JPH09280811A - 干渉計 - Google Patents

干渉計

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JPH09280811A
JPH09280811A JP8111314A JP11131496A JPH09280811A JP H09280811 A JPH09280811 A JP H09280811A JP 8111314 A JP8111314 A JP 8111314A JP 11131496 A JP11131496 A JP 11131496A JP H09280811 A JPH09280811 A JP H09280811A
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JP
Japan
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light
interferometer
liquid crystal
phase
optical path
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Application number
JP8111314A
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English (en)
Inventor
Toshihiko Yoshino
俊彦 芳野
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HERUTSU KOGYO KK
Original Assignee
HERUTSU KOGYO KK
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02062Active error reduction, i.e. varying with time
    • G01B9/02067Active error reduction, i.e. varying with time by electronic control systems, i.e. using feedback acting on optics or light

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Optics & Photonics (AREA)
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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】干渉計における信号光や参照光の不安定度を検
出してこれをフィードバックさせて干渉計自体で補償
し、安定性を確保する。 【解決手段】レーザー光やインコーヒーレント光等から
成る光源1からの光路内におかれた被検物体2の変位に
関する情報を、前記光の干渉を用いて計測する干渉計に
おいて、光路内に位相変調機3を介在させ、信号光及び
参照光を検出してこれらの光の不安定度を光検出器6に
より検出してこれを差動アンプ7を介して電圧又は電流
に置き換え、上記位相変調機3に当該電圧又は電流を印
加させて上記信号光及び参照光を安定化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は被検物体の面精
度、変位等を光の干渉を利用して精度良く計測する光学
的干渉計に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来干渉計は、高感度のために周囲の振
動、温度変化、空気のゆらぎ等による干渉強度の変動を
受けやすく、そのため温度コントロールや防振装置を用
いてその計測精度を上げている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれらの
温度調整や防振装置は装置が大がかりとなりかつ完全な
効果が生じないのが現状である。そこで干渉計の内部構
造でこれらの振動等を補償する方法があるが、ミラーを
動かす等の動作を伴い安定化にいまひとつ至らないもの
であった。
【0004】この発明は上記のような温度調整や防振装
