to be used. ..
That is, when the frequency is high, the inverter with a large mutual conductance is selected and used, while when the frequency is low, the inverter with a small mutual conductance is selected and used, which allows stable oscillation over a wide range of frequencies. You can get it.

【0008】ところが、上記公報の構成では、IC内部
に相互コンダクタンスの異なる複数のインバータを予め
設けるため、ICのチップサイズが大きくなるという問
題があった。従って、ICのチップサイズを小さくする
とともに、低消費電力化を達成する必要がある。
However, in the configuration of the above publication, there is a problem that the chip size of the IC becomes large because a plurality of inverters having different mutual conductances are previously provided inside the IC. Therefore, it is necessary to reduce the IC chip size and achieve low power consumption.

【0009】そこで、本発明の目的は、増幅用インバー
タのサイズを可変にすることにより、半導体集積回路内
の発振回路の面積を小さくでき、余分な電力を消費する
ことなく、安定した発振を得ることができる半導体集積
回路用発振回路を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to make the size of the amplifying inverter variable so that the area of the oscillation circuit in the semiconductor integrated circuit can be reduced, and stable oscillation can be obtained without consuming extra power. An object of the present invention is to provide an oscillation circuit for a semiconductor integrated circuit that can be used.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、増幅用インバ
ータ(40)を含む半導体集積回路用発振回路におい
て、前記増幅用インバータ(40)は、複数のトランジ
スタ組(58,60,62)を備え、使用する発振周波
数に対応して、複数のトランジスタ組(58,60,6
2)のうち1又は2以上の組が選択的に並列接続される
ことによりトランジスタサイズを可変としたことを特徴
とする。
According to the present invention, in an oscillation circuit for a semiconductor integrated circuit including an amplification inverter (40), the amplification inverter (40) includes a plurality of transistor groups (58, 60, 62). A plurality of transistor groups (58, 60, 6) are provided according to the oscillation frequency used.
It is characterized in that the transistor size is made variable by selectively connecting in parallel one or more sets of 2).

【0011】図1には、本発明の原理による発振回路が
示されている。図1(A)において、IC内部では、増
幅用インバータ40と自己バイアス用抵抗42とが並列
接続されるとともに、ICの端子44,46に接続され
ている。IC外部では、水晶振動子48が前記端子4
4,46に接続されるとともに、コンデンサ50,52
を介して接地されている。IC内部で、前記端子46に
は、インバータ54が接続されており、該インバータ5
4から、所定周波数の発振信号56が出力される。
FIG. 1 shows an oscillator circuit according to the principles of the present invention. In FIG. 1A, inside the IC, an amplification inverter 40 and a self-biasing resistor 42 are connected in parallel and are also connected to terminals 44 and 46 of the IC. Outside the IC, the crystal oscillator 48 is connected to the terminal 4
4, 46 and capacitors 50, 52
Grounded through. An inverter 54 is connected to the terminal 46 inside the IC.
4 outputs an oscillation signal 56 having a predetermined frequency.

【0012】そして、図1(B)には、前記インバータ
40の構成が示されている。図1(B)において、イン
バータ40は、3つのトランジスタ組58,60,62
を含み、第1のトランジスタ組58は、P型トランジス
タ58a、N型トランジスタ58bを備え、該トランジ
スタ58a,58bのゲートは、ともに、入力信号IN
に接続されている。第2のトランジスタ組60は、P型
トランジスタ60a、N型トランジスタ60bを備え、
トランジスタ60aのゲートは、スイッチ60cを介し
て入力信号INあるいは電源VCCに切換接続され、トラ
ンジスタ60bのゲートは、スイッチ60dを介して入
力信号INあるいは接地側に切換接続される。同様にし
て、第3のトランジスタ組62は、P型トランジスタ6
2a、N型トランジスタ62bを備え、トランジスタ6
2aのゲートは、スイッチ62cを介して入力信号IN
あるいは電源VCCに切換接続され、トランジスタ62b
のゲートは、スイッチ62dを介して入力信号INある
いは接地側に切換接続される。
The structure of the inverter 40 is shown in FIG. 1 (B). In FIG. 1B, the inverter 40 includes three transistor groups 58, 60, 62.
The first transistor group 58 includes a P-type transistor 58a and an N-type transistor 58b, and the gates of the transistors 58a and 58b are both the input signal IN.
It is connected to the. The second transistor group 60 includes a P-type transistor 60a and an N-type transistor 60b,
The gate of the transistor 60a is switch-connected to the input signal IN or the power supply V CC via the switch 60c, and the gate of the transistor 60b is switch-connected to the input signal IN or the ground side via the switch 60d. Similarly, the third transistor set 62 includes the P-type transistor 6
2a, an N-type transistor 62b, and a transistor 6
The gate of 2a receives the input signal IN via the switch 62c.
Alternatively, the transistor 62b is connected to the power source V CC by switching.
The gate of is switched and connected to the input signal IN or the ground side through the switch 62d.

【0013】[0013]

【作用】上記図1(B)のインバータにおいて、第2の
トランジスタ組60のスイッチ60c,60d、及び、
第3のトランジスタ組62のスイッチ62c,62dの
切換により、インバータ40のサイズ(トランジスタサ
イズ)を変えることができる。
In the inverter shown in FIG. 1B, the switches 60c and 60d of the second transistor set 60, and
The size of the inverter 40 (transistor size) can be changed by switching the switches 62c and 62d of the third transistor set 62.

【0014】すなわち、第2のトランジスタ組60のト
ランジスタ60a,60bのゲートがそれぞれ電源
CC、接地側に接続され、同様にして、第3のトランジ
スタ組62のトランジスタ62a,62bのゲートがそ
れぞれ電源VCC、接地側に接続されている場合には、第
1のトランジスタ組58のみが選択状態であり、第2の
トランジスタ組60及び第3のトランジスタ組62が非
選択状態である。従って、インバータ40のサイズは、
第1のトランジスタ組58により定められる。
That is, the gates of the transistors 60a and 60b of the second transistor group 60 are respectively connected to the power source V CC and the ground side, and similarly, the gates of the transistors 62a and 62b of the third transistor group 62 are respectively powered. When connected to V CC and the ground side, only the first transistor set 58 is in the selected state, and the second transistor set 60 and the third transistor set 62 are in the non-selected state. Therefore, the size of the inverter 40 is
It is defined by the first transistor set 58.

【0015】また、第2のトランジスタ組60のトラン
ジスタ60a,60bのゲートがともに入力信号INに
接続されているが、第3のトランジスタ組62のトラン
ジスタ62a,62bのゲートがそれぞれ電源VCC、接
地側に接続されている場合には、第1のトランジスタ組
58及び第2のトランジスタ組60が選択状態であり、
第3のトランジスタ組62が非選択状態である。従っ
て、インバータ40のサイズは、第1のトランジスタ組
58及び第2のトランジスタ組60により定められる。
Although the gates of the transistors 60a and 60b of the second transistor group 60 are both connected to the input signal IN, the gates of the transistors 62a and 62b of the third transistor group 62 are the power source V CC and the ground, respectively. When connected to the side, the first transistor set 58 and the second transistor set 60 are in the selected state,
The third transistor set 62 is in the non-selected state. Therefore, the size of the inverter 40 is determined by the first transistor set 58 and the second transistor set 60.

