JPH05232384A - 干渉顕微鏡 - Google Patents

干渉顕微鏡

Info

Publication number
JPH05232384A
JPH05232384A JP4031062A JP3106292A JPH05232384A JP H05232384 A JPH05232384 A JP H05232384A JP 4031062 A JP4031062 A JP 4031062A JP 3106292 A JP3106292 A JP 3106292A JP H05232384 A JPH05232384 A JP H05232384A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
polarization
light source
microscope
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4031062A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichiro Tabata
誠一郎 田端
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP4031062A priority Critical patent/JPH05232384A/ja
Priority to US08/018,428 priority patent/US5420717A/en
Publication of JPH05232384A publication Critical patent/JPH05232384A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • G02B21/08Condensers
    • G02B21/14Condensers affording illumination for phase-contrast observation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/2441Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02015Interferometers characterised by the beam path configuration
    • G01B9/02024Measuring in transmission, i.e. light traverses the object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/04Measuring microscopes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/70Using polarization in the interferometer

Abstract

(57)【要約】 【目的】干渉像のコントラスト設定及び調整を容易且つ
スムーズに行える。 【構成】可干渉光を発する光源17と、この光のx偏波
とy偏波の位相差を変える偏波可変素子18とを有す
る。微分干渉顕微鏡では、光源からの光をウォラストン
プリズム2でx偏波とy偏波に分離し、試料5を通過さ
せてウォラストンプリズム7で合成する。位相差顕微鏡
では、試料5で分離する透過光と回折光を複合偏光板6
8で夫々x偏波とy偏波だけを透過させる。そして、夫
々偏光板8によりCCD9上に干渉像を結像させる。偏
波制御装置28で偏波可変素子18を制御して光の偏波
状態を変えて、像の明暗を変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光の干渉を利用して試
料の位相分布を観測する、微分干渉顕微鏡や位相差顕微
鏡から成る干渉顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】光の干渉を利用して試料の位相分布を観
察する顕微鏡として、位相差顕微鏡や微分干渉顕微鏡が
ある。従来の微分干渉顕微鏡の構成例を示すと、図24
の構成図で示すようになる。図中、光源1から発せられ
た光はウォラストンプリズム2に入射され、互いに直角
な方向に振動する2つの光束に分割される。これらの光
束は、コンデンサーレンズ3を通過してスライドガラス
4上の試料5を照射する。そして、試料5を透過して対
物レンズ6に入射し、対物レンズ6を通過した各光束は
再びウォラストンプリズム7に入射される。このウォラ
ストンプリズム7は、結晶の組み合わせがウォラストン
プリズム2とは逆になっているため、このプリズム7に
入射した2つの光束は再び重ね合わされる。そして、重
ね合わされた光束は、入射するこれら2つの光束の振動
方向に対して方位方向が45°傾いている偏光板8を透
過することにより、CCD9上で干渉する。この干渉像
は、試料の位相分布の微分を表している。従って、この
微分干渉顕微鏡によれば、透明な試料でもその様子を観
察することができる。
【0003】次に、位相差顕微鏡の構成図を示すと、図
25のようになる。光源1から射出された光は、その一
部がリング状の開口から成る輪体開口部11から射出さ
れ、この光はコンデンサーレンズ12で集光されてスラ
イドガラス4上の試料5に照射される。ここで、この光
は透過光と回折光とに分かれ、透過光はλ/4のリタデ
ーションを持つ位相膜13そして位相膜13が取り付け
られた透明基板14を透過する。又、回折光はこの透明
基板14全体を通過することになる。そして、これら透
過光と回折光はCCD9上で干渉する。ここで得られる
干渉像は、試料5のフーリエ変換像を表している。従っ
て、この位相差顕微鏡では、微分干渉顕微鏡と同様に透
明な試料でもその像を観察することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これら顕微
鏡において、最も見やすい明暗の像を生成するために幾
つかの工夫が成されている。例えば、微分干渉顕微鏡の
場合には、ウォラストンプリズム7が横移動できるよう
な機構を備えたものがある。即ち、ユーザーは像を見な
がら手動でねじを回してウォラストンプリズム7を移動
させることにより、干渉する2光の位相差を変化させる
ことができる。これによって最適なコントラスト像を設
定することができる。しかしながら、合波手段であるウ
ォラストンプリズム7を移動させると光軸も変化するた
め、コントラスト以外の結像関係にも影響を与えること
になる。これを抑制するためには、ウォラストンプリズ
ム7の移動軌跡の真直度の精度を高くする必要がある
が、これは極めて煩雑で困難であった。
【0005】又、位相差顕微鏡の場合には、位相膜13
をλ/4の位相差を持つように設定することで、コント
ラストが最良の像が生成されている。しかしながら、コ
ントラストは位相膜13の厚さで決定されるため、一度
決定されたらユーザーがコントラストを変えることはで
きない。そのため、ユーザー等が観察時や検査時等に干
渉像のコントラストを調整したいという場合があって
も、変化させることができないという欠点がある。
【0006】本発明は、このような課題に鑑みて、コン
トラストを容易且つスムーズに設定できて、しかも適宜
調整することができるようにした、微分干渉顕微鏡,位
相差顕微鏡から成る干渉顕微鏡を提供することを目的と
する。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による干渉顕微鏡
は、光源と、この光源からの光を常光と異常光とに分離
する分波手段と、常光と異常光とが試料から射出された
後で常光と異常光とを重ね合わせる合波手段と、偏光軸
