JPH05225525A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドの製造方法

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Publication number
JPH05225525A
JPH05225525A JP2706192A JP2706192A JPH05225525A JP H05225525 A JPH05225525 A JP H05225525A JP 2706192 A JP2706192 A JP 2706192A JP 2706192 A JP2706192 A JP 2706192A JP H05225525 A JPH05225525 A JP H05225525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pole height
lapping
magnetic head
monitor
monitors
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2706192A
Other languages
English (en)
Inventor
Kouzou Iijima
功造 飯島
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NEC Ibaraki Ltd
Original Assignee
NEC Ibaraki Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Ibaraki Ltd filed Critical NEC Ibaraki Ltd
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Publication of JPH05225525A publication Critical patent/JPH05225525A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【構成】フォトレジストパターン4とポールハイトモニ
ター3を用いてモニターを作成し、高倍(500〜10
00倍)の顕微鏡で治具の基準面に高精度(±0.5μ
m以内)でポールハイト基準線7の位置に合わせる。そ
して、ラップ盤11でラップ加工を行い、左右のポール
ハイトモニターA3aがポールハイト基準線8までラッ
プされた時、図1(b)でパーマロイパターン1が上下
に離され、絶縁計で検出され、ラップが完了する。ここ
で、左右のポールハイトモニター3のどちらか片方が離
された場合、目指チェックし、図4に示すラップバラン
ス重りを離されなかったモニター側にラップ量の差に比
例させて移動し、離されなかった側のラップ速度を速め
る操作を行うことにより、ポールハイト基準線7と8の
間でラップを終了させる。 【効果】上記により、目視で治具加工面より高精度な位
置合わせができ、また、ポールハイトのラッピング加工
量を目視で確認せずに、ポールハイト加工ができ、生産
性を向上できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記憶装置に関し、
特に磁気ディスク装置の磁気ヘッドのR/Wポールハイ
ト出しのラッピング加工による薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法につい
て図面を参照して説明する。
【0003】図4は従来例の薄膜磁気ヘッドのモニター
部分の詳細図、図4(a)は従来例の薄膜磁気ヘッドの
モニター部分の上面図、図4(b)は従来例の薄膜磁気
ヘッドのモニター部分の正面図、図4(c)は図4
(b)のA−A断面図である。
【0004】図4において、従来例のモニターは、製品
であるパーマロイパターン1a,1bと、ポールハイト
モニターA3a,B3b,C3cとがフォトレジスト4
により切断加工前の製品の切断加工の部分に取り付けら
れている。
【0005】ここで、従来の薄膜磁気ヘッドのR/Wポ
ールハイト出しは、例として図4に示すように、パーマ
ロイパターン1a,1bと、ポールハイトモニターA3
a,B3b,C3cと、フォトレジスト4を配置してラ
ッピング加工する。そして、図3(a)のように、加工
していくことにより、ラップする面よりポールハイトモ
ニターA3a,B3b,C3cと、フォトレジスト4と
が見え、この表示をラッピグ途中で何回か顕微鏡により
確認しながらポールハイトのラッピング加工量を求め、
図4(c)に示すパーマロイパターン1a,1bが図4
(b)に示す基準値のR/Wポールハイト位置2の規定
寸法に入るように加工する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の薄膜磁
気ヘッドの製造方法は、ラッピグ途中で何回か顕微鏡に
より確認しながらポールハイトのラッピング加工量を求
めて規定寸法までラップしているため、非常に効率が悪
く、ラッピング加工に時間がかかり過き、薄膜磁気ヘッ
ドの量産に対処できないという欠点がある。
【0007】本発明の目的は、上記の欠点を解消し、パ
ーマロイ膜の上下ポールの間にあるフォトレジストの絶
縁膜により、ポールハイトの位置をあらかじめフォトレ
ジストで作っておくことにより、目視で治具加工面より
高精度な位置合わせができ、また、上下ポールの間のフ
ォトレジストをラップ加工によって加工面を露出させ、
モニター部の端子間の導通をなくし、それを電気的信号
で検出することにより、ポールハイトのラッピング加工
量を目視で確認せずに、ポールハイト加工ができ、生産
性を向上できる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供するこ
とにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
の製造方法は、読出し/書込み磁気ヘッドの磁極となる
パーマロイ膜の上下ポールをラッピング加工により読出
し/書込み用ポールハイトの位置まで加工する薄膜磁気
ヘッドの製造方法において、あらかじめパーマロイ膜の
上下ポール間に配置されたフォトレジストの絶縁膜によ
り読出し/書込み用ポールハイトの位置をあらかじめで
作っておき、目視で読出し/書込み用ポールハイトの位
置を検出してラッピング加工の加工基準位置を読出し/
書込み用ポールハイトの位置に合わせ、ラッピング加工
によって上下ポール間のフォトレジストを加工面に露出
させ、パーマロイの上下ポール間を絶縁させることによ
り、読出し/書込み用ポールハイトの位置に達したこと
を電気信号で検出している。
【0009】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
【0010】図1は本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッド
とパーマロイ膜の上下ポールの膜に取り付けられたポー
ルハイトモニター部分の詳細図、図1(a)は本実施例
の薄膜磁気ヘッドとパーマロイ膜の上下ポールの膜に取
り付けられたポールハイトモニター部分の正面図、図1
(b)は図1(a)のA−A断面図、図1(c)は図1
(a)のB−B断面図、図2は切断加工前の状態で製品
が複数個配列されているところを示す全体図、図3は本
実施例の切断加工前の状態の薄膜磁気ヘッドとラップバ
ランス重りの詳細図である。
【0011】図1、図2において、製品であるパーマロ
イパターン1と、その両側に、ポールハイトモニターA
3aおよび端部A5と端部B6に取り付けられた絶縁計
と、ポールハイトモニターB3bおよび端部A5と端部
B6に取り付けられた絶縁計とがそれぞれフォトレジス
ト4により切断加工前の製品の切断加工の部分に取り付
けられている。
【0012】そして、図1において、フォトレジストパ
ターン4とポールハイトモニター3を用いてモニターを
作成し、高倍(500〜1000倍)の顕微鏡で治具の
基準面に高精度(±0.5μm以内)でポールハイト基
準線7の位置に合わせる。
【0013】また、図2において、ラップ盤11でラッ
プ加工を行い、図1の左右のポールハイトモニターA3
aがポールハイト基準線+1μm8までラップされた
時、図1(b)でパーマロイパターン1の上下ポールが
上下に離され、この上下ポールが絶縁されたことが絶縁
計により検出され、ラップが完了する。
【0014】ここで、図3に示すように、ラップ盤11
の上に加工治具12の一方に取り付けられた切断加工前
の状態の薄膜ヘッドが乗せられ、加工治具12の他方に
ラップバランス重り10が乗せられている。この時、ラ
ップ速度を制御しているのがラップバランスの重り10
であり、重りの掛かる方がラップ速度が速くなってい
る。
【0015】そして、図2を参照して左右のC部のポー
ルハイトモニター3のどちらか片方が離された時に、目
指チェックし、ラップバランス重り10(図3)を離さ
れなかったモニター側にラップ量の差に比例させて移動
し、離されなかった側のラップ速度を速める操作を行う
ことにより、ポールハイト基準線7と8の間でラップを
終了させる。
【0016】ここで、ポールハイト基準予備線8は、ポ
ールハイト分割線9+0.数μmの位置にできている。
【0017】そして、ポールハイト分割線9までラップ
されると、R/Wギャップ寸法制御ができなくなり、製
品不良となる。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の薄膜磁気
ヘッドの製造方法は、パーマロイ膜の上下ポールの間に
あるフォトレジストの絶縁膜によりポールハイトの位置
をあらかじめフォトレジストで作っておくことにより、
目視で治具加工面より高精度な位置合わせができる。
【0019】また、上下ポールの間のフォトレジストを
ラップ加工によって加工面を露出させ、モニター部の端
子間の導通をなくし、それを電気的信号で検出すること
により、ポールハイトのラッピング加工量を目視で確認
せずに、ポールハイト加工ができ、生産性を向上できる
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッドとパーマロ
イ膜の上下ポールの膜に取り付けられたポールハイトモ
ニター部分の詳細図である。図1(a)は本実施例の薄
膜磁気ヘッドとパーマロイ膜の上下ポールの膜に取り付
けられたポールハイトモニター部分の正面図である。図
1(b)は図1(a)のA−A断面図である。図1
(c)は図1(a)のB−B断面図である。
【図2】本実施例の切断加工前の状態で製品が複数個配
列されているところを示す全体図である。
【図3】本実施例の切断加工前の状態の薄膜磁気ヘッド
とラップバランス重りの詳細図である。
【図4】従来例の薄膜磁気ヘッドのモニター部分の詳細
図である。図4(a)は従来例の薄膜磁気ヘッドのモニ
ター部分の上面図である。図4(b)は従来例の薄膜磁
気ヘッドのモニター部分の正面図である。図4(c)は
図4(b)のA−A断面図である。
【符号の説明】
1 パーマロイパターン 1a パーマロイパターンa 1b パーマロイパターンb 2 R/Wポールハイト位置 3a ポールハイトモニターA 3b ポールハイトモニターB 3c ポールハイトモニターC 4 フォトレジスト 5 端子A 6 端子B 7 ポールハイト基準線 8 ポールハイト基準予備線 9 ポールハイト分離線 10 ラップバランス重り 11 ラップ盤 12 加工治具