置に代えて、干渉計における信号光や参照光の不安定度
を検出してこれをフィードバックさせて干渉計自体で補
償し、安定性を確保する干渉計を提供して上記課題を解
決するとともに干渉縞の自動読み取りを可能にした干渉
計を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】まず請求項1項の発明
は、レーザー光やインコーヒーレント光等から成る光源
からの光路内におかれた被検物体の変位に関する情報
を、前記光の干渉を用いて計測する干渉計において、光
路内に位相変調機を介在させ、信号光及び参照光を検出
してこれらの光の不安定度を検出してこれを差動アンプ
を介して電圧又は電流に置き換え、上記位相変調機に当
該電圧又は電流を印加させて上記信号光及び参照光を安
定化させる、干渉計とした。
【0006】また請求項2項の発明は、レーザー光やイ
ンコーヒーレント光等から成る光源からの光路内におか
れた被検物体の変位に関する情報を、前記光の干渉を用
いて計測する干渉計において、光路内に位相変調機を介
在させ、信号光及び参照光を検出してこれらの光の不安
定度を検出してこれを差動アンプを介して電圧又は電流
に置き換え、上記位相変調機に当該電圧又は電流を印加
させて上記信号光及び参照光を安定化させ、この静止し
た状態において空間キャリアー法等で干渉縞を自動的に
読み取り、被検物体の表面形状や屈折率分布を三次元的
に表示する装置を設けた、干渉計とした。
【0007】また請求項3項の発明は、上記位相変調機
が液晶、電歪又は磁歪素子の外周に光ファイバーを巻き
つけた素子、電歪又は磁歪素子の外周に巻き付けた光フ
ァイバーの端部に反射ミラー又は位相共役ミラーを設け
て光ファイバーを通過した光線を反射させる素子、液晶
からなる多重反射素子、又は液晶からなる多重反射素子
であって通過した光線を反射ミラー又は位相共役ミラー
で反射させる素子の内の一つである、請求項1項又は2
項記載の干渉計とした。
【0008】また請求項4項の発明は、レーザー光やイ
ンコーヒーレント光等から成る光源からの光路内におか
れた被検物体の変位に関する情報を、前記光の干渉を用
いて計測する干渉計において、光路内に位相変調機とし
て多重反射する液晶を介在させ、この液晶に印加する電
圧を変えて光の位相を変化させ、信号光及び参照光をC
CDカメラにより検出してこれをマイコン処理し、干渉
縞を自動的に読み取り、被検物体の表面形状や屈折率分
布を三次元的に表示するよう構成した、干渉計とした。
【0009】また請求項4項の発明は、レーザー光やイ
ンコーヒーレント光等から成る光源からの光路内におか
れた被検物体の変位に関する情報を、前記光の干渉を用
いて計測するシヤリング干渉計において、光路内に多重
反射する液晶を介在させ、この液晶により光の位相を変
化させ、信号光及び参照光をCCDカメラにより検出し
てこれをマイコン処理し、干渉縞を自動的に読み取り、
被検物体の表面形状や屈折率分布を三次元的に表示する
よう構成した、干渉計とした。
【0010】また請求項5項の発明は、レーザー光やイ
ンコーヒーレント光等から成る光源からの光路内におか
れた被検物体の変位に関する情報を、前記光の干渉を用
いて計測するノマルスキー微分干渉顕微鏡において、光
路内に一回透過・一回反射或いは多重反射する液晶を介
在させ、この液晶により光の位相を変化させ、信号光及
び参照光をCCDカメラにより検出してこれをマイコン
処理し、干渉縞を自動的に読み取り、被検物体の表面形
状や屈折率分布を三次元的に表示するよう構成した、干
渉計とした。
【0011】
【実施の形態】以下この発明の実施の形態例を図に基づ
いて説明する。図1はこの発明の第1の実施の形態例を
示す。これは干渉計の安定化を図るもので、レーザー光
等の光源1からの光の一部は半透明鏡BS1を通過させ
て被検物体2を通して反射ミラーM2で反射し、半透明
鏡BS1で反射してピンホール4を有する板5に至る。
また光源1からの一部の光は上記半透明鏡BS1で反射
し位相変調機3を通過して反射ミラーM1で反射し、半
透明鏡BS1を通過してピンホール4を有する板5に至
る。これらの光により板5の上に干渉縞が現われる。
【0012】そしてこれらの光路において振動等の外乱
があるとピンホール4を通る光の強さが変動する。これ