が常光と異常光の偏波方向に対して所定の角度を以て配
置された偏光板と、偏光板を透過した光を検出する検出
手段とを備えた微分干渉顕微鏡において、光源から分光
手段までの光路上、又は合波手段から検出手段までの光
路上に、偏波状態を変化させる偏波状態可変手段を配置
したことを特徴とするものである。 又、光源は射出す
る光の波長を変化させる波長可変機能を有するか、又は
光源とは別個に波長可変手段を備えていると共に、常光
と異常光について異なる光路長を有する光路長差生成手
段が該光源から検出手段までの間に配置されていること
を特徴とするものである。
【0008】又、本発明による干渉顕微鏡は、試料を照
射する光源と、この試料から射出される透過光と回折光
とを観察面上に導いて干渉像を得る干渉像生成手段と、
該干渉像を検出する検出手段とを有する位相差顕微鏡に
おいて、光源から検出手段までの間に配置されていて光
の偏波状態を変化させる偏波状態可変手段と、透過光か
ら特定の偏波成分を摘出する第一の偏波摘出手段と、該
第一の偏波摘出手段が摘出する偏光方向と交差する偏光
成分を回折光から摘出する第二の偏波摘出手段とを備え
たことを特徴とするものである。又、試料を照射する光
源と、試料から射出される透過光と回折光とを観察面上
に導いて干渉像を得る干渉像生成手段とを有する位相差
顕微鏡において、光源は射出する光の波長を変化させる
波長可変機能を有するか、又は光源とは別個に波長可変
手段を備えていることを特徴とするものである。
【0009】
【作用】微分干渉顕微鏡においては、試料を透過した常
光と異常光が重ね合わされ、その干渉像は検出手段で検
出され、しかも光の偏波状態を変えることのできる素子
や波長可変手段等を作動することによって偏波状態や波
長を変化させ、結像関係に影響を与えることなくコント
ラスト設定及びその調整を行うことができる。又、位相
差顕微鏡においては、偏波状態可変手段又は波長可変手
段を作動させること等によって偏波光の位相差又は波長
を変化させ、容易にコントラストの設定及び調整を行う
ことができる。
【0010】
【実施例】以下、添付図面に基づいて本発明の各実施例
を説明する。図1及び図2は本発明の第一実施例を示す
ものであり、図1は微分干渉顕微鏡の構成図、図2は偏
光の各偏波状態を示す図である。又、図3乃至図6は第
一実施例に用いられる光源システムの構成例を示すもの
である。図1に示す微分干渉顕微鏡において、光源シス
テム16は射出する光の偏波状態を変化させることがで
きるようになっている。これらの偏波状態は振動する方
向が互いに直角である2つの直線偏波に分解して考える
ことができる。これら2つの直線偏波を夫々x偏波及び
y偏波と呼ぶことにすると、偏波状態の変化はx偏波と
y偏波の位相差の変化によって得られると考えることが
できる。例えば図2に示すように、位相差を90°づつ
変えることによって偏波状態を直線偏光や円偏光や楕円
偏光に変えることができるものである。そして、光源シ
ステム16はこのような偏波状態の変化を連続的又は離
散的に制御できるものである。
【0011】このような光源システム16の構成例を図
3により説明する。図中、光源システム16は、可干渉
光を発する光源17と偏波可変素子18とから成ってい
る。偏波可変素子18内には、光源からの可干渉光が入
射される回転制御可能な1/2波長板19と、その後方
に固定配置された1/4波長板20とが設けられてい
る。1/2波長板19はホルダー21に保持されてお
り、このホルダー21は歯車22に結合されている。歯
車22は噛合する小歯車23を介してモータ24に連結
されており、回転制御回路25で駆動制御されるモータ
24によって、1/2波長板19を回転制御させるよう
になっている。又、1/2波長板19の回転角はモータ
軸に連結された角度センサ26によって検出されるよう
になっている。
【0012】又、図1の走査型顕微鏡において、光源シ
ステム16(の回転制御回路25)に電気的に接続され
た偏波制御装置28によって、光源システム16から射
出される光の偏波状態を変えることができるようになっ
ている。次に、光源システム16の後方に位置する光学
系の構成は、図24における走査型顕微鏡のものと同様
である。即ち、x偏波とy偏波が分離するように角度調
整されたウォラストンプリズム2,コンデンサーレンズ
3,スライドガラス4に載置された試料5、対物レンズ
6,ウォラストンプリズム7,偏光板8,CCD9が配
設されている。尚、本実施例においてはウォラストンプ
リズム7は横移動しないように構成されている。偏光板
8はその偏光軸がx偏波とy偏波に対して所定の角度を
以て配置されている。所定の角度とはCCD9で得られ
る干渉像のコントラストが高くなる偏光軸方向を表して
おり、x偏波とy偏波が同じ光強度を持つならばその角
度はおよそ45°である。そして、CCD9で撮像され
た干渉像はフレームメモリー29に取り込まれ、フレー
ムメモリー29と偏波制御装置28に接続されているコ
ンピュータ30において、フレームメモリー29から入
力される干渉像に基づいて演算され、試料5の位相分布
の情報が得られるようになっている。
【0013】本実施例は上述のように構成させており、
次に作用を説明する。光源システム16において、光源
17から射出された可干渉光は偏波可変素子18内の1
/2波長板19を透過する(図3参照)が、その際光の
振動方向は回転制御される1/2波長板19の方位方向
に従って変化する。そして、1/4波長板20に入射す
ると、振動方向によって直線偏波になったり円偏波にな
ったりする。これは、上述のように互いに直角に振動す
るx偏波とy偏波との位相差が変化するためと考えるこ
とができる。ここで、1/2波長板19の回転速度をθ
とすると、1/4波長板20を射出したx偏波とy偏波
の位相差は4θで変化する。従って、角度センサ26で
1/2波長板19の角度を検出しながら、コンピュータ
30によって回転制御回路25を通して所定の角度まで
1/2波長板19を回転させる。
【0014】このようにして、光源システム16から所
要の偏波状態で射出された光は、従来の微分干渉計と同
様に、ウォラストンプリズム2に入射すると、互いに直
角な方向に振動するx偏波とy偏波に分離される。これ
らの光はコンデンサーレンズ3を通して試料5に入射し
て、試料5を透過した後対物レンズ6を介してウォラス
トンプリズム7で再び重ね合わされる。そして、偏光軸
がx偏波とy偏波に対して干渉像のコントラストが高く
なるような所定の角度を以て配置された偏光板8を介し
て、2つの偏波はCCD9上で干渉する。このCCD9
で撮像された干渉像を、ユーザーはモニター等で観察す
ることができる。次に、偏波制御装置28によって、光
源システム16から発する光の偏波状態を変えると、x
偏波とy偏波の位相差が変化して観察している試料5の
像の明暗か変化する。そのため、ユーザーは像が一番見
やすいコントラストになるように調整することができ
る。
【0015】又、本発明では、干渉する2光の位相差を
高精度で変化させることができるため、干渉計装置等で
用いられている縞走査法を干渉顕微鏡による観察に取り
入れることができる。この縞走査法を用いれば、試料5
の位相分布を定量的に知ることができる。例えば、半導
体メモリーのリソグラフィには位相シフトと呼ばれる手
法が用いられているが、ここで使用する位相膜の位相分
布はパターンの精度に大きな影響を与える。本発明によ
れば、この位相膜の位相分布を定量的に測定することが
可能になる。
【0016】次に、その具体的な測定方法を説明する。
まず、光源システム16から射出される光の偏波状態を
x偏波とy偏波とで特定の位相差に設定した状態の下
で、CCD9で得られた像をフレームメモリー29に取
り込み、この像を第一干渉像とする。次に、x偏波とy
偏波の位相差が第一干渉像の場合よりも90°だけ変化
