JP2589453B2 - 光磁気記録方法 - Google Patents
光磁気記録方法Info
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- JP2589453B2 JP2589453B2 JP11738594A JP11738594A JP2589453B2 JP 2589453 B2 JP2589453 B2 JP 2589453B2 JP 11738594 A JP11738594 A JP 11738594A JP 11738594 A JP11738594 A JP 11738594A JP 2589453 B2 JP2589453 B2 JP 2589453B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体を使用
した重ね書き可能な光磁気記録方法、特に交換結合多層
膜を用いた光磁気記録媒体を使用した光磁気記録方法に
関する。
した重ね書き可能な光磁気記録方法、特に交換結合多層
膜を用いた光磁気記録媒体を使用した光磁気記録方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】消去可能な光ディスクメモリとして光磁
気ディスクが知られている。光磁気ディスクは、従来の
磁気ヘッドを使った磁気記録媒体と比べて高密度記録、
非接触での記録再生などが可能であるという長所がある
反面、記録前に一度記録部分を消去しなければならない
（一方向に着磁しなければならない）という欠点があっ
た。この欠点を補う為に、記録再生用ヘッドを消去用ヘ
ッドを別々に設ける方式、あるいは、レーザーの連続ビ
ームを照射しながら、同時に印加する磁場を変調しなが
ら記録する方式などが提案されている。
気ディスクが知られている。光磁気ディスクは、従来の
磁気ヘッドを使った磁気記録媒体と比べて高密度記録、
非接触での記録再生などが可能であるという長所がある
反面、記録前に一度記録部分を消去しなければならない
（一方向に着磁しなければならない）という欠点があっ
た。この欠点を補う為に、記録再生用ヘッドを消去用ヘ
ッドを別々に設ける方式、あるいは、レーザーの連続ビ
ームを照射しながら、同時に印加する磁場を変調しなが
ら記録する方式などが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
は、装置が大がかりとなり、コスト高になる欠点あるい
は高速の変調が出来ないなどの欠点を有していた。
は、装置が大がかりとなり、コスト高になる欠点あるい
は高速の変調が出来ないなどの欠点を有していた。
【０００４】これらの欠点を除去し、重ね書き（オーバ
ーライト）を可能とする光磁気記録方式を本出願人は昭
和６１年８月１１日付け特願昭６１−１５８７８７号で
提案した。この光磁気記録方式は、低いキュリー点（Ｔ
L ）と高い保磁力（ＨH ）を有する第１磁性層と、この
磁性層に比べて相対的に高いキュリー点（ＴH ）と低い
保磁力（ＨL ）を有する第２磁性層からなる二層構造の
垂直磁化膜を基板上に有して成る光磁気記録媒体を使用
して、特定の２値の記録を行なうことを特徴とする記録
方式である。
ーライト）を可能とする光磁気記録方式を本出願人は昭
和６１年８月１１日付け特願昭６１−１５８７８７号で
提案した。この光磁気記録方式は、低いキュリー点（Ｔ
L ）と高い保磁力（ＨH ）を有する第１磁性層と、この
磁性層に比べて相対的に高いキュリー点（ＴH ）と低い
保磁力（ＨL ）を有する第２磁性層からなる二層構造の
垂直磁化膜を基板上に有して成る光磁気記録媒体を使用
して、特定の２値の記録を行なうことを特徴とする記録
方式である。
【０００５】上述の記録方式における第１種の記録及び
第２種の記録を安定に行なうため、該方式を使用する光
磁気記録媒体が、次の式を満たす特性を、もつことが必
要であることはわかっていた。（詳細は特願昭６１−１
５８７８７号参照）
第２種の記録を安定に行なうため、該方式を使用する光
磁気記録媒体が、次の式を満たす特性を、もつことが必
要であることはわかっていた。（詳細は特願昭６１−１
５８７８７号参照）
【０００６】
【数２】 （ＨH は第１磁性層の保磁力、ＨL は第２磁性層の保磁
力、σｗは第１磁性層と第２磁性層間の磁壁エネルギ
ー、Ｍｓは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層の膜
厚を示す。）そして、本発明者等が引き続き研究した結
果によれば、特に第１磁性層と第２磁性層の間の磁壁エ
ネルギーを制御して、上式を満たすようにしなければな
らないことがわかった。磁壁エネルギーを調整する一つ
の方法として、第１磁性層を形成した後、第２磁性層を
形成する前、高真空中に数時間〜数日放置する方法があ
る。この方法において、適正な放置時間は成膜装置によ
り異なるが、最も大きな問題は媒体の製作に時間がかか
りすぎるという点である。
力、σｗは第１磁性層と第２磁性層間の磁壁エネルギ
ー、Ｍｓは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層の膜
厚を示す。）そして、本発