JPH0522300B2 - - Google Patents

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JPH0522300B2
JPH0522300B2 JP61262034A JP26203486A JPH0522300B2 JP H0522300 B2 JPH0522300 B2 JP H0522300B2 JP 61262034 A JP61262034 A JP 61262034A JP 26203486 A JP26203486 A JP 26203486A JP H0522300 B2 JPH0522300 B2 JP H0522300B2
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JP
Japan
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magnetic layer
magnetic
layer
magneto
recording
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Hidekazu Fujii
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Canon Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録媒体、特に交換結合多層
膜を用いた光磁気記録媒体における改良に関す
る。
〔従来の技術〕
消去可能な光デイスクメモリとして光磁気デイ
スクが知られている。光磁気デイスクは、従来の
磁気ヘツドを使つた磁気記録媒体と比べて高密度
記録、非接触での記録再生などが可能であるとい
う長所がある反面、記録前に一度記録部分を消去
しなければならない(一方向に着磁しなければな
らない)という欠点があつた。この欠点を補う為
に、記録再生用ヘツドと消去用ヘツドを別々に設
ける方式、あるいは、レーザーの連続ビームを照
射しながら、同時に印加する磁場を変調しながら
記録する方式などか提案されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、これらの方法は、装置が大がかりとな
り、コスト高になる欠点あるいは高速の変調が出
来ないなどの欠点を有していた。
これらの欠点を除去し、重ね書き(オーバーラ
イト)を可能とする光磁気記録方式を本出願人は
昭和61年8月11日付け特願昭61−158787号で提案
した。
この光磁気記録方式は、低いキユリー点TL
高い保磁力HHを有する第1磁性層と、この磁性
層に比べて相対的に高いキユリー点THと低い保
磁力HLを有する第2磁性層からなる二層構造の
垂直磁化膜を基板上に有して成る光磁気記録媒体
を使用して、次の2値の記録を行なうことを特徴
とする記録方式である。すなわち(イ)初め例えば第
4図aのような磁化状態にある上記媒体(第3図
の35)に対して、記録用ヘツド31と異なる場
所で磁界発生手段34により、保磁力HLの第2
磁性層を一方向に磁化させるのに充分で保磁力
HHの第1磁性層の磁化の向きを反転させること
のない大きさの磁界Bを加え(こうすると第4図
bの状態になる)、 (ロ)次に、この媒体35を回転させ第4図bのの
状態になつた時点に、記録ヘツド31により、バ
イアス磁界を印加すると同時に、低いキユリー点
TL付近まで該媒体35が昇温するだけのレーザ
ーパワーを、照射することにより、第2磁性層の
磁化の向きを変えないまま第1磁性層の磁化の向
きを第2磁性層に対して安定な向きにそろえる第
1種の予備記録か、 バイアス磁界を印加すると同時に高いキユリー
点TH付近まで該媒体35が昇温するだけのレー
ザーパワーを照射することにより、第2磁性層の
磁化の向きを反転させて同時に第1磁性層も第2
磁性層に対して安定な向きに磁化する第2種の予
備記録かを、信号に応じて実施し、(第1種の予
備記録により第4図bのいずれの状態からも第4
図cの状態になり、第2種の予備記録により第4
図bのいずれの状態からも第4図dの状態にな