するように、偏波制御装置28によって光源システム1
6から発せられる光の偏波状態を変えるようにする。こ
れにより、CCD9で得られる干渉像の明暗が変化す
る。この像をフレームメモリー29で取り込み、これを
第二干渉像とする。このようにして、x偏波とy偏波の
位相差を90°づつ変化させて、第三,第四干渉像を取
り込むようにする。
【0017】次に縞走査法のアルゴリズムを用いて、こ
れら4枚の干渉像から試料5の位相分布を計算する。C
CD9の受光平面をxy座標平面として、4パターンの
干渉強度分布In(x,y)は次式で表される。 I1(x,y,d)=A(x,y) +B(x,y) cos〔(2π/λ)ω(x,y) 〕 I2(x,y,d)=A(x,y) −B(x,y) sin〔(2π/λ)ω(x,y) 〕 I3(x,y,d)=A(x,y) −B(x,y) cos〔(2π/λ)ω(x,y) 〕 I4(x,y,d)=A(x,y) +B(x,y) sin〔(2π/λ)ω(x,y) 〕 (1) ここで、A(x,y) は平均光強度、B(x,y) は干渉強度、
λは波長、ω(x,y) は干渉光の位相差であり、微分干渉
顕微鏡の場合は試料5の位相分布を微分したものにな
る。
【0018】これらの画像に基づき、コンピュータ30
によって、 ω(x,y) =(λ/2π)tan-1〔(I4 −I2 )/(I1 −I3 )〕 (2) の計算をCCD9の1画素づつ行えば、位相分布ωの情
報だけを得ることができる。次に、x偏波とy偏波の分
離幅でωを積分すれば試料5の位相分布を求めることが
できる。尚、この例では、4パターンの画像を用いる場
合について示したが、これに限定されることなく少なく
とも3パターンの画像を用いれば位相分布の情報を得る
ことができる。
【0019】上述のように本実施例によれば、微分干渉
顕微鏡において、ウォラストンプリズム7を横移動させ
ず、偏波可変素子18によって結像関係に影響を与える
ことなくコントラスト設定を行うことができる。又、光
源システム16内に偏波制御手段を有しているから、光
源システム16に取り外し機能を設ければ、多種の微分
干渉顕微鏡にも適用させることが可能である。又、フレ
ームメモリー29やコンピュータ30を接続すること
で、試料の位相分布を定量的に測定することができる。
【0020】次に、光源システム16の別の構成例を図
4乃至図10によって説明する。図4に示す光源システ
ム16では、1/2波長板19等に代えてファラデー素
子32を配置し、その旋光性によって光源17から入射
する直線偏光の振動方向を変えるようにしたものであ
る。又、ファラデー素子32の周囲に配置された磁界発
生器33は磁界制御回路34に接続されており、磁界制
御回路34で磁界発生器33が生じる磁界の強さを調節
することで、偏波の振動方向を制御できるようになって
いる。
【0021】図5に示す光源システム16は、1/2波
長板19等に代えて旋光性液晶を一対配設したものであ
る。光源17側に位置する液晶36は偏波の振動方向を
90°変えることができるものであり、1/4波長板2
0側に位置する液晶37は振動方向を45°変えること
ができるものである。これらの液晶36,37は夫々両
側に設けられた透明電極38への通電をON,OFF制
御することで、入射する直線偏光の振動方向を0°,4
5°,90°,135°と変えることができる。
【0022】次に、図6に示す光源システム16は、偏
波可変素子18としてバビネソレイユ板39を使用した
ものであり、バビネソレイユ板39のくさび型結晶を光
軸に対して垂直に移動させることによって、x偏波とy
偏波の位相差を直接変えることができる。図6では、ピ
エゾ素子40によって一つのくさび型結晶39aの位置
移動を行うようになっており、ピエゾ素子40は電圧制
御回路41に接続されていて、この回路41によって駆
動されるようになっている。
【0023】図7に示す光源システム16は、偏波可変
素子18として電気光学効果を持つKDP等の結晶43
を用いて、複屈折率を変えることで位相差を変えるよう
にしたものである。結晶43は一対の電極44で挟ま
れ、電圧制御回路41で結晶43に印加する電界強度を
制御するようになっている。又、図8に示す光源システ
ム16は、偏波可変素子18としてネマティック液晶4
5を用いたものである。液晶45に印加する電界強度を
変化させることで、液晶の配光方向を代えて複屈折率を
変えるようにしている。
【0024】図9に示す光源システム16の偏波可変素
子18では、光軸上に偏光ビームスプリッター46を配
置し、光軸を挟んで偏光ビームスプリッター46の両側
に、1/4波長板47及びミラー48と、1/4波長板
47,ミラー48及びピエゾ素子40とが夫々配置され
ている。そのため、光源17から射出された光の内、P
波は偏光ビームスプリッター46を透過するが、S波は
反射される。そして、S波は1/4波長板47を通過し
てミラー48で反射され再び1/4波長板47を通過す
ることで、P波に変換される。このため、反射光は偏光
ビームスプリッター46を透過して同様に1/4波長板
47を通過してミラー48で反射され、再び1/4波長
板47を通過してS波となって偏光ビームスプリッター
46で反射されて射出することになる。一方のミラー4
8の裏面にはピエゾ素子40が固定接着されており、電
圧制御回路41によってミラー48を光軸方向に移動さ
せることができる。これによって、P波とS波との位相
差を変化させることができる。
【0025】図10に示す光源システム16は、光源と
してゼーマンレーザ50を用いて位相差を変化させるよ
うにしたものである。ゼーマンレーザ50は、周波数が
異なり且つ互いに直角に振動する直線偏光を発する。つ
まり、この偏光は時間と共に位相差が変化しているx偏
波とy偏波として射出されており、ゼーマンレーザ50
に内蔵されている発振器からタイミングパルスを生成し
てこのパルスを基に画像取り込みを行うようになってい
る。上述した各構成例により、本実施例では、干渉する
2光の共通光路上に位相差を変える光学素子が設置され
ているから、温度変化や振動等の外乱の影響を受けにく
いという利点を有する。
【0026】次に、本発明の第二実施例を図11により
説明する。本実施例は落射型の微分干渉顕微鏡に関する
ものである。第一実施例と同様の構成を有する光源シス
テム16から射出された光は、ハーフミラー52で一部
反射されてウォラストンプリズム2に入射し、ここでx
偏波とy偏波に分離されてコンデンサーレンズ3を介し
て試料5に照射される。試料5から反射した光は再びウ
ォラストンプリズム2に入射して重ね合わされ、ハーフ
ミラー52を透過した後偏光板8を介してCCD9上で
干渉することになる。その後の作用は第一実施例と同様
であり、偏波制御装置28によって光源システム16か
らの光の偏波状態を変えることができ、これによって干
渉像の明暗を調整することができる。又、異なったパタ
ーンの干渉像から、コンピュータ30で表面形状を測定
することもできる。本実施例の構造では、ウォラストン
プリズム2は分波手段と合波手段に兼用されるため、光
学素子の数を削減できる利点がある。
【0027】又、図12は本発明の第三実施例を示すも
のである。本実施例では、図3乃至図9に示す光源シス
テム16の一部である偏波可変素子18は、ウォラスト
ンプリズム7と偏光板8の間に設置されている。この構
成では、光源17から発せられた可干渉光はウォラスト
ンプリズム2で等分に分割されるが、これらのx偏波と
y偏波は試料5を透過した後にウォラストンプリズム7
で重ね合わされ、偏波可変素子18によってx偏波とy
偏波の位相差が変えられる。そして、CCD9で最適な
干渉像が得られる。又、第一実施例と同様な計算を行う
ことで試料5の位相分布を求めることもできる。