をピンホール4の後方に設けた光検出器6で検出し、光
の強弱に応じて差動アンプ7により電圧に変え、上記位
相変調機3にフィードバックする。従って光のみだれに
応じて常に当該位相変調機3により位相を変化させ安定
化を図るものである。また半透明鏡BS1とピンホール
4を有する板5との間の光路に半透明鏡BS2を設けて
これらの光を反射させ干渉縞をモニター8により表示す
るようにしている。
【0013】またこの発明の第2の実施の形態例とし
て、上記安定化干渉計において干渉縞の自動読み取り機
構を具備した干渉計を図2に示す。上記干渉計を構成す
る反射ミラーの一つ、例えば反射ミラーM1を光軸に対
して、点線で示すごとく、多少傾けると、被検物体の位
相分布(形状、屈折率分布)に応じて空間的に変調を受
けた干渉縞が発生する。それをCCDカメラ22により
検出してこれをマイコン23でフーリエ変換等の処理を
行い、干渉縞を自動的に読み取って、被検物体の表面形
状や屈折率分布を三次元的にテレビ画面やプリンタ等の
表示装置24で表示するようにしてある。
【0014】なお上記第1及び第2の実施の形態例では
光源1及び位相変調機3の箇所に、同じ偏光方向の偏光
子Pを設けて偏光からくる誤差をなくしているが、これ
らの偏光子Pはこの装置の必須要件ではなく、偏光した
光源を用いかつその方向に液晶の主軸の回転面が合致し
ているか又は光ファイバーの中の動作によって偏光が変
化しない場合は上記偏光子Pを用いなくてもよい。
【0015】上記第1及び第2の実施の形態例における
位相変調機3としては図3乃至図7に示す。図3は位相
変調機3として液晶を用いたもので、(A)図は液晶セ
ル9の相対向する各面に透明電極9aを設けた一回透過
型を示し、(B)図は一方の透明電極9aの外側面にミ
ラー10を設けた一回反射型を示す。
【0016】また図4は多重反射素子として液晶を使用
したもので、(A)図と(B)図は二種類の透過型の多
重反射素子を示す。これらは液晶セル9の相対向する両
側面に透明電極9a、9aを設け、これらの透明電極9
aに対向して夫々ミラー10、10を設け、当該透明電
極9aに上記可変電圧をかけて、図4に示すごとくレー
ザー光等の光を液晶セル9に通し、二つの対向するミラ
ー10、10の間を多重に反射させるものである。そし
て上記液晶セル9にかける電圧を変化させることにより
位相が大きく、かつ素速く変化する。
【0017】また図5は多重反射素子として液晶を使用
したもので、(A)図と(B)図は二種類の反射型の多
重反射素子を示す。(A)図においては図4と同様な多
重反射素子を通過した光線を、別途設けた反射ミラー1
1で反射させ、入射光線と逆行させるよう構成したもの
である。これにより反射回数が2倍に増加するので、位
相変化も2倍になる。また(B)図においては、上記反
射ミラー11の代わりに、位相共役ミラー12を設けた
ものである。この位相共役ミラー12はチタン酸バリウ
ムなどのフォトレフラクティブ非線形光学結晶で、相対
する両側からポンプレーザ光12a、12bを当ててい
る。
【0018】光線は、途中の空気の揺らぎ、伝搬による
ビームの広がり等によって、ビームが乱れることがあ
り、実用上の性能の低下をもたらす。しかし当該位相共
役ミラー12に入射する光線は、結晶のフォトレフラク
ティブ効果によって、入射光線と共役の波面をもって反
射し、入射光線に対して逆行する。これにより、途中の
空気の揺らぎや伝搬によるビームの乱れが打ち消され、
元の入射光と同様の、乱れのないビームが再現され、液
晶による位相変換の大きさについては、透過型に比べて
2倍の反射光が達成できる。なお上記位相共役ミラーの
ポンプレーザ光はない場合でも上記作用は可能である。
【0019】また図6は上記位相変調機として光ファイ
バーを使用したもので、電歪又は磁歪素子13の外周に
単一モードの光ファイバー14を巻き付け、当該電歪又
は磁歪素子13に可変の電圧又は電流をかけ、光ファイ
バー14にレーザー光を通す。そして上記の電圧又は電
流を変えることにより位相が大きく、かつ素速く変化す
る。
【0020】また図7は、図6の電歪又は磁歪素子13
の外周に単一モードの光ファイバー14を巻き付けた素
子の反射型のものを示す。その内(A)図は当該光ファ