【0016】更に、第2のトランジスタ組60のトラン
ジスタ60a,60bのゲートがともに入力信号INに
接続され、同様にして、第3のトランジスタ組62のト
ランジスタ62a,62bのゲートがともに入力信号I
Nに接続されている場合には、第1のトランジスタ組5
8、第2のトランジスタ組60、及び、第3のトランジ
スタ組62の全てが選択状態である。従って、インバー
タ40のサイズは、これら3つのトランジスタ組58,
60,62により定められる。
Further, the gates of the transistors 60a and 60b of the second transistor group 60 are both connected to the input signal IN, and similarly, the gates of the transistors 62a and 62b of the third transistor group 62 are both input signal I.
When connected to N, the first transistor set 5
8, the second transistor set 60, and the third transistor set 62 are all in the selected state. Therefore, the size of the inverter 40 depends on these three transistor groups 58,
60, 62.

【0017】以上のように、第2のトランジスタ組60
のスイッチ60c,60d、及び、第3のトランジスタ
組62のスイッチ62c,62dの切換により、インバ
ータ40のサイズを変えることができるので、使用する
発振周波数に応じて、最適なインバータのサイズを選択
することができる。
As described above, the second transistor group 60
Since the size of the inverter 40 can be changed by switching the switches 60c and 60d of No. 6 and the switches 62c and 62d of the third transistor set 62, the optimum inverter size is selected according to the oscillation frequency to be used. be able to.

【0018】また、異なる種類の複数のインバータを設
ける場合と比較して、半導体集積回路内の発振回路の面
積を小さくでき、余分な電力を消費することがなく、安
定した発振を得ることができる。
Further, as compared with the case where a plurality of different types of inverters are provided, the area of the oscillating circuit in the semiconductor integrated circuit can be made smaller, and extra power is not consumed, and stable oscillation can be obtained. ..

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例
を説明する。図2には、本発明の実施例による発振回路
のインバータが示されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 shows an inverter of the oscillation circuit according to the embodiment of the present invention.

【0020】図2のインバータは、前記図1(B)のイ
ンバータと同様の構成であり、使用する発振周波数に応
じて、第2のトランジスタ組60のスイッチ60c,6
0d、及び、第3のトランジスタ組62のスイッチ62
c,62dを切り換え、インバータのサイズを変えるこ
とができる。すなわち、周波数が低い場合には、第2の
トランジスタ組60のトランジスタ60a,60bのゲ
ートがそれぞれ電源VCC、接地側に接続され、同様にし
て、第3のトランジスタ組62のトランジスタ62a,
62bのゲートがそれぞれ電源VCC、接地側に接続さ
れ、第1のトランジスタ組58のみが選択状態である。
従って、インバータのサイズは、第1のトランジスタ組
58により定められ、最小のサイズになる。
The inverter shown in FIG. 2 has the same structure as that of the inverter shown in FIG. 1B, and switches 60c, 6 of the second transistor set 60 are selected depending on the oscillation frequency used.
0d and the switch 62 of the third transistor set 62
The size of the inverter can be changed by switching between c and 62d. That is, when the frequency is low, the gates of the transistors 60a and 60b of the second transistor group 60 are connected to the power supply V CC and the ground side, respectively, and similarly, the transistors 62a and 62a of the third transistor group 62 are connected.
The gates of 62b are connected to the power supply V CC and the ground side, respectively, and only the first transistor set 58 is in the selected state.
Therefore, the size of the inverter is defined by the first transistor set 58 and is the smallest size.

【0021】また、周波数が高い場合には、第2のトラ
ンジスタ組60のトランジスタ60a,60bのゲート
がともに入力信号INに接続され、第1のトランジスタ
組58及び第2のトランジスタ組60の両者が選択状態
になる。従って、インバータのサイズは、第1のトラン
ジスタ組58及び第2のトランジスタ組60により定め
られ、大サイズになる。
When the frequency is high, the gates of the transistors 60a and 60b of the second transistor set 60 are both connected to the input signal IN, and both the first transistor set 58 and the second transistor set 60 are connected. The selected state is set. Therefore, the size of the inverter is determined by the first transistor set 58 and the second transistor set 60 and becomes large.

【0022】周波数が更に高い場合には、第2のトラン
ジスタ組60のトランジスタ60a,60bのゲートが
ともに入力信号INに接続され、同様にして、第3のト
ランジスタ組62のトランジスタ62a,62bのゲー
トがともに入力信号INに接続され、3つの第1のトラ
ンジスタ組58、第2のトランジスタ組60、及び、第
3のトランジスタ組62の全てが選択状態になる。従っ
て、インバータのサイズは、第1のトランジスタ組5
8、第2のトランジスタ組60、及び、第3のトランジ
スタ組62により定められ、最大のサイズになる。
When the frequency is higher, the gates of the transistors 60a and 60b of the second transistor set 60 are both connected to the input signal IN, and the gates of the transistors 62a and 62b of the third transistor set 62 are similarly set. Are connected to the input signal IN, and the three first transistor sets 58, the second transistor set 60, and the third transistor set 62 are all selected. Therefore, the size of the inverter is the first transistor set 5
8, the second transistor set 60, and the third transistor set 62 determine the maximum size.

【0023】以上のように、図2のインバータによれ
ば、スイッチ60c,60d,62c,62dの切換に
より、使用する発振周波数に応じて、インバータのサイ
ズを変えることができ、すなわち、周波数が大きくなる
のに従って、インバータのサイズを大きくすることがで
きる。
As described above, according to the inverter of FIG. 2, the size of the inverter can be changed according to the oscillation frequency to be used by switching the switches 60c, 60d, 62c and 62d, that is, the frequency is increased. As such, the size of the inverter can be increased.

【0024】なお、図2のインバータにおいては、3つ
のトランジスタ組58,60,62が設けられている
が、インバータのトランジスタ組は3つに限られず、2
つあるいは4つ以上であってもよい。
In the inverter of FIG. 2, three transistor groups 58, 60, 62 are provided, but the number of transistor groups of the inverter is not limited to three, and two transistor groups are provided.
It may be one or four or more.

【0025】上記図2のインバータにおいて、スイッチ
60c,60d,62c,62dは配線のマスクによる
マスクオプションで構成してもよく、ROMデータとし
て記憶させてもよく、あるいは外部端子により選択でき
るようにしてもよい。以下、発振回路のインバータのト
ランジスタサイズを切り換えるための構成を説明する。
In the inverter shown in FIG. 2, the switches 60c, 60d, 62c and 62d may be constituted by a mask option using a wiring mask, may be stored as ROM data, or may be selected by an external terminal. Good. Hereinafter, a configuration for switching the transistor size of the inverter of the oscillation circuit will be described.

【0026】まず、図3には、インバータのトランジス
タサイズをマスクオプションで切り換える第1構成が示
されている。図3(A)において、インバータは、3つ
のトランジスタ組64,66,68を含み、第1のトラ
ンジスタ組64は、P型トランジスタ64a、N型トラ
ンジスタ64bを備え、同様にして、第2のトランジス
タ組66は、P型トランジスタ66a、N型トランジス
タ66bを備え、第3のトランジスタ組68は、P型ト
ランジスタ68a、N型トランジスタ68bを備える。
前記トランジスタ64a,64b,66a,66b,6
8a,68bのゲートは、入力信号INに接続され、第
1のトランジスタ組64のトランジスタ64a,64b
の結合部64c、及び、第2のトランジスタ組66のト
ランジスタ66a,66bの結合部66cは、スイッチ
70を介して出力側OUTに接続され、また、第3のト
ランジスタ組68のトランジスタ68a,68bの結合
部68cは、直接に出力側OUTに接続されている。
First, FIG. 3 shows a first configuration in which the transistor size of the inverter is switched by a mask option. In FIG. 3A, the inverter includes three transistor groups 64, 66, and 68, the first transistor group 64 includes a P-type transistor 64a and an N-type transistor 64b, and similarly, the second transistor group. The set 66 includes a P-type transistor 66a and an N-type transistor 66b, and the third transistor set 68 includes a P-type transistor 68a and an N-type transistor 68b.
The transistors 64a, 64b, 66a, 66b, 6
The gates of 8a and 68b are connected to the input signal IN, and the transistors 64a and 64b of the first transistor set 64 are connected.
And the coupling portion 66c of the transistors 66a and 66b of the second transistor group 66 are connected to the output side OUT via the switch 70, and the transistors 68a and 68b of the third transistor group 68 are coupled to each other. The coupling portion 68c is directly connected to the output OUT.