【0028】次に、本発明の第四実施例を図13によっ
て説明する。本実施例では、ウォラストンプリズム2の
前方に光源17が配設されている。又、偏光板8を回転
可能に配置すると共に、偏光板8とウォラストンプリズ
ム7との間に1/4波長板20が配設されている。偏光
板8の回転手段は第一実施例の1/2波長板19の回転
手段と同様であり、偏光板8を保持するホルダー21に
対して歯車22,23及びモーター24が連結され、回
転制御回路25及び角度センサ26が接続されている。
1/4波長板20に入射するx偏波とy偏波は、この波
長板20によって互いに逆回転する円偏波に変換され、
これら光の位相差は偏光板8の偏光軸によって変化する
ことになる。具体的には、偏光軸が45°変化すると位
相差は90°変化する。よって、位相分布測定の場合に
は、偏光板8をある角度に対して0°,45°,90
°,135°と回転させると、位相差が90°づつ異な
るパターンの干渉像を得ることができる。
【0029】本実施例は、図3に示された偏波可変素子
18を用いる第一実施例と比較して、光学素子の数が少
なくて済み、そのために偏光軸調整の工程が簡単になる
という利点を有する。
【0030】図14は本発明の第五実施例を示すもので
ある。本実施例においては、光源システム16に代え
て、射出する偏光の波長を変化させることができる波長
可変光源54と、この光源54から射出された偏光に関
して、互いに直角な振動方向を持つ偏波について異なる
光路長を持つ光路長差生成部55とが備えられている。
この互いに直角な偏波をx偏波とy偏波とする。又、波
長可変光源54は波長制御装置56に接続されていて、
この波長制御装置56によって波長可変光源54からの
偏光の波長を変化させ得るようになっている。
【0031】ここで、図15により光路長差生成部55
の構成例を説明する。図15において、光軸上に偏光ビ
ームスプリッター57を配置し、光軸を挟んで偏光ビー
ムスプリッター57の両側に、夫々1/4波長板58及
びミラー59が配置されている。そのため、波長可変光
源54から射出された光の内、P波は偏光ビームスプリ
ッター57を透過するが、S波は反射される。そして、
S波は1/4波長板58を通過してミラー59で反射さ
れ再び1/4波長板58を通過することで、P波に変換
される。このため、偏光ビームスプリッター57を透過
して同様に1/4波長板58を通過してミラー59で反
射され、再び1/4波長板58を通過してS波となって
偏光ビームスプリッター57で反射されて射出すること
になる。このようにして、光路長差生成部55でP波と
S波との間に偏光ビームスプリッター57の2往復分の
光路長差が生じることになる。このP波とS波をx偏波
とy偏波として使用する。そして、光路長差生成部55
を伝播した偏光は、x偏波とy偏波の位相に変化が与え
られており、これらの光は上述した各実施例と同様にウ
ォラストンプリズム2に入射するようになっている。
【0032】本実施例において、波長制御装置56によ
って波長可変光源54から射出される偏光の波長を変化
させると、光路長差生成部55で生じる位相差も変化す
る。この位相差の変化量Δθは、 Δθ=2πΔλ・d/λ2 (3) で表される。ここで、Δλは波長シフト量、dは光路長
差である。よって、位相差の変化量Δθを2πにするた
めには、次式の波長シフト量Δλだけ波長を変えてやれ
ばよい。 Δλ=λ2 /d (4) 従って、x偏波とy偏波との位相差が90°づつ変化す
るように波長を線形的又はステップ状に変えることによ
って、明暗の異なる干渉像を得ることができる。位相分
布の測定の場合の処理方法は上述の実施例と同様であ
る。
【0033】尚、式(4)から理解できるように、光路
長差生成部55で生じる光路長差dが大きければ大きい
ほど、少ない波長シフト量Δλで大きく明暗を変えるこ
とができる。波長シフト量Δλが大きいと、色分散の影
響により誤差や位相の変化量Δθが非線形になり、位相
分布測定では大きな誤差が生じる。光路長差生成部55
はこの問題を解決するために使用するものであり、この
ような問題が生じない場合には、光路長差生成部55は
取り除いてもよい。尚、波長可変光源54としては、半
導体レーザや色素レーザやFセンターレーザを使用する
ことができる。又、白色光源と可変波長フィルタを組み
合わせる方法を採用してもよい。特に半導体レーザは、
注入電流の増減によって波長を容易に変えることができ
る。
【0034】上述のように本実施例は、機械的可動部が
存在しないために可動部の駆動による振動等を発生させ
ることもなく、安定的に優れているという利点を有す
る。尚、上述の実施例では光源を波長可変光源54とし
て、光源が波長可変機能を有するものとしたが、これに
代えて光源を白色光源とすると共に、その前方にフィル
ター等の波長可変手段を配設して、波長を変化させるよ
うに構成してもよい。
【0035】次に、光路長差生成部55の他の構成例に
ついて、図16乃至図18により説明する。図16に示
す光路長差生成部55は、複屈折素子を61を用いたも
のであり、この複屈折素子61の方位軸をx軸とy軸と
すると、波長可変光源54で射出された直線偏波の振動
方向を45°傾けて入射させると、複屈折素子61を伝
播することによってx偏波とy偏波との間に光路長差を
設定することができる。複屈折素子61としては、水晶
や方解石やルチルを用いることができる。図17に示す
光路長差生成部55は、2つの偏光プリズム62,63
から構成されている。これら偏光プリズム62,63の
結晶軸は、図中矢印で示すように光軸に対して互いに反
対方向に45°傾いており、互いの結晶軸は90°異な
る方向に向いている。よって、紙面に対して垂直な偏光
成分は常光、平行な偏光成分は異常光となって、第一の
偏光プリズム62で一方の光軸が横ずれする。そして、
第二の偏光プリズム63によってその光軸は再び他方の
光軸に一致する。この2つの偏光プリズム62,63に
よって、常光と異常光との間に光路長差が付与される。
【0036】図18に示す他の光路長差生成部55は、
偏波面保存光ファイバ64によって構成されている。偏
波面保存光ファイバ64は一般に複屈折性を持ってお
り、図16の構成例と同等であると考えてよい。しかし
ながら、本構成例においては、偏波面保存光ファイバ6
4は光伝達手段としても機能するため、光源54と試料
5との間の距離を遠くに離して設定したい場合には有効
である。
【0037】次に、本発明の第六実施例を図19に基づ
いて説明する。本実施例は本発明を第二実施例と同様な
落射型微分干渉顕微鏡に応用した例である。本実施例で
は、光路長差生成部55がハーフミラー52とウォラス
トンプリズム2との間に配置されている。本実施例で
は、波長可変光源54からの光はハーフミラー52で反
射されて光路長差生成部55を透過し、x偏波とy偏波
との間に光路長差が生じる。これら偏波はウォラストン
プリズム2に入射して、x偏波とy偏波に光軸分離して
試料5を照射する。そして、その反射光は再びウォラス
トンプリズム2に入射して重ね合わされ、光路長差生成
部55を再度透過する。本実施例の場合、干渉する2つ
の光が光路長差生成部55を2度通過するために光路長
差が2倍になる。そのため、その分波長シフト量は少な
い値で済むという利点がある。尚、光路長差生成部55
は光源54から偏光板8に至る光路のいづれの位置に配
設してもよいが、光路長差を2倍にするためには、試料
5とハーフミラー52の間に配設する必要がある。
【0038】次に、本発明を位相差顕微鏡に適用した実
施例について説明する。図20は本発明の第七実施例を
示す位相差顕微鏡の構成図であり、光源として第一実施
例と同様に光源システム16が設けられている。その後
方には、図25に示す従来例と同様に輪体開口部11,