る。) (ハ)次に、該媒体35を回転させて、予備記録さ
れたビツトを、磁界発生手段34による前記磁界
Bを通過させることにより、 第1種の予備記録により形成されたビツト(C)に
ついては磁化の向きをそのまま変化させず(第1
種の記録の完了、即ち第4図eの状態にするこ
と)、 第2種の予備記録により形成されたビツトdに
ついては第2磁性層の磁化の向きだけを前記磁界
Bと同方向に反転させる(第2種の記録完了、即
ち第4図fの状態にするとこと)、二値の記録。
上述の記録方式における第1種の記録及び第2
種の記録を安定に行なうため、該方式に使用する
光磁気記録媒体が、次の式を満たす特性を、もつ
ことが必要であることはわかつていた。(詳細は
特願昭61−158787号参照) HH>HL>σw/2Msh (σwは第1磁性層と第2磁性層間の磁壁エネ
ルギー、Msは第2磁性層の飽和磁化、hは第2
磁性の膜厚) 本発明者等が引き続き研究した結果によれば、
特に第1磁性層と第2磁性層の間の磁壁エネルギ
ーを制御して、上式を満たすようにしなければな
らないことががわかつた。
磁壁エネルギーを調整する一つの方法として、
第1磁性層を形成した後、第2磁性層を形成する
前、高真空中に数時間〜数日放置する方法があ
る。この方法において、適正な放置時間は成膜装
置により異なるが、最も大きな問題は媒体の製作
に時間がかかりすぎるという点である。
本発明は上述の欠点を除去し、重ね書き可能で
且つ短時間に容易に作成できる光磁気記録媒体を
提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者は上記目的を達成すべく様々な層構成
及び媒体作成法について研究を重ねた結果、第1
の磁性層と第2の磁性層の間に調整層を設けるこ
とが、磁壁エネルギーの調整と媒体の作製効率の
向上とに極めて有効であることを見い出し本発明
を完成するに至つた。すなわち、本発明は、基板
上に希土類と遷移金属の合金からなる第1磁性層
と第2磁性層とが少なくとも積層されており、該
両磁性層が交換結合している光磁気記録媒体にお
いて、該両磁性間の磁壁エネルギーを調整するた
めの調整層が、該両磁性層の間に設けられてお
り、これによつて下式を満たすことを特徴とする
光磁気記録媒体。
HH>HL>σw/2Msh (σwは第1磁性層 と第2磁性層感の磁壁エ
ネルギー、Msは第2磁性層の飽和磁化、hは第
2磁性の膜厚を示す) 以下、図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。まず、第5図に特願昭61−158787号で提案し
た光磁気記録媒体の一例を示す。
この光磁気記録媒体は、プリグルーブが設けら
れた透光性の基板1上に、第1の磁性層2と第2
の磁性層3が積層されたものである。第1磁性層
2は低いキユリー点TLと高い保磁力HHを有し、
第2磁性層3は、高いキユリー点THと低い保磁
力HLを有する。ここで「高い」、「低い」とは両
磁性層を比較した場合の相対的な関係を表わす
(保磁力は室温における比較)。ただし、通常は第
1磁性層2のTLは70〜180℃、HHは、3〜
10KOe、第2磁性層3のTHは150〜400℃、HL
0.5〜5KOe程度の範囲内である。
この媒体が HH>HL>σw/2Msh を満たすように形成されていた。
各磁性層の材料には、GdCo,GdFe,TbFe,
DyFe,GdTbFe,TbDyFe,GdFeCo,
TbFeCo,GdTbCo等の希土類元素と遷移金属元
素との非晶質磁性合金が好ましい。
また、MnBi,CoCrの多結晶系、ガーネツト系
等も利用できる。
本発明は上述したような光磁気記録媒体の第1
磁性層と第2磁性層との間に調整層を設けたもの
であり、この層によつて磁陰エネルギーを調整
し、媒体が上式を満たすようにしたものである。
調整層の材料としては、磁性層を劣化させない
材料の中から選べばよく、例えば、Ti,Cr,Al,
Ni,Fe,Co,希土類、希土類フツ化物が好適で
ある。
この短時間に形成できる調整層によつて、光磁
気記録媒体は、前記の式を満たすような特性を容
易に備えることができる。ただし、第1、2磁性