【0027】そして、スイッチ70がオフ状態の場合に
は、第3のトランジスタ組68のみが選択状態であり、
インバータのトランジスタサイズは小さい。一方、スイ
ッチ70がオン状態の場合には、3つのトランジスタ組
64,66,68の全てが選択状態であり、インバータ
のトランジスタサイズは大きく、スイッチ70がオフの
場合と比較して、3倍のサイズである。
When the switch 70 is off, only the third transistor set 68 is in the selected state,
The transistor size of the inverter is small. On the other hand, when the switch 70 is in the on state, all the three transistor groups 64, 66, 68 are in the selected state, the transistor size of the inverter is large, and three times as large as when the switch 70 is off. Is the size.

【0028】上記図3(A)の回路は、図3(B)の配
線構造で達成される。図3(B)において、入力信号I
N用のポリシリコン層72には、トランジスタ組64,
66,68用のゲート層74,76,78が直交状態に
て結合されている。符号80,82は、それぞれ、Pチ
ャネルトランジスタ用領域(拡散層)、Nチャネルトラ
ンジスタ用領域(拡散層)を示し、P型領域80には、
電源V CC用のアルミニウム層84がコンタクト84a,
84bで結合され、また、N型領域82には、接地側V
SS用のアルミニウム層86がコンタクト86a,86b
で結合されている。符号88は、出力側OUT用のアル
ミニウム層を示し、該出力側アルミニウム層88は、コ
ンタクト88aでP型領域80に結合されるとともに、
コンタクト88bでN型領域82に結合されている。な
お、符号90は、N−well境界を示す。
The circuit of FIG. 3 (A) is the same as the circuit of FIG. 3 (B).
Achieved with a line structure. In FIG. 3B, the input signal I
The N polysilicon layer 72 includes a transistor set 64,
Gate layers 74, 76 and 78 for 66 and 68 are in an orthogonal state
Are joined together. Reference numerals 80 and 82 respectively indicate P
Channel transistor region (diffusion layer), N-channel transistor
A region for the transistor (diffusion layer) is shown, and in the P-type region 80,
Power supply V CCAluminum layer 84 for contact is contact 84a,
84b, and the N-type region 82 has a ground side V
SSAluminum layer 86 for use as contacts 86a, 86b
Are joined by. Reference numeral 88 is an output-side OUT
The output aluminum layer 88 is a
Contact 88a with the P-type region 80,
It is coupled to N-type region 82 at contact 88b. Na
The reference numeral 90 indicates an N-well boundary.

【0029】以上の構成において、ゲート層74に沿っ
て、第1のトランジスタ組64のトランジスタ64a,
64bが形成され、同様にして、ゲート層76に沿っ
て、第2のトランジスタ組66のトランジスタ66a,
66bが形成され、ゲート層78に沿って、第3のトラ
ンジスタ組68のトランジスタ68a,68bが形成さ
れる。
In the above structure, along the gate layer 74, the transistors 64a of the first transistor set 64,
64b are formed, and similarly, along the gate layer 76, the transistors 66a of the second transistor set 66,
66b is formed, and the transistors 68a and 68b of the third transistor set 68 are formed along the gate layer 78.

【0030】そして、出力側アルミニウム層88のコン
タクト88c,88dがそれぞれP型領域80、N型領
域82に結合されていない場合には、第3のトランジス
タ組68のみが選択状態であり、インバータのトランジ
スタサイズは小さい。これは、図3(A)でスイッチ7
0がオフ状態の場合に対応する。一方、出力側のアルミ
ニウム層88のコンタクト88c,88dがそれぞれP
型領域80、N型領域82に結合されている場合には、
3つのトランジスタ組64,66,68の全てが選択状
態であり、インバータのトランジスタサイズは大きく、
コンタクト88c,88dが結合されていない場合と比
較して、3倍のサイズである。これは、図3(A)でス
イッチ70がオンの場合に対応する。
When the contacts 88c and 88d of the output side aluminum layer 88 are not coupled to the P-type region 80 and the N-type region 82, respectively, only the third transistor set 68 is in the selected state and the inverter of the inverter is not selected. The transistor size is small. This is switch 7 in FIG.
This corresponds to the case where 0 is in the off state. On the other hand, the contacts 88c and 88d of the aluminum layer 88 on the output side are P
When bonded to the mold region 80 and the N-type region 82,
All three transistor groups 64, 66, 68 are in the selected state, and the transistor size of the inverter is large,
The size is three times as large as that when the contacts 88c and 88d are not joined. This corresponds to the case where the switch 70 is on in FIG.

【0031】以上のように、図3の構成においては、出
力側のアルミニウム層88のコンタクト88c,88d
をP型領域80、N型領域82に結合するかあるいは結
合しないかにより、すなわち、マスクオプションによ
り、インバータのトランジスタサイズを変えることがで
きる。
As described above, in the structure of FIG. 3, the contacts 88c, 88d of the aluminum layer 88 on the output side are provided.
Depending on whether or not is coupled to the P-type region 80 and the N-type region 82, that is, the mask option can change the transistor size of the inverter.

【0032】次に、図4、図5には、インバータのトラ
ンジスタサイズをマスクオプションで切り換える第2構
成が示され、図4、図5は、それぞれ、トランジスタサ
イズが大の場合、小の場合を示す。なお、図4(A)、
図5(A)の回路は、前述した図2の回路と同様である
ので、図4(A)、図5(B)において、図2の回路と
同一部分には同一符号を付して説明を省略する。
Next, FIGS. 4 and 5 show a second configuration in which the transistor size of the inverter is switched by a mask option, and FIGS. 4 and 5 show the cases where the transistor size is large and small, respectively. Show. Note that FIG.
Since the circuit of FIG. 5A is similar to the circuit of FIG. 2 described above, in FIGS. 4A and 5B, the same parts as those of the circuit of FIG. Is omitted.

【0033】まず、図4(A)では、スイッチ60c,
60d,62c,62dが全て入力信号IN側に切り換
えられているので、3つのトランジスタ組58,60,
62の全てが選択状態である。従って、インバータのト
ランジスタサイズは、3つのトランジスタ組58,6
0,62により定められ、トランジスタサイズは大であ
る。
First, in FIG. 4A, the switches 60c,
Since 60d, 62c, and 62d are all switched to the input signal IN side, three transistor groups 58, 60,
All of 62 are in the selected state. Therefore, the transistor size of the inverter is three transistor sets 58,6.
0,62, and the transistor size is large.