コンデンサーレンズ12が設けられており、光が試料5
に照射されることで、透過光と回折光とに分かれるよう
になっている。その後方には、偏光軸が互いに直角方向
に異なる2枚の偏光板66,67から成る例えば円形の
複合偏光板68が配設されており、一方の偏光板66は
ドーナツ型に、他方の偏光板67はその前後領域を占め
るリング及び円形状に構成されている(図21(A)参
照)。ドーナツ型偏光板66の偏光軸をx軸とし、他方
の偏光板67の偏光軸をx軸に直交するy軸として、試
料5の透過光はドーナツ型偏光板66に入射し、回折光
は他方の偏光板67に入射するように構成する。そのた
め、試料5の透過光はx偏波だけが偏光板66を透過
し、回折光はy偏波だけが偏光板67を透過することに
なる。複合偏光板68とCCD9との間に位置する偏光
板8は、複合偏光板68のx軸とy軸に対して45°だ
け傾いた偏光軸を有している(図21(B)参照)。そ
のため、透過光と回折光はCCD9で干渉する。
【0039】CCD9上で最適な像を設定するために
は、第一実施例と同様に偏波制御装置28によって光源
システム16から発せられる光の偏波を変えればよい。
又、位相分布測定の場合には、明暗の異なった複数枚の
干渉像をメモリフレーム29に取り込み、そして上述の
式(2)の計算をコンピュータ30によって行う。位相
差顕微鏡の場合、ここで得られる結果は試料5の位相分
布をフーリエ変換したものであり、よって、逆フーリエ
変換することによって試料5の位相分布を定量的に求め
ることができる。
【0040】尚、本実施例では、複合偏光板68を構成
する2枚の偏光板66,67の偏光軸が互いに直交する
場合について示したが、偏波状態の変化のしかたによっ
ては必ずしも直交している必要はない。又、透過光と回
折光の強度差の値によっては後方の偏光板8も45°で
ある必要はない。又、光源システム16は図3乃至図1
0に示された構成のものを使用することができる。これ
らの光源システム16の内、偏波可変素子18は光源1
7とは分離して光源17から偏光板8に至る光路のいづ
れの位置に挿入配置するようにしてもよい。或いは、偏
波可変素子18として、上述した第四実施例のように、
偏光板8を回転可能として偏光板8と複合偏光板68と
の間に1/4波長板20を挿入配置してもよい。
【0041】又、図22は本発明の第八実施例である位
相差顕微鏡の構成図を示すものである。本実施例では、
第五実施例と同様に波長可変光源54と光路長差生成部
55が配設されている。波長可変光源54を発した偏光
は光路長差生成部55を透過して試料5で透過光と回折
光とに分離させられる。そして、複合偏光板68を通過
することでx偏波とy偏波に成り、偏光板8によってC
CD9上で干渉する。本実施例において、光路長差生成
部55はx偏波とy偏波とに光路長差を設けるものであ
り、波長可変光源54から発せられる光の波長を変える
と、x偏波とy偏波との位相差が変化して明暗が変化す
ることになる。本実施例においても、光路長差生成部5
5は光源54から偏光板8までの光路上のどの位置に挿
入配置してもよい。
【0042】又、光路長差生成部55は、x偏波とy偏
波との光路長差を増大させるためのものである。従っ
て、従来の位相差顕微鏡に用いられる位相膜69の厚さ
を十分厚くすることによってx偏波とy偏波との光路長
差を設定するようにしてもよく、これを第九実施例とし
て図23に示す。勿論、この場合は光路長差生成部55
は必要ない。
【0043】
【発明の効果】上述のように、本発明に係る干渉顕微鏡
は、微分干渉顕微鏡においては結像関係に影響を与える
ことなく容易且つスムーズにコントラスト設定及び調整
を行うことができ、又位相差顕微鏡においてもユーザー
等が容易にコントラスト設定及び調整を行うことができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例である微分干渉顕微鏡の構
成図である。
【図2】x偏波とy偏波の位相差が90°づつ異なる場
合の偏波状態を示す図である。
【図3】第一実施例による光源システムの構成の一例を
示す図である。
【図4】他の光源システムの構成を示す図である。
【図5】他の光源システムの構成を示す図である。
【図6】他の光源システムの構成を示す図である。
【図7】他の光源システムの構成を示す図である。
【図8】他の光源システムの構成を示す図である。
【図9】他の光源システムの構成を示す図である。
【図10】他の光源システムの構成を示す図である。
【図11】本発明の第二実施例である微分干渉顕微鏡の
構成図である。
【図12】本発明の第三実施例である微分干渉顕微鏡の
構成図である。
【図13】本発明の第四実施例である微分干渉顕微鏡の
構成図である。
【図14】本発明の第五実施例である微分干渉顕微鏡の
構成図である。
【図15】第五実施例の波長可変光源と光路長差生成部
との構成例を示す図である。
【図16】波長可変光源と他の光路長差生成部との構成
を示す図である。
【図17】波長可変光源と他の光路長差生成部との構成
を示す図である。
【図18】波長可変光源と他の光路長差生成部との構成
を示す図である。
【図19】本発明の第六実施例である微分干渉顕微鏡の
構成図である。
【図20】本発明の第七実施例である位相差顕微鏡の構
成図である。
【図21】(A)は複合偏光板の構成を示す平面図、
(B)は偏光板の平面図である。
【図22】本発明の第八実施例である位相差顕微鏡の構
成図である。
【図23】本発明の第九実施例である位相差顕微鏡の構
成図である。
【図24】従来の微分干渉顕微鏡の構成図である。
【図25】従来の位相差顕微鏡の構成図である。
【符号の説明】
5……試料、8……偏光板、9……CCD、17……光
源、18……偏波可変素子、20……1/4波長板、2
8……偏波制御装置、54……波長可変光源、55……
光路長差生成部、68……複合偏光板、69……位相
膜。
【手続補正書】
【提出日】平成4年7月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】又、図1の微分干渉顕微鏡において、光源
システム16(の回転制御回路25)に電気的に接続さ
れた偏波制御装置28によって、光源システム16から
射出される光の偏波状態を変えることができるようにな
っている。次に、光源システム16の後方に位置する光
学系の構成は、図24における微分干渉顕微鏡のものと
同様である。即ち、x偏波とy偏波が分離するように角
度調整されたウォラストンプリズム2,コンデンサーレ
ンズ3,スライドガラス4に載置された試料5、対物レ
ンズ6,ウォラストンプリズム7,偏光板8,CCD9
が配設されている。尚、本実施例においてはウォラスト
ンプリズム7は横移動しないように構成されている。偏
光板8はその偏光軸がx偏波とy偏波に対して所定の角
度を以て配置されている。所定の角度とはCCD9で得
られる干渉像のコントラストが高くなる偏光軸方向を表
しており、x偏波とy偏波が同じ光強度を持つならばそ
の角度はおよそ45°である。そして、CCD9で撮像
された干渉像はフレームメモリー29に取り込まれ、フ
レームメモリー29と偏波制御装置28に接続されてい
るコンピュータ30において、フレームメモリー29か
ら入力される干渉像に基づいて演算され、試料5の位相
分布の情報が得られるようになっている。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年7月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図20
【補正方法】変更
【補正内容】
【図20】
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図22
【補正方法】変更
【補正内容】
【図22】