イバー14端に反射ミラー11を設けたもので、このフ
ァイバー14内を通過した光線を、当該反射ミラー11
で反射させ、入射光線と逆行させるよう構成したもので
ある。これにより位相変化も2倍になる。また(B)図
においては、上記反射ミラー11の代わりに、位相共役
ミラー12を設けたものである。この位相共役ミラー1
2はチタン酸バリウムなどのフォトレフラクティブ非線
形光学結晶で、相対する両側からポンプレーザ光12
a、12bを当てている。この場合も上記図5の(B)
図の多重反射素子と同様な作用を成す。
【0021】また従来当該干渉計により図8に示す様な
被検物体15の表面の凹凸を計測したい場合、半透明鏡
16に光源17からレーザー光を当て通過した光を被検
物体15の表面で反射させてさらに半透明鏡16で反射
させ、一方光源17からの光を半透明鏡16で反射さ
せ、これをミラー18で反射させて半透明鏡16を通過
させ、これらの光の干渉縞を自動的に読み取っている。
この原理は以下の式で表わされる。
【0022】 I1=A+Bcosφ Δφ=0 I2=A−Bsinφ Δφ=π/2 I3=A−Bcosφ Δφ=π I4=A+Bsinφ Δφ=3π/2 tanφ=(I4−I2)÷(I1−I3) 上記Δφを90゜づつずらして位相を代えて、夫々Iを
計測し、これらを上記式に代入して最終的にΔφをだす
もので、上記A,Bは定数である。
【0023】従来、90゜づつずらして位相を代えるの
に上記ミラー18を動かしていた。しかしこの様にミラ
ーを動かすのは、機構も複雑となり、精度の高い構成と
するには難しいものであった。そこでこの発明では上記
多重反射する液晶を用い、この液晶に印加する電圧を変
化させることにより極めて容易に90゜毎の位相を変化
させている。
【0024】図9はこの発明の第3の実施の形態例を示
し、干渉計における干渉縞の自動読み取り装置を示すも
のである。レーザー光等を多重反射液晶素子19に照射
し、さらに被検物体20に通し、干渉計21を介して干
渉縞をCCDカメラ22で読み取り、これをマイコン2
3にかけてテレビ画面やプリンタ等の表示装置24に被
検物体の表面形状や屈折率分布を三次元的に表示するも
のである。
【0025】またシヤリング干渉計は信号光、参照光が
空間的にほぼ同じ場所を通過するため干渉計そのものが
高安定である。そこで液晶の位相可変機能を使用するこ
とで従来のシヤリング干渉計では不可能であった干渉計
の自動読み取りが可能となった。図10はこの発明の第
4の実施の形態例として、シヤリング干渉計に多重反射
液晶素子19を設けたものである。
【0026】図10のシヤリング干渉計は、方解石のよ
うな複屈折性結晶板Qdによる横ずれを利用して波面に
シャーを与えるもので、干渉像を作るため結晶に対して
45度の方向に偏光軸をもつ偏光子Pと検光子Aが配置
されており、多重反射液晶素子19を通した光を物体O
にあて、レンズLで物体Oの像を投影し、像面には常光
線による波面Woと異常光線による波面Weの間のシヤ
リング干渉像が形成され、これをCCDカメラ22でと
らえるものである。なおWpは入射平面波で、コヒーレ
ントな波面であり、Wは物体Oを透過したのちの波面で
ある。
【0027】また従来から使用されているノマルスキー
微分干渉顕微鏡においても、上記多重反射する液晶を用
いると、従来不可能であった干渉縞の読み取りができ
る。図11はこの発明の第5の実施の形態例のノマルス
キー微分干渉計を示し、偏光子P及び多重反射液晶素子
19を透過した照明光は半透明鏡BSで反射し、ノマル
スキープリズムPn、対物レンズObを経て試料Sを照
明する。ノマルスキープリズムPnは光学軸が図示のよ
うなプリズムを貼りあわせたプリズムである。このプリ
ズムPnは実際には光軸のまわりに45°回転した方位
にある。従って入射光線は振幅の等しい常光線と異常光
線に分解される。これら常光線と異常光線は図示の様に
貼りあわせ面で異なる方向に進が、プリズムPnを透過
した後対物レンズObの焦点Fで交差するように進む。
対物レンズPnを透過した後は平行になり試料Sに入
射、ここで反射して同じ光路を逆にたどり再びノマルス
キープリズムPnに至る。プリズムを透過した後は同一
光路を進み、検光子Aを経て接眼レンズOcに至る。像
面IPには試料の像が、上記対物レンズObの倍率だけ