【0034】上記図4(A)の回路は、図4(B)の配
線構造で達成される。図4(B)において、入力信号I
N用のポリシリコン層92には、トランジスタ組58,
60,62用のポリシリコンゲート層94,96,98
が直交状態にて配置され、ゲート層94,96,98
は、それぞれ、コンタクト94a,96a,98aでポ
リシリコン層92に結合されている。符号100,10
2は、それぞれ、Pチャネルトランジスタ用領域(拡散
層)、Nチャネルトランジスタ用領域(拡散層)を示
し、P型領域100には、電源VCC用のアルミニウム層
104がコンタクト104a,104bで結合され、ま
た、N型領域102には、接地側VSS用のアルミニウム
層106がコンタクト106a,106bで結合されて
いる。符号108は、出力側OUT用のアルミニウム層
を示し、該アルミニウム層108は、コンタクト108
a,108bでP型領域100に結合されるとともに、
コンタクト108c,108dでN型領域102に結合
されている。なお、符号110は、N−well境界を
示す。
The circuit of FIG. 4A is achieved by the wiring structure of FIG. 4B. In FIG. 4B, the input signal I
The N polysilicon layer 92 includes transistor sets 58,
Polysilicon gate layers 94, 96, 98 for 60, 62
Are arranged in an orthogonal state, and the gate layers 94, 96, 98
Are coupled to polysilicon layer 92 at contacts 94a, 96a, 98a, respectively. Reference numerals 100 and 10
2 denotes a P-channel transistor region (diffusion layer) and an N-channel transistor region (diffusion layer), respectively, and an aluminum layer 104 for a power supply V CC is coupled to the P-type region 100 by contacts 104a and 104b. Further, an aluminum layer 106 for the ground side V SS is coupled to the N-type region 102 by contacts 106a and 106b. Reference numeral 108 indicates an aluminum layer for the output side OUT, and the aluminum layer 108 is the contact 108.
a and 108b are bonded to the P-type region 100,
The contacts 108c and 108d are coupled to the N-type region 102. Note that reference numeral 110 indicates an N-well boundary.

【0035】以上の構成において、ゲート層94に沿っ
て、第1のトランジスタ組58のトランジスタ58a,
58bが形成され、同様にして、ゲート層96に沿っ
て、第2のトランジスタ組60のトランジスタ60a,
60bが形成され、ゲート層98に沿って、第3のトラ
ンジスタ組62のトランジスタ62a,62bが形成さ
れる。
In the above structure, the transistors 58a, 58a of the first transistor group 58 are arranged along the gate layer 94.
58b is formed, and similarly, along the gate layer 96, the transistors 60a of the second transistor group 60,
60b is formed, and the transistors 62a and 62b of the third transistor set 62 are formed along the gate layer 98.

【0036】そして、第2のトランジスタ組60、第3
のトランジスタ組62のゲート層96,98がそれぞれ
コンタクト96a,98aを介して入力信号IN用のポ
リシリコン層92に結合されているので、3つのトラン
ジスタ組58,60,62は全て選択状態である。従っ
て、インバータのトランジスタサイズは、3つのトラン
ジスタ組58,60,62により定められ、トランジス
タサイズは大である。
Then, the second transistor group 60, the third transistor group 60
Since the gate layers 96 and 98 of the transistor set 62 of FIG. 3 are coupled to the polysilicon layer 92 for the input signal IN via the contacts 96a and 98a, respectively, the three transistor sets 58, 60 and 62 are all in the selected state. .. Therefore, the transistor size of the inverter is determined by the three transistor groups 58, 60, 62, and the transistor size is large.

【0037】次に、図5(A)では、スイッチ60c,
62cが電源VCC側に切り換えられ、且つ、スイッチ6
0d,62dが接地側に切り換えられているので、第1
のトランジスタ組58のみが選択状態である。従って、
インバータのトランジスタサイズは、第1のトランジス
タ組58により定められ、トランジスタサイズは小であ
る。
Next, in FIG. 5A, the switches 60c,
62c is switched to the power supply V CC side, and the switch 6
Since 0d and 62d are switched to the ground side, the first
Only the transistor group 58 of is selected. Therefore,
The transistor size of the inverter is determined by the first transistor set 58, and the transistor size is small.

【0038】上記図5(A)の回路は、図5(B)の配
線構造で達成される。図5(B)において、入力信号I
N用のポリシリコン層92には、第1のトランジスタ組
58用のポリシリコンゲート層94が直交状態にて配置
され、ゲート層94は、ポリシリコン層92に結合され
ている。なお、第2のトランジスタ組60用のポリシリ
コンゲート層96−1,96−2、及び、第3のトラン
ジスタ組62用のポリシリコンゲート層98−1,98
−2は、前記ポリシリコンゲート層94に平行に配置さ
れている。符号100,102は、それぞれ、Pチャネ
ル用領域(拡散層)、Nチャネル用領域(拡散層)を示
し、P型領域100には、電源VCC用のアルミニウム層
104がコンタクト104a,104bで結合され、ま
た、N型領域102には、接地側VSS用のウルミニウム
層106がコンタクト106a,106bで結合されて
いる。符号108は、出力側OUT用のアルミニウム層
を示し、該アルミニウム層108は、コンタクト108
a,108bでP型領域100に結合されるとともに、
コンタクト108c,108dでN型領域102に結合
されている。また、前記ゲート層96−1,98−1
は、コンタクト96−1a,98−1aでアルミニウム
層104に結合され、前記ゲート層96−2,98−2
は、コンタクト96−2a,98−2aでアルミニウム
層106に結合されている。なお、符号110は、N−
well境界を示す。
The circuit shown in FIG. 5A is achieved by the wiring structure shown in FIG. 5B. In FIG. 5B, the input signal I
A polysilicon gate layer 94 for the first transistor set 58 is arranged in an orthogonal state on the N polysilicon layer 92, and the gate layer 94 is coupled to the polysilicon layer 92. The polysilicon gate layers 96-1 and 96-2 for the second transistor set 60 and the polysilicon gate layers 98-1 and 98 for the third transistor set 62 are provided.
-2 is arranged parallel to the polysilicon gate layer 94. Reference numerals 100 and 102 denote a P-channel region (diffusion layer) and an N-channel region (diffusion layer), respectively. In the P-type region 100, an aluminum layer 104 for a power supply V CC is coupled by contacts 104a and 104b. Further, the N-type region 102 has a ground-side V SS luminium layer 106 coupled thereto by contacts 106a and 106b. Reference numeral 108 indicates an aluminum layer for the output side OUT, and the aluminum layer 108 is the contact 108.
a and 108b are bonded to the P-type region 100,
The contacts 108c and 108d are coupled to the N-type region 102. In addition, the gate layers 96-1 and 98-1
Are coupled to the aluminum layer 104 at contacts 96-1a and 98-1a, and are connected to the gate layers 96-2 and 98-2.
Are coupled to aluminum layer 106 at contacts 96-2a and 98-2a. Incidentally, reference numeral 110 is N-
Indicates a well boundary.

【0039】以上の構成において、ゲート層94に沿っ
て、第1のトランジスタ組58のトランジスタ58a,
58bが形成される。また、ゲート層96−1,96−
2に沿って、第2のトランジスタ組60のトランジスタ
60a,60bが形成され、同様にして、ゲート層98
−1,98−2に沿って、第3のトランジスタ組62の
トランジスタ62a,62bが形成される。
In the above structure, along the gate layer 94, the transistors 58a of the first transistor set 58,
58b is formed. Further, the gate layers 96-1, 96-
2, transistors 60a and 60b of the second transistor set 60 are formed, and the gate layer 98 is formed in the same manner.
Transistors 62a and 62b of the third transistor set 62 are formed along −1 and 98-2.