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光源と、該光源からの光を常光と異常光と
    に分離する分波手段と、該常光と異常光とが試料から射
    出された後で該常光と異常光とを重ね合わせる合波手段
    と、偏光軸が常光と異常光の偏波方向に対して所定の角
    度を以て配置された偏光板と、該偏光板を透過した光を
    検出する検出手段とを有する微分干渉顕微鏡において、 前記光源から分光手段までの光路上又は前記合波手段か
    ら検出手段までの光路上、に偏波状態を変化させる偏波
    状態可変手段を配置したことを特徴とする微分干渉顕微
    鏡。
  2. 【請求項2】光源と、該光源からの光を常光と異常光と
    に分離する分波手段と、該常光と異常光とが試料から射
    出された後で該常光と異常光とを重ね合わせる合波手段
    と、偏光軸が常光と異常光の偏波方向に対して所定の角
    度を以て配置された偏光板と、該偏光板を透過した光を
    検出する検出手段とを有する微分干渉顕微鏡において、 前記光源は射出する光の波長を変化させる波長可変機能
    を有するか、又は前記光源とは別個に波長可変手段が備
    えられていると共に、常光と異常光の偏波方向について
    異なる光路長を有する光路長差生成手段が該光源から検
    出手段までの間に配置されていることを特徴とする微分
    干渉顕微鏡。
  3. 【請求項3】試料を照射する光源と、該試料から射出さ
    れる透過光と回折光とを干渉像が得られるように観察面
    上に導くための干渉像生成手段と、該干渉像を検出する
    検出手段とを有する位相差顕微鏡において、 前記光源から検出手段までの間に配置されていて光の偏
    波状態を変化させる偏波状態可変手段と、前記透過光か
    ら特定の偏波成分を摘出する第一の偏波摘出手段と、該
    第一の偏波摘出手段が摘出する偏光方向と交差する偏光
    成分を回折光から摘出する第二の偏波摘出手段とを備え
    たことを特徴とする位相差顕微鏡。
  4. 【請求項4】試料を照射する光源と、該試料から射出さ
    れる透過光と回折光とを干渉像が得られるように観察面
    上に導くための干渉像生成手段とを有する位相差顕微鏡
    において、 前記光源は射出する光の波長を変化させる波長可変機能
    を有するか、又は前記光源とは別個に波長可変手段が備
    えられていることを特徴とする位相差顕微鏡。
JP4031062A 1992-02-18 1992-02-18 干渉顕微鏡 Pending JPH05232384A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4031062A JPH05232384A (ja) 1992-02-18 1992-02-18 干渉顕微鏡
US08/018,428 US5420717A (en) 1992-02-18 1993-02-17 Adjustable-contrast microscope