横ずれしたシヤリング干渉像が見える。これを接眼レン
ズOcを通してCCDカメラ22でとらえる。
【0028】なお上記各実施の形態例における多重反射
液晶素子には、上述のように透過型及び反射型の双方が
含まれるものである。また上記ノマルスキー微分干渉顕
微鏡についての第5の実施の形態例では、多重反射する
液晶を用いたが、これら限らず一回透過型の液晶又は一
回反射型の液晶によっても干渉縞の自動読み取りが可能
である。
【0029】
【発明の効果】請求項1項の発明においては、光路内に
位相変調機を介在させ、信号光及び参照光を検出してこ
れらの光の不安定度を検出してこれを差動アンプ等を介
して電圧又は電流に置き換え、上記位相変調機に当該電
圧又は電流を印加させて上記信号光及び参照光を安定化
させるため、構造が極めて簡単でかつ確実であり、防振
台等が不要である。またシヤリング干渉計は上述の如
く、安定性が良いが、シヤリング干渉計にこの発明の位
相変調機を設け、フィードバック機構を設けることによ
り干渉計をより安定化が図れる。
【0030】また請求項2項の発明においては、干渉計
の安定化に加え、さらに干渉縞の自動読み取りにより被
検物体の表面形状や屈折率分布を三次元的に表示するこ
とが可能となった。
【0031】また請求項3項の発明においては、上記請
求項1項及び2項の発明における位相変調機として、液
晶、電歪又は磁歪素子の外周に光ファイバーを巻きつけ
た素子、電歪又は磁歪素子の外周に巻き付けた光ファイ
バーの端部に反射ミラー又は位相共役ミラーを設けて光
線を反射させる素子、液晶からなる多重反射素子、又は
液晶からなる多重反射素子であって通過した光線を反射
ミラー又は位相共役ミラーで反射させる素子を用いるた
め、高効率の位相変調が可能である。
【0032】また請求項4項の発明においては位相変調
機として多重反射する液晶を用い、位相変調を容易確実
にするとともに、マイコンを用いて極めて簡単に干渉縞
を自動的に読み取り、被検物体の表面形状や屈折率分布
を三次元的に表示することができる。
【0033】また請求項5項の発明においては、シヤリ
ング干渉計はもともと安定性が良い上に、多重反射する
液晶を用いることにより、いままで不可能であった干渉
縞の読み取りにより被検物体の表面形状や屈折率分布を
三次元的に表示することが極めて容易に可能となった。
【0034】また請求項6項の発明においては、多重反
射する液晶を用いることにより、従来不可能とされてい
るノマルスキー微分干渉顕微鏡での干渉縞の自動読み取
りにより被検物体の表面形状や屈折率分布を三次元的に
表示することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態例の干渉計の概略
構成図である。
【図2】この発明の第2の実施の形態例の干渉計の概略
構成図である。
【図3】この発明の第1及び第2の実施の形態例の干渉
計に使用する位相変調機としての液晶を示す概略構成図
である。
【図4】この発明の第1及び第2の実施の形態例の干渉
計に使用する位相変調機としての透過型の多重反射する
液晶を示す概略構成図である。
【図5】この発明の第1及び第2の実施の形態例の干渉
計に使用する位相変調機としての反射型の多重反射する
液晶を示す概略構成図である。
【図6】この発明の第1及び第2の実施の形態例の干渉
計に使用する位相変換機としての光ファイバーを用いた
素子の概略構成図である。
【図7】この発明の第1及び第2の実施の形態例の干渉
計に使用する位相変換機としての反射型の光ファイバー
を用いた素子の概略構成図である。
【図8】干渉計における干渉縞の読み取り原理を示す説
明図である。
【図9】この発明の第3の実施の形態例の干渉縞の読み
取り装置における概略構成図である。
【図10】この発明の第4の実施の形態例のシヤリング
干渉計の概略構成図である。
【図11】この発明の第5の実施の形態例のノマルスキ
ー微分干渉顕微鏡の概略構成図である。
【符号の説明】
1 光源 2 被検物体 3 位相変調機 4 ピンホール 5 板 6 光検出器 7 差動アンプ 8 モニター M ミラー BS 半透明鏡 9 液晶セル 10 ミラー 11 反射ミラー 12 位相共役
ミラー 13 電歪又は磁歪素子 14 光ファイ