【0040】そして、第2のトランジスタ組60のトラ
ンジスタ60a,60bのゲート層96−1,96−2
は、それぞれ、コンタクト96−1a,96−2aを介
して、アルミニウム層104,106に結合され、同様
にして、第3のトランジスタ組62のトランジスタ62
a,62bのゲート層98−1,98−2は、それぞれ
コンタクト98−1a,98−2aを介して、アルミニ
ウム層104,106に結合される。従って、第2のト
ランジスタ組60及び第3のトランジスタ組62は非選
択状態であり、第1のトランジスタ組58のみが選択状
態である。それゆえ、インバータのトランジスタサイズ
は、第1のトランジスタ組58により定められ、トラン
ジスタサイズは小である。
The gate layers 96-1 and 96-2 of the transistors 60a and 60b of the second transistor group 60 are then included.
Are coupled to the aluminum layers 104 and 106 via contacts 96-1a and 96-2a, respectively, and similarly transistor 62 of the third transistor set 62.
The gate layers 98-1 and 98-2 of a and 62b are coupled to the aluminum layers 104 and 106 via contacts 98-1a and 98-2a, respectively. Therefore, the second transistor set 60 and the third transistor set 62 are in the non-selected state, and only the first transistor set 58 is in the selected state. Therefore, the transistor size of the inverter is defined by the first transistor set 58 and the transistor size is small.

【0041】上記図4(B)の配線構造と図5(B)の
配線構造とを比較すると、ポリシリコンゲート層92及
びゲート層94,96,98用のマスク、並びに、ゲー
ト層96,98のためのコンタクト用のマスクの計2枚
のマスクを切り換えることにより、インバータのトラン
ジスタサイズを変えることができることが理解される。
Comparing the wiring structure of FIG. 4 (B) with the wiring structure of FIG. 5 (B), the polysilicon gate layer 92 and the masks for the gate layers 94, 96, 98, and the gate layers 96, 98 are compared. It is understood that the transistor size of the inverter can be changed by switching a total of two masks for contact for.

【0042】次に、図6には、インバータのトランジス
タサイズをマスクオプションで切り換える第3の構成が
示され、図6の配線構造は、前述した図2の回路に対応
する。
Next, FIG. 6 shows a third configuration in which the transistor size of the inverter is switched by a mask option, and the wiring structure of FIG. 6 corresponds to the circuit of FIG. 2 described above.

【0043】図6において、入力信号IN用のポリシリ
コン層112の一部分112a,112bと平行に、第
1のトランジスタ組58用のポリシリコンゲート層11
4−1,114−2、第2のトランジスタ組60用のポ
リシリコンゲート層116−1,116−2、第3のト
ランジスタ組62用のポリシリコンゲート層118−
1,118−2が配置されている。符号120,122
は、それぞれ、Pチャネル用領域(拡散層)、Nチャネ
ル用領域(拡散層)を示し、P型領域120には、電源
CC用のアルミニウム層124がコンタクト124a,
124bで結合され、また、N型領域122には、接地
側VSS用のアルミニウム層126がコンタクト126
a,126bで結合されている。符号128は、出力側
OUT用のアルミニウム層を示し、該アルミニウム層1
28は、コンタクト128a,128bでP型領域12
0に結合されるとともに、コンタクト128c,128
dでN型領域122に結合されている。なお、符号13
0は、N−well境界を示す。
In FIG. 6, the polysilicon gate layer 11 for the first transistor set 58 is provided in parallel with the portions 112a and 112b of the polysilicon layer 112 for the input signal IN.
4-1 and 114-2, polysilicon gate layers 116-1 and 116-2 for the second transistor set 60, and polysilicon gate layers 118- for the third transistor set 62.
1, 118-2 are arranged. Reference numerals 120 and 122
Indicate a P-channel region (diffusion layer) and an N-channel region (diffusion layer), respectively. In the P-type region 120, an aluminum layer 124 for a power supply V CC is provided with contacts 124a,
And an N-type region 122 has an aluminum layer 126 for the ground side V SS in contact 126.
a and 126b are connected. Reference numeral 128 indicates an aluminum layer for the output side OUT, and the aluminum layer 1
Reference numeral 28 denotes contacts 128a and 128b, which are P-type regions 12
0 and coupled to contacts 128c, 128
It is coupled to the N-type region 122 at d. Note that reference numeral 13
0 indicates an N-well boundary.

【0044】以上の構成において、ゲート層114−
1,114−2に沿って、第1のトランジスタ組58の
トランジスタ58a,58bが形成され、同様にして、
ゲート層116−1,116−2に沿って、第2のトラ
ンジスタ組60のトランジスタ60a,60bが形成さ
れ、ゲート層118−1,118−2に沿って、第3の
トランジスタ組62のトランジスタ62a,62bが形
成される。
In the above structure, the gate layer 114-
1, 114-2, transistors 58a and 58b of the first transistor group 58 are formed, and similarly,
Transistors 60a and 60b of the second transistor set 60 are formed along the gate layers 116-1 and 116-2, and transistors 62a of the third transistor set 62 are formed along the gate layers 118-1 and 118-2. , 62b are formed.

【0045】そして、第2のトランジスタ組60のゲー
ト層116−1及び第3のトランジスタ組62のゲート
層118−1をそれぞれコンタクト116−1a,11
8−1aで入力信号IN用のポリシリコン層112に結
合し、且つ、第2のトランジスタ組60のゲート層11
6−2及び第3のトランジスタ組62のゲート層118
−2をそれぞれコンタクト116−2a,118−2a
で入力信号IN用のポリシリコン層112に結合した場
合には、3つのトランジスタ組58,60,62は全て
選択状態である。従って、インバータのトランジスタサ
イズは、3つのトランジスタ組58,60,62により
定められ、トランジスタサイズは大である。
The gate layer 116-1 of the second transistor set 60 and the gate layer 118-1 of the third transistor set 62 are connected to the contacts 116-1a and 11-1, respectively.
8-1a is coupled to the polysilicon layer 112 for the input signal IN, and is also the gate layer 11 of the second transistor set 60.
6-2 and the gate layer 118 of the third transistor set 62
-2 are contacts 116-2a and 118-2a, respectively.
When coupled to the polysilicon layer 112 for the input signal IN at, all three transistor groups 58, 60 and 62 are in the selected state. Therefore, the transistor size of the inverter is determined by the three transistor groups 58, 60, 62, and the transistor size is large.

【0046】一方、第2のトランジスタ組60のゲート
層116−1及び第3のトランジスタ組62のゲート層
118−1をそれぞれコンタクト116−1b,118
−1bでアルミニウム層124に結合し、且つ、第2の
トランジスタ組60のゲート層116−2及び第3のト
ランジスタ組62のゲート層118−2をそれぞれコン
タクト116−2b,118−2bでアルミニウム層1
26に結合した場合には、第2のトランジスタ組60及
び第3のトランジスタ組62は非選択状態であり、第1
のトランジスタ組58のみが選択状態である。従って、
インバータのサイズは、第1のトランジスタ組58によ
り定められ、トランジスタのサイズは小である。
On the other hand, the gate layer 116-1 of the second transistor set 60 and the gate layer 118-1 of the third transistor set 62 are connected to the contacts 116-1b and 118, respectively.
−1b to the aluminum layer 124, and the gate layer 116-2 of the second transistor set 60 and the gate layer 118-2 of the third transistor set 62 are connected to the aluminum layer 124 at the contacts 116-2b and 118-2b, respectively. 1
26, the second transistor set 60 and the third transistor set 62 are in the non-selected state, and
Only the transistor group 58 of is selected. Therefore,
The size of the inverter is defined by the first transistor set 58, and the size of the transistors is small.