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4031062A JPH05232384A (ja) 1992-02-18 1992-02-18 干渉顕微鏡

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001134054A Division JP3455194B2 (ja) 2001-05-01 2001-05-01 位相差顕微鏡

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05232384A true JPH05232384A (ja) 1993-09-10

Family

ID=12320987

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4031062A Pending JPH05232384A (ja) 1992-02-18 1992-02-18 干渉顕微鏡

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5420717A (ja)
JP (1) JPH05232384A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5969855A (en) * 1995-10-13 1999-10-19 Olympus Optical Co., Ltd. Microscope apparatus
US6061136A (en) * 1996-11-13 2000-05-09 Olympus Optical Co., Ltd. Method for measuring shape of object and apparatus for carrying out the same
JP2008170850A (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Nikon Corp チューナブルフィルタ、光源装置、及びスペクトル分布測定装置
WO2008105156A1 (ja) * 2007-02-28 2008-09-04 Photonic Lattice, Inc. 偏光イメージング装置,及び微分干渉顕微鏡
US8351033B2 (en) 2007-05-31 2013-01-08 Nikon Corporation Tunable filter, light source apparatus, and spectral distribution measuring apparatus
JP2016521866A (ja) * 2013-06-09 2016-07-25 ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム スペクトラム符号化に基づく高い消光比特性を有する偏光顕微鏡
JP2022503371A (ja) * 2018-10-26 2022-01-12 ケーエルエー コーポレイション 結像系設計における微分干渉コントラストの走査
US11493322B2 (en) 2020-07-03 2022-11-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Ellipsometer

Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0153796B1 (ko) * 1993-09-24 1998-11-16 사토 후미오 노광장치 및 노광방법
EP0646768A3 (en) * 1993-09-29 1997-05-14 Ushio Electric Inc Confocal optical microscope and length measurement device using this microscope.
US5751475A (en) * 1993-12-17 1998-05-12 Olympus Optical Co., Ltd. Phase contrast microscope
DE4402059C1 (de) * 1994-01-25 1995-04-27 Zeiss Carl Jena Gmbh Faraday-Mikroskop sowie Verfahren zu dessen Justierung
DE4404283A1 (de) * 1994-02-11 1995-08-17 Leica Mikroskopie & Syst Kondensorsystem für Mikroskope
JPH1020198A (ja) * 1996-07-02 1998-01-23 Olympus Optical Co Ltd 近赤外線顕微鏡及びこれを用いた顕微鏡観察システム
JPH10104524A (ja) * 1996-08-08 1998-04-24 Nikon Corp 微分干渉顕微鏡
JPH10133123A (ja) * 1996-09-04 1998-05-22 Nikon Corp 透過照明型微分干渉顕微鏡
FR2760085B1 (fr) * 1997-02-26 1999-05-14 Instruments Sa Dispositif et procede de mesures tridimensionnelles et d'observation in situ d'une couche superficielle deposee sur un empilement de couches minces
US5852498A (en) * 1997-04-04 1998-12-22 Kairos Scientific Inc. Optical instrument having a variable optical filter
JP4270614B2 (ja) 1998-09-22 2009-06-03 オリンパス株式会社 観察物体の物理量を検出するための装置およびこれを用いた検出方法
US6115177A (en) * 1999-04-06 2000-09-05 Gateway, Inc. Interactive 3-D viewing glasses
JP2001021810A (ja) * 1999-07-07 2001-01-26 Nikon Corp 干渉顕微鏡
CN100351665C (zh) * 1999-07-29 2007-11-28 奥林巴斯光学工业株式会社 中继透镜装置
US6741356B1 (en) * 1999-09-20 2004-05-25 Olympus Corporation Method for detecting physical amount of object and optical apparatus using the same
DE10003570A1 (de) * 2000-01-27 2001-08-02 Leica Microsystems Mikroskop-Aufbau
JP2002071515A (ja) * 2000-08-31 2002-03-08 Canon Inc 測定装置及び測定方法
US7151632B2 (en) * 2001-01-12 2006-12-19 University Of Rochester Apparatus for production of an inhomogeneously polarized optical beam for use in illumination and a method thereof
EP1466147B1 (en) * 2001-07-07 2012-06-13 Biotools, Inc. Polarization state conversion in optically active spectroscopy
US6924893B2 (en) * 2002-05-13 2005-08-02 Marine Biological Laboratory Enhancing polarized light microscopy
US7133134B2 (en) * 2002-08-21 2006-11-07 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method of measuring a physical function using a symmetric composite function
US6856393B2 (en) * 2002-08-21 2005-02-15 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford University Method of measuring a physical function using a composite function which includes the physical function and an arbitrary reference function
DE10247248A1 (de) * 2002-10-10 2004-04-22 Leica Microsystems Wetzlar Gmbh Polarisations-Interferenzmikroskop
US6975397B2 (en) * 2003-02-27 2005-12-13 Biotools, Inc. Polarization state conversion in optically active spectroscopy
DE10321091B4 (de) * 2003-05-09 2005-06-30 Leica Microsystems Wetzlar Gmbh Mikroskop und Mikroskopierverfahren zur Erzeugung von Überlagerungsbildern
US7227113B2 (en) * 2003-11-21 2007-06-05 Olympus Corporation Confocal laser scanning microscope
WO2005054829A2 (en) * 2003-11-25 2005-06-16 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method for determining the optical nonlinearity profile of a material
WO2005057249A2 (en) * 2003-12-02 2005-06-23 The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Sub-diffraction limit resolution in microscopy
DE102004034971A1 (de) * 2004-07-16 2006-02-09 Carl Zeiss Jena Gmbh Lichtrastermikroskop mit linienförmiger Abtastung und Verwendung
DE102004034976A1 (de) * 2004-07-16 2006-02-16 Carl Zeiss Jena Gmbh Lichtrastermikroskop und Verwendung
US7453577B2 (en) * 2004-12-14 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Apparatus and method for inspecting a patterned part of a sample
US7403267B2 (en) * 2005-03-31 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. System and method for providing modified illumination intensity
WO2007050773A1 (en) * 2005-10-25 2007-05-03 Applied Precision, Llc Polarized phase microscopy
CN100401009C (zh) * 2006-06-21 2008-07-09 中国科学院力学研究所 长工作距干涉显微镜系统
DE102007025688A1 (de) * 2007-06-01 2008-12-11 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Wellenlängen- oder polarisationssensitiver optischer Aufbau und dessen Verwendung
US8628976B2 (en) 2007-12-03 2014-01-14 Azbil BioVigilant, Inc. Method for the detection of biologic particle contamination
JP5065059B2 (ja) * 2008-01-08 2012-10-31 オリンパス株式会社 顕微鏡
US9069175B2 (en) 2011-04-08 2015-06-30 Kairos Instruments, Llc Adaptive phase contrast microscope
US9182284B2 (en) * 2012-06-07 2015-11-10 Politecnico Di Milano Phase-locked delay device including an optical wedge pair
ES2574608T3 (es) * 2013-01-24 2016-06-21 Lambda-X Mejoras en o relacionadas con la formación de imágenes hiperespectrales
JP6124774B2 (ja) * 2013-03-22 2017-05-10 オリンパス株式会社 位相分布計測方法、及び、位相分布計測装置
US9523860B2 (en) * 2013-10-16 2016-12-20 Emmett Dunham Color-changing apparatus for active camouflage configurations
US9689793B2 (en) * 2014-02-14 2017-06-27 Kent State University System and method thereof for accurate optical detection of amphiphiles at a liquid crystal interface
US9778019B2 (en) * 2015-02-09 2017-10-03 King Abdulaziz City for Science and Technology-KACST Differential polarization interferometer
JP6513507B2 (ja) * 2015-06-30 2019-05-15 富士フイルム株式会社 位相差顕微鏡および撮像方法
US11598627B2 (en) * 2016-02-03 2023-03-07 Virginia Tech Intellectual Properties, Inc. Methods, systems and apparatus of interferometry for imaging and sensing
EP3502695A1 (en) * 2017-12-22 2019-06-26 IMEC vzw A method and a system for analysis of cardiomyocyte function
DE102019117671A1 (de) * 2019-07-01 2021-01-07 Carl Zeiss Ag Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung von chiralen Proben
EP4034930A1 (en) * 2019-09-26 2022-08-03 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) System and methods for differential imaging using a lock-in camera
CN111537070B (zh) * 2020-03-26 2021-09-24 华南师范大学 一种可快速改变剪切方向和大小的微分干涉成像系统
JP7307027B2 (ja) * 2020-04-10 2023-07-11 浜松ホトニクス株式会社 観察装置および観察方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52116256A (en) * 1976-03-26 1977-09-29 Nippon Chemical Ind Polarization phase contrast microscope
US4129357A (en) * 1977-08-11 1978-12-12 Nasa Partial polarizer filter
US4309110A (en) * 1978-04-23 1982-01-05 Leo Tumerman Method and apparatus for measuring the quantities which characterize the optical properties of substances
GB8713043D0 (en) * 1987-06-03 1987-07-08 British Telecomm Optical switch
US4795246A (en) * 1987-07-30 1989-01-03 Loro Albert Differential interference contrast microscope using non-uniformly deformed plastic birefringent components
US4881815A (en) * 1988-07-08 1989-11-21 Zygo, Corporation Linear and angular displacement measuring interferometer
JPH02151825A (ja) * 1988-12-05 1990-06-11 Olympus Optical Co Ltd 微分干渉顕微鏡
US5042951A (en) * 1989-09-19 1991-08-27 Therma-Wave, Inc. High resolution ellipsometric apparatus
US5078482A (en) * 1989-07-28 1992-01-07 At&T Bell Laboratories Resolution confocal microscope, and device fabrication method using same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5969855A (en) * 1995-10-13 1999-10-19 Olympus Optical Co., Ltd. Microscope apparatus
US6061136A (en) * 1996-11-13 2000-05-09 Olympus Optical Co., Ltd. Method for measuring shape of object and apparatus for carrying out the same
JP2008170850A (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Nikon Corp チューナブルフィルタ、光源装置、及びスペクトル分布測定装置
WO2008105156A1 (ja) * 2007-02-28 2008-09-04 Photonic Lattice, Inc. 偏光イメージング装置,及び微分干渉顕微鏡
US8351033B2 (en) 2007-05-31 2013-01-08 Nikon Corporation Tunable filter, light source apparatus, and spectral distribution measuring apparatus
JP2016521866A (ja) * 2013-06-09 2016-07-25 ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム スペクトラム符号化に基づく高い消光比特性を有する偏光顕微鏡
JP2022503371A (ja) * 2018-10-26 2022-01-12 ケーエルエー コーポレイション 結像系設計における微分干渉コントラストの走査
US11493322B2 (en) 2020-07-03 2022-11-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Ellipsometer