バー 15 被検物体 16 半透明鏡 17 光源 18 ミラー 19 多重反射液晶素子 20 被検物体 21 干渉計 22 CCDカ
メラ 23 マイコン 24 表示装置 O 被検物体 Qd 複屈折性結
晶板 L レンズ P 偏光子 A 検光子 Pn ノマルスキ
ープリズム Ob 対物レンズ Oc 接眼レン
ズ S 試料 IP 像面

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザー光やインコーヒーレント光等か
    ら成る光源からの光路内におかれた被検物体の変位に関
    する情報を、前記光の干渉を用いて計測する干渉計にお
    いて、光路内に位相変調機を介在させ、信号光及び参照
    光を検出してこれらの光の不安定度を検出してこれを差
    動アンプを介して電圧又は電流に置き換え、上記位相変
    調機に当該電圧又は電流を印加させて上記信号光及び参
    照光を安定化させることを特徴とする、干渉計。
  2. 【請求項2】 レーザー光やインコーヒーレント光等か
    ら成る光源からの光路内におかれた被検物体の変位に関
    する情報を、前記光の干渉を用いて計測する干渉計にお
    いて、光路内に位相変調機を介在させ、信号光及び参照
    光を検出してこれらの光の不安定度を検出してこれを差
    動アンプを介して電圧又は電流に置き換え、上記位相変
    調機に当該電圧又は電流を印加させて上記信号光及び参
    照光を安定化させ、この状態において干渉縞を自動的に
    読み取っり、被検物体の表面形状や屈折率分布を三次元
    的に表示する装置を設けたことを特徴とする、干渉計。
  3. 【請求項3】 位相変調機が液晶、電歪又は磁歪素子の
    外周に光ファイバーを巻きつけた素子、電歪又は磁歪素
    子の外周に巻き付けた光ファイバーの端部に反射ミラー
    又は位相共役ミラーを設けて光ファイバーを通過した光
    線を反射させる素子、液晶からなる多重反射素子、又は
    液晶からなる多重反射素子であって通過した光線を反射
    ミラー又は位相共役ミラーで反射させる素子の内の一つ
    であることを特徴とする、請求項1項又は2項記載の干
    渉計。
  4. 【請求項4】 レーザー光やインコーヒーレント光等か
    ら成る光源からの光路内におかれた被検物体の変位に関
    する情報を、前記光の干渉を用いて計測する干渉計にお
    いて、光路内に位相変調機として多重反射する液晶を介
    在させ、この液晶に印加する電圧を変えて光の位相を変
    化させ、信号光及び参照光をCCDカメラにより検出し
    てこれをマイコン処理し、干渉縞を自動的に読み取り、
    被検物体の表面形状や屈折率分布を三次元的に表示する
    よう構成したことを特徴とする、干渉計。
  5. 【請求項5】 レーザー光やインコーヒーレント光等か
    ら成る光源からの光路内におかれた被検物体の変位に関
    する情報を、前記光の干渉を用いて計測するシヤリング
    干渉計において、光路内に多重反射する液晶を介在さ
    せ、この液晶ににより光の位相を変化させ、信号光及び
    参照光をCCDカメラにより検出してこれをマイコン処
    理し、干渉縞を自動的に読み取り、被検物体の表面形状
    や屈折率分布を三次元的に表示するよう構成したことを
    特徴とする、干渉計。
  6. 【請求項6】 レーザー光やインコーヒーレント光等か
    ら成る光源からの光路内におかれた被検物体の変位に関
    する情報を、前記光の干渉を用いて計測するノマルスキ
    ー微分干渉顕微鏡において、光路内に一回透過・一回反
    射或いは多重反射する液晶を介在させ、この液晶に光の
    位相を変化させ、信号光及び参照光をCCDカメラによ
    り検出してこれをマイコン処理し、干渉縞を自動的に読
    み取り、被検物体の表面形状や屈折率分布を三次元的に
    表示するよう構成したことを特徴とする、干渉計。
JP8111314A 1996-04-08 1996-04-08 干渉計 Pending JPH09280811A (ja)

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