【0047】上記図6の配線構造では、第2のトランジ
スタ組60のゲート層116−1,116−2及び第3
のトランジスタ組62のゲート層118−1,118−
2のコンタクトの位置を変えることにより、すなわち、
ゲート層116−1,116−2,118−1,118
−2のためのコンタクト用のマスクを切り換えることに
より(コンタクト用の1枚のマスクを切り換えることに
より)、インバータのトランジスタサイズを変えること
ができる。
In the wiring structure shown in FIG. 6, the gate layers 116-1 and 116-2 of the second transistor group 60 and the third transistor group 60 are formed.
Layers 118-1 and 118- of the transistor set 62 of
By changing the position of the two contacts, ie,
Gate layers 116-1, 116-2, 118-1, 118
The transistor size of the inverter can be changed by switching the contact mask for -2 (by switching one mask for contact).

【0048】次に、図7には、インバータのトランジス
タサイズをROMデータで切り換える構成が示されてい
る。図7(A)には、インバータの回路図が示され、イ
ンバータは、第1のトランジスタ組132及び第2のト
ランジスタ組134を含む。第1のトランジスタ組13
2は、P型トランジスタ132a及びN型トランジスタ
132bを含み、同様にして、第2のトランジスタ組1
34は、P型トランジスタ134a及びN型トランジス
タ134bを含む。第1のトランジスタ組132のトラ
ンジスタ132a,132bの結合部132c及び第2
のトランジスタ組134のトランジスタ134a,13
4bの結合部134cは、出力側OUTに結合されてい
る。
Next, FIG. 7 shows a configuration in which the transistor size of the inverter is switched by ROM data. A circuit diagram of an inverter is shown in FIG. 7A, and the inverter includes a first transistor set 132 and a second transistor set 134. First transistor set 13
2 includes a P-type transistor 132a and an N-type transistor 132b, and similarly, the second transistor set 1
34 includes a P-type transistor 134a and an N-type transistor 134b. A second connecting portion 132c of the transistors 132a and 132b of the first transistor set 132;
134a, 13 of the transistor set 134 of
The coupling portion 134c of 4b is coupled to the output OUT.

【0049】符号136は、第1のトランジスタ組13
4のための制御回路を示し、該制御回路136は、4つ
のN型トランジスタ138a,138b,140a,1
40bと、2つのインバータ142,144と、を含
む。なお、符号INは、第1のトランジスタ組132、
第2のトランジスタ組134への入力信号を示し、符号
CONTは、制御回路136への制御信号を示す。
Reference numeral 136 indicates the first transistor group 13
4 shows four control circuits for four N-type transistors 138a, 138b, 140a, 1
40b and two inverters 142 and 144 are included. Note that the symbol IN represents the first transistor set 132,
An input signal to the second transistor set 134 is shown, and a symbol CONT is a control signal to the control circuit 136.

【0050】上記の構成において、制御信号CONTが
“H”レベルの場合には、トランジスタ138a,14
0aがオフ状態であり、トランジスタ138b,140
bがオン状態であるので、入力信号INは、トランジス
タ138b,140bを介して、第1のトランジスタ組
132のトランジスタ132a,132bのゲートに供
給される。従って、この場合には、第1のトランジスタ
組132は選択状態である。
In the above structure, when the control signal CONT is at "H" level, the transistors 138a and 138a.
0a is off, and transistors 138b and 140
Since b is in the ON state, the input signal IN is supplied to the gates of the transistors 132a and 132b of the first transistor set 132 via the transistors 138b and 140b. Therefore, in this case, the first transistor set 132 is in the selected state.

【0051】一方、制御信号CONTが“L”レベルの
場合には、トランジスタ138a,140aがオン状態
であり、トランジスタ138b,140bがオフ状態で
あるので、電源VCCは、トランジスタ138aを介し
て、第1のトランジスタ組132のトランジスタ132
aのゲートに供給され、且つ、接地側は、トランジスタ
140aを介して、第1のトランジスタ132のトラン
ジスタ132bのゲートに供給される。従って、この場
合には、第1のトランジスタ組132は、非選択状態で
ある。
On the other hand, when the control signal CONT is at "L" level, the transistors 138a and 140a are in the on state and the transistors 138b and 140b are in the off state, so that the power supply V CC passes through the transistor 138a. Transistor 132 of first transistor set 132
It is supplied to the gate of a, and the ground side is supplied to the gate of the transistor 132b of the first transistor 132 via the transistor 140a. Therefore, in this case, the first transistor set 132 is in the non-selected state.

【0052】以上のように、制御回路136への制御信
号CONTのレベルを切り換えることにより、第1のト
ランジスタ組132を選択状態あるいは非選択状態に切
り換えることができる。
As described above, by switching the level of the control signal CONT to the control circuit 136, the first transistor set 132 can be switched to the selected state or the non-selected state.

【0053】そして、第2のトランジスタ組134に
も、前記制御回路136と同様の第2の制御回路(図示
せず)が接続されており、第2の制御回路により、第2
のトランジスタ組134を選択状態あるいは非選択状態
に切り換えることができる。
A second control circuit (not shown) similar to the control circuit 136 is also connected to the second transistor set 134, and the second control circuit causes the second control circuit to operate as a second control circuit.
The transistor set 134 can be switched to the selected state or the non-selected state.

【0054】従って、図7(A)のインバータによれ
ば、制御回路136及び第2の制御回路により、第1の
トランジスタ組132及び第2のトランジスタ組134
を選択状態あるいは非選択状態に切り換え、インバータ
のトランジスタサイズを変えることができる。すなわ
ち、トランジスタ組132,134のうちいずれか一方
のみが選択状態の場合には、インバータのトランジスタ
サイズは小さく、これに対し、トランジスタ組132,
134の両者が選択状態の場合には、インバータのトラ
ンジスタサイズは大きい。
Therefore, according to the inverter of FIG. 7A, the first transistor set 132 and the second transistor set 134 are controlled by the control circuit 136 and the second control circuit.
Can be switched to a selected state or a non-selected state to change the transistor size of the inverter. That is, when only one of the transistor groups 132 and 134 is selected, the transistor size of the inverter is small, while
When both of the two are in the selected state, the transistor size of the inverter is large.

【0055】前記制御回路136への制御信号CONT
は、ROMデータの出力としてもよいし、あるいは、I
Cの外部端子から供給してもよい。そして、図7(B)
には、ROMデータの例が示されている。図7(B)に
おいて、トランジスタ146,148のうちいずれか一
方は、エンハンスメント型あるいはデプレッション型の
トランジスタであり、これにより、トランジスタ14
6,168の結合部150からの制御信号CONTは、
“H”レベルあるいは“L”レベルである。
A control signal CONT to the control circuit 136.
May be output as ROM data, or I
It may be supplied from the external terminal of C. And FIG. 7 (B)
Shows an example of ROM data. In FIG. 7B, one of the transistors 146 and 148 is an enhancement-type or depletion-type transistor.
The control signal CONT from the coupling unit 150 of 6,168 is
It is an "H" level or an "L" level.

【0056】以上説明してきた実施例では、発振回路内
のインバータに本発明を適用したが、本発明、インバー
タの代わりにNAND回路あるいはNOR回路を含む発
振回路にも適用可能である。すなわち、図8には、本発
明の他の実施例による半導体素子が示され、図8(A)
はNAND回路を示し、図8(B)は、NOR回路を示
す。なお、NAND回路あるいはNOR回路を使用する
場合には、消費電力を低減できるという利点がある。
In the embodiments described above, the present invention is applied to the inverter in the oscillation circuit, but the present invention can also be applied to an oscillation circuit including a NAND circuit or a NOR circuit instead of the inverter. That is, a semiconductor device according to another embodiment of the present invention is shown in FIG.
Shows a NAND circuit, and FIG. 8B shows a NOR circuit. When using a NAND circuit or a NOR circuit, there is an advantage that power consumption can be reduced.