Also Published As

Publication number Publication date
US5420717A (en) 1995-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05232384A (ja) 干渉顕微鏡
US5764363A (en) Apparatus for observing a surface using polarized light
JP3708260B2 (ja) 微分干渉顕微鏡
JP6520951B2 (ja) 複屈折測定装置および複屈折測定方法
US9297980B2 (en) Optical device for transmission-type scanning by moving scanning beam without moving observation sample
US20130265576A1 (en) Device and method for polarimetric measurement with microscopic resolution, polarimetry accessory for a microscope, ellipsomicroscope and ellipsometric contrast microscope
US7180602B2 (en) Agile spectral interferometric microscopy
US4842408A (en) Phase shift measuring apparatus utilizing optical meterodyne techniques
EP2327953B1 (en) Apparatus and method for determining a height map of a surface through both interferometric and non interferometric measurements.
JP2007225341A (ja) 干渉計、及び形状の測定方法
JP3943620B2 (ja) 微分干渉顕微鏡
US11248955B2 (en) Polarization measurement with interference patterns of high spatial carrier frequency
US7123364B2 (en) Acoustic imaging microscope
JP3455194B2 (ja) 位相差顕微鏡
US8334981B2 (en) Orthogonal-polarization mirau interferometry and beam-splitting module and interferometric system using the same
JP2655097B2 (ja) 位相差測定方法および装置
JPH08327453A (ja) 偏光干渉計
JP3523725B2 (ja) 微分干渉顕微鏡装置
JP4072190B2 (ja) 微分干渉顕微鏡
CN111033228A (zh) 检测设备和检测方法
JPH10268200A (ja) 干渉顕微鏡装置
JPH10213486A (ja) 偏光干渉計
JPH08110265A (ja) レターデーション測定装置
JP2521324Y2 (ja) 干渉計
JPH09280811A (ja) 干渉計

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20020312