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 読出し/書込み磁気ヘッドの磁極となる
    パーマロイ膜の上下ポールをラッピング加工により読出
    し/書込み用ポールハイトの位置まで加工する薄膜磁気
    ヘッドの製造方法において、あらかじめ前記パーマロイ
    膜の上下ポール間に配置されたフォトレジストの絶縁膜
    により前記読出し/書込み用ポールハイトの位置をあら
    かじめで作っておき、目視で前記読出し/書込み用ポー
    ルハイトの位置を検出して前記ラッピング加工の加工基
    準位置を前記読出し/書込み用ポールハイトの位置に合
    わせ、前記ラッピング加工によって前記上下ポール間の
    フォトレジストを加工面に露出させ、前記パーマロイの
    上下ポール間を絶縁させることにより、前記読出し/書
    込み用ポールハイトの位置に達したことを電気信号で検
    出することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
JP2706192A 1992-02-14 1992-02-14 薄膜磁気ヘッドの製造方法 Withdrawn JPH05225525A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2706192A JPH05225525A (ja) 1992-02-14 1992-02-14 薄膜磁気ヘッドの製造方法

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JP2706192A JPH05225525A (ja) 1992-02-14 1992-02-14 薄膜磁気ヘッドの製造方法

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JPH05225525A true JPH05225525A (ja) 1993-09-03

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ID=12210557

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JP2706192A Withdrawn JPH05225525A (ja) 1992-02-14 1992-02-14 薄膜磁気ヘッドの製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011220798A (ja) * 2010-04-08 2011-11-04 Ulvac Japan Ltd 触針式段差計における差動トランス用コア及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011220798A (ja) * 2010-04-08 2011-11-04 Ulvac Japan Ltd 触針式段差計における差動トランス用コア及びその製造方法

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Effective date: 19990518