【0057】まず、図8(A)において、NAND回路
は、第1のトランジスタ組152,152′、第2のト
ランジスタ組154,154′、第3のトランジスタ組
156,156′を含み、また、符号A1,A2は入力
信号を示し、符号Bは出力信号を示す。第1のトランジ
スタ組152は、P型トランジスタ152a、N型トラ
ンジスタ152b,152cを備え、第1のトランジス
タ組152′は、P型トランジスタ152′aを備え
る。また、第2のトランジスタ組154は、P型トラン
ジスタ154a、N型トランジスタ154b,154c
を備え、第2のトランジスタ組154′は、P型トラン
ジスタ154′aを備え該トランジスタ154a,15
4b,154c,154′aのゲートは、それぞれ、ス
イッチ158a,158b,158c,158′aによ
り、その入力が切り換えられるようになっている。同様
にして、第3のトランジスタ組156は、P型トランジ
スタ156a、N型トランジスタ156b,156cを
備え、第3のトランジスタ組156′は、P型トランジ
スタ組156′aを備え、該156a,156b,15
6c,156′aのゲートは、それぞれ、スイッチ16
0a,160b,160c,160′aにより、その入
力が切り換えられるようになっている。
First, in FIG. 8A, the NAND circuit includes a first transistor set 152, 152 ', a second transistor set 154, 154', and a third transistor set 156, 156 '. Reference symbols A1 and A2 indicate input signals, and reference symbol B indicates output signals. The first transistor set 152 includes a P-type transistor 152a and N-type transistors 152b and 152c, and the first transistor set 152 ′ includes a P-type transistor 152′a. The second transistor set 154 includes a P-type transistor 154a and N-type transistors 154b and 154c.
And the second set of transistors 154 'includes a P-type transistor 154'a.
The inputs of the gates of 4b, 154c and 154'a are switched by switches 158a, 158b, 158c and 158'a, respectively. Similarly, the third transistor set 156 includes a P-type transistor 156a and N-type transistors 156b and 156c, and the third transistor set 156 'includes a P-type transistor set 156'a. 15
The gates of 6c and 156'a are connected to the switch 16 respectively.
The input can be switched by 0a, 160b, 160c, 160'a.

【0058】上記の構成において、スイッチ158a,
158b,158c,158′a及びスイッチ160
a,160b,160c,160′aの切り換えによ
り、NAND回路のトランジスタサイズが変えられる。
In the above structure, the switches 158a,
158b, 158c, 158'a and switch 160
By switching a, 160b, 160c, 160'a, the transistor size of the NAND circuit can be changed.

【0059】すなわち、第2のトランジスタ組154,
154′及び第3のトランジスタ組156,156′の
両者が非選択状態である場合には、第1のトランジスタ
組152,152′のみが選択状態であり、NAND回
路のトランジスタサイズは、第1のトランジスタ組15
2,152′により定まり、トランジスタサイズは小さ
い。また、第2のトランジスタ組154,154′ある
いは第3のトランジスタ組156,156′のうちいず
れか一方のみ例えば第2のトランジスタ組154,15
4′が選択状態である場合には、第1のトランジスタ組
152,152′及び第2のトランジスタ組154,1
54′が選択状態であり、NAND回路のトランジスタ
サイズは、第1のトランジスタ組152,152′及び
第2のトランジスタ組154,154′により定まり、
トランジスタサイズは大きい。更に、第2のトランジス
タ組154,154′及び第3のトランジスタ組15
6,156′の両者が選択状態である場合には、3つの
トランジスタ組152,152′;154,154′;
156,156′が全て選択状態であり、NAND回路
のトランジスタサイズは、これら3つのトランジスタ組
152,152′;154,154′;156,15
6′により定まり、トランジスタサイズは最大である。
That is, the second transistor set 154,
When both 154 'and the third transistor set 156, 156' are in the non-selected state, only the first transistor set 152, 152 'is in the selected state, and the transistor size of the NAND circuit is the first. Transistor set 15
2,152 ', and the transistor size is small. Further, only one of the second transistor set 154, 154 'or the third transistor set 156, 156' is, for example, the second transistor set 154, 15 '.
When 4'is in the selected state, the first transistor set 152, 152 'and the second transistor set 154, 1
54 'is in the selected state, and the transistor size of the NAND circuit is determined by the first transistor set 152, 152' and the second transistor set 154, 154 '.
The transistor size is large. Further, the second transistor set 154, 154 'and the third transistor set 15
When both 6 and 156 'are in the selected state, three transistor sets 152, 152'; 154, 154 ';
156 and 156 'are all in the selected state, and the transistor size of the NAND circuit is set to these three transistor groups 152, 152'; 154, 154 '; 156, 15
6 ', which is the maximum transistor size.

【0060】次に、図8(B)において、NOR回路
は、第1のトランジスタ組162,162′、第2のト
ランジスタ組164,164′、第3のトランジスタ組
166,166′を含み、また、符号A1,A2は入力
信号を示し、符号Bは出力信号を示す。第1のトランジ
スタ組162は、P型トランジスタ162a,162
b、N型トランジスタ162cを備え、第1のトランジ
スタ組162′は、N型トランジスタ162′aを備え
る。また、第2のトランジスタ組164は、P型トラン
ジスタ164a,164b、N型トランジスタ164c
を備え、第2のトランジスタ組164′は、N型トラン
ジスタ164′aを備え、該トランジスタ164a,1
64b,164c,164′aのゲートは、それぞれ、
スイッチ168a,168b,168c,168′aに
より、その入力が切り換えられるようになっている。同
様にして、第3のトランジスタ組166は、P型トラン
ジスタ166a,166b、N型トランジスタ166c
を備え、第3のトランジスタ組166′は、N型トラン
ジスタ166′aを備え、該トランジスタ166a,1
66b,166c,166′aのゲートは、それぞれ、
スイッチ170a,170b,170c,170′aに
より、その入力が切り換えられるようになっている。
Next, in FIG. 8B, the NOR circuit includes a first transistor set 162, 162 ', a second transistor set 164, 164', and a third transistor set 166, 166 '. , Symbols A1 and A2 indicate input signals, and symbol B indicates output signals. The first transistor set 162 includes P-type transistors 162a and 162a.
b, an N-type transistor 162c, and the first transistor set 162 'includes an N-type transistor 162'a. The second transistor set 164 includes P-type transistors 164a and 164b and an N-type transistor 164c.
And the second set of transistors 164 'includes an N-type transistor 164'a, the transistors 164a, 1
The gates of 64b, 164c and 164'a are respectively
The inputs are switched by the switches 168a, 168b, 168c, 168'a. Similarly, the third transistor set 166 includes P-type transistors 166a and 166b and an N-type transistor 166c.
And a third transistor set 166 'includes an N-type transistor 166'a, the transistors 166a, 1
The gates of 66b, 166c and 166'a are respectively
The inputs are switched by the switches 170a, 170b, 170c, 170'a.

【0061】上記の構成において、スイッチ168a,
168b,168c,168′a及びスイッチ170
a,170b,170c,170′aの切り換えによ
り、NOR回路のトランジスタサイズが変えられる。
In the above structure, the switches 168a,
168b, 168c, 168'a and switch 170
The transistor size of the NOR circuit can be changed by switching a, 170b, 170c, 170'a.