層の材料や膜厚により、この調整層をどの程度の
膜厚にすればよいかは変わつてくるので、調整層
の膜厚は適宜選べばよい。普通は5〜50Åの範囲
内から選べばよい。
かかる本発明の光磁気記録媒体の実施態様を第
1,2図に示す。これらの図において、4が調整
層を示す。
両媒体のうち、第2図に示すものは、実用性を
向上するためトラツキング溝のある透光性基板1
を用い、更に保護層5,6を設けた構造を示して
いる。(番号1〜3の示すものは既出) 〔実施例〕 3元のターゲーツト源を備えたスパツタ装置内
に、プリグルーブ、プリフオーマツト信号の刻ま
れたポリカーボネート製のデイスク状基板を、タ
ーゲーツトとの間の距離10cmの間隔にセツトし、
回転させた。
アルゴン中で、第1のターゲツトより、スパツ
タ速度100Å/min、スパツタ圧5×10-3Torrで
ZnSを保護層として1000Åの厚さに設けた。次に
アルゴン中で、第2のターゲツトよりスパツタ速
度100Å/min、スパツタ圧5×10-3TorrでTbFe
合金をスパツタし、膜厚500Å、TL=約140℃、
HH=約5KOeのTb18Fe82の第1磁性層を形成し
た。
次にアルゴン中でスパツタ圧5×10-3Torrで
Coを調整層として10Åの厚さに成膜した。その
後アルゴン中でスパツタ圧5×10-3Torrで第2
と第3のターゲツトによりTbFeとCoとを同時ス
パツタし、膜厚約200Å、TH約250℃、HL
2KOeのTb15Fe68Co17の第2磁性層を形成した。
次にアルゴン中で第1のターゲツトよりスパツ
タ速度100Å/min、スパツタ圧5×10-3Torrで、
ZnSを保護層として3000Åの厚さに設けた。
次に上記の膜形成を終えた基板を、ホツトメル
ト接着剤を用いて、ポリカーボネートの貼り合わ
せ用基板と貼り合わせ光磁気デイスクを作成し
た。この光磁気デイスクを記録再生装置にセツト
し、2.5KOeの磁界発生部を、線速度約8m/sec
で通過させつつ、約1.5μに集光した830mmの波長
のレーザービームを50%のデユーテイで2MHzで
変調させながら、4mWと8mWの2値のレーザー
パワーで記録を行なつた。バイアス磁界は100Oe
であつた。その後1.5mWのレーザービームを照
射して再生を行なつたところ、2値の信号の再生
ができた。
次に上記の記録を行なつた後の光磁気デイスク
に記録周波数を1.5MHzに変えて上記と同様の方
法で記録を行なつた。この結果、前に記録された
信号成分を検出されず、オーバーライトが可能で
あつた。
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したように、前記の要件を満た
す、交換結合している第1磁性層と第2磁性層と
を有する光磁気記録媒体において、該両磁性層間
に調整層を設けることにより、オーバーライト可
能な光磁気記録媒体を短時間で容易に作成するこ
とが可能になつた。
【図面の簡単な説明】
第1、第2図は、各々本発明の一実施態様を示
す図、第3、第4図は本発明の光磁気記録媒体を
利用する記録方式を説明するための図、第5図は
本出願人が以前特開昭61−158787号で提案した記
録媒体の一例示す図である。 2,3……磁性層、4……調整層、5,6……
保護層、31……記録・再生用ヘツド、32……
記録信号発生器、35……光磁気デイスク。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基板上に希土類と遷移金属合金からなる第1
    磁性層と第2磁性層とが少なくとも積層されてお
    り、該両磁性層が交換結合している光磁気記録媒
    体において、該両磁性層間の磁壁エネルギーを調
    整するための調整層が、該両磁性層の間に設けら
    れており、これによつて下式を満たすことを特徴
    とする光磁気記録媒体。 HH>HL>σw/2Msh (σwは第1磁性層と第2磁性層間の磁壁エネ
    ルギー、Msは第2磁性層の飽和磁化、hは第2
    磁性の膜厚を示す)
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