【0062】すなわち、第2のトランジスタ組164,
164′及び第3のトランジスタ組166,168′の
両者が非選択状態である場合には、第1のトランジスタ
組162,162′のみが選択状態であり、NOR回路
のトランジスタサイズは、第1のトランジスタ組16
2,162′により定まり、トランジスタサイズは小さ
い。また、第2のトランジスタ組164,164′ある
いは第3のトランジスタ組166,166′のうちいず
れか一方のみ例えば第2のトランジスタ組164,16
4′が選択状態である場合には、第1のトランジスタ組
162,162′及び第2のトランジスタ組164,1
64′が選択状態であり、NOR回路のトランジスタサ
イズは、第1のトランジスタ組162,162′及び第
2のトランジスタ組164,164′により定まり、ト
ランジスタサイズは大きい。更に、第2のトランジスタ
組164,164′及び第3のトランジスタ組166,
166′の両者が選択状態である場合には、3つのトラ
ンジスタ組162,162′;164,164′;16
6,166′が全て選択状態であり、NOR回路のトラ
ンジスタサイズは、これら3つのトランジスタ組16
2,162′;164,164′;166,166′に
より定まり、トランジスタサイズは最大である。
That is, the second transistor set 164,
When both 164 'and the third transistor set 166, 168' are in the non-selected state, only the first transistor set 162, 162 'is in the selected state, and the transistor size of the NOR circuit is the first. Transistor group 16
2, 162 ', and the transistor size is small. Further, only one of the second transistor set 164, 164 'or the third transistor set 166, 166' is, for example, the second transistor set 164, 16 '.
When 4'is in the selected state, the first transistor set 162, 162 'and the second transistor set 164, 1
64 ′ is in the selected state, and the transistor size of the NOR circuit is determined by the first transistor set 162, 162 ′ and the second transistor set 164, 164 ′, and the transistor size is large. Further, the second transistor set 164, 164 'and the third transistor set 166,
If both 166 'are in the selected state, three transistor sets 162, 162'; 164, 164 '; 16
6, 166 'are all in the selected state, and the transistor size of the NOR circuit is set to these three transistor groups 16
2, 162 '; 164, 164'; 166, 166 ', and the transistor size is the maximum.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
インバータのサイズを変えることができるので、使用す
る発振周波数に応じて、最適なインバータのサイズを選
択することができる。
As described above, according to the present invention,
Since the size of the inverter can be changed, the optimum inverter size can be selected according to the oscillation frequency used.

【0064】また、異なる種類の複数のインバータを設
ける場合と比較して、半導体集積回路内の発振回路の面
積を小さくでき、余分な電力を消費することがなく、安
定した発振を得ることができる。
Further, as compared with the case where a plurality of different types of inverters are provided, the area of the oscillation circuit in the semiconductor integrated circuit can be reduced, and extra oscillation is not consumed, so that stable oscillation can be obtained. ..

【0065】なお、本発明は、半導体集積回路用発振回
路内のインバータに適用するだけでなく、NAND回路
あるいはNOR回路にも適用することができる。
The present invention can be applied not only to the inverter in the oscillation circuit for semiconductor integrated circuit, but also to the NAND circuit or the NOR circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理による発振回路を示し、(A)は
全体構成を示し、(B)はインバータの構成を示す。
FIG. 1 shows an oscillator circuit according to the principle of the present invention, (A) shows the overall configuration, and (B) shows the configuration of an inverter.

【図2】本発明の実施例による発振回路のインバータを
示す。
FIG. 2 shows an inverter of an oscillator circuit according to an embodiment of the present invention.

【図3】インバータのトランジスタサイズをマスクオプ
ションで切り換える第1構成を示し、(A)は回路図を
示し、(B)は配線構造を示す。
3A and 3B show a first configuration in which a transistor size of an inverter is switched by a mask option, FIG. 3A shows a circuit diagram, and FIG. 3B shows a wiring structure.

【図4】インバータのトランジスタサイズをマスクオプ
ションで切り換える第2構成(トランジスタサイズ大の
場合)を示し、(A)は回路図を示し、(B)は配線構
造を示す。
FIG. 4 shows a second configuration (when the transistor size is large) in which the transistor size of the inverter is switched by a mask option, (A) shows a circuit diagram, and (B) shows a wiring structure.

【図5】インバータのトランジスタサイズをマスクオプ
ションで切り換える第2構成(トランジスタサイズ小の
場合)を示し、(A)は回路図を示し、(B)は配線構
造を示す。
FIG. 5 shows a second configuration (when the transistor size is small) in which the transistor size of the inverter is switched by a mask option, (A) shows a circuit diagram, and (B) shows a wiring structure.

【図6】インバータのトランジスタサイズをマスクオプ
ションで切り換える第3構成を示す。
FIG. 6 shows a third configuration in which the transistor size of the inverter is switched by a mask option.

【図7】インバータのトランジスタサイズをROMデー
タで切り換える構成を示し、(A)は回路図を示し、
(B)はROMデータの例を示す。
FIG. 7 shows a configuration in which the transistor size of the inverter is switched by ROM data, (A) shows a circuit diagram,
(B) shows an example of ROM data.

【図8】本発明の他の実施例による半導体素子を示し、
(A)はNAND回路を示し、(B)はNOR回路を示
す。
FIG. 8 shows a semiconductor device according to another embodiment of the present invention,
(A) shows a NAND circuit, (B) shows a NOR circuit.

【図9】発振回路の構成を示し、(A)は全体構成を示
し、(B)はインバータの構成を示す。
9A and 9B show a configuration of an oscillation circuit, FIG. 9A shows an overall configuration, and FIG. 9B shows a configuration of an inverter.

【図10】発振回路の負性抵抗特性を示す。FIG. 10 shows a negative resistance characteristic of an oscillator circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

40…インバータ 58…第1のトランジスタ組 60…第2のトランジスタ組 62…第3のトランジスタ組 40 ... Inverter 58 ... First transistor set 60 ... Second transistor set 62 ... Third transistor set

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年6月19日[Submission date] June 19, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図10[Name of item to be corrected] Fig. 10

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図10】 [Figure 10]

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 増幅用インバータ(40)を含む半導体
集積回路用発振回路において、 前記増幅用インバータ(40)は、複数のトランジスタ
組(58,60,62)を備え、使用する発振周波数に
対応して、複数のトランジスタ組(58,60,62)
のうち1又は2以上の組が選択的に並列接続されること
によりトランジスタサイズを可変としたことを特徴とす
る半導体集積回路用発振回路。
1. An oscillation circuit for a semiconductor integrated circuit including an amplification inverter (40), wherein the amplification inverter (40) includes a plurality of transistor groups (58, 60, 62) and is adapted to an oscillation frequency to be used. Then, a plurality of transistor groups (58, 60, 62)
An oscillation circuit for a semiconductor integrated circuit, characterized in that one or two or more of them are selectively connected in parallel to make the transistor size variable.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路用発振回
路において、インバータ(40)の代わりに、NAND
回路もしくはNOR回路が設けられていることを特徴と
する半導体集積回路用発振回路。
2. The oscillation circuit for semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a NAND is used instead of the inverter (40).
An oscillation circuit for a semiconductor integrated circuit, comprising a circuit or a NOR circuit.
【請求項3】 請求項1記載の半導体集積回路用発振回
路において、前記インバータ(40)には水晶振動子
(48)が接続されていることを特徴とする半導体集積
回路用発振回路。
3. The oscillation circuit for a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a crystal oscillator (48) is connected to the inverter (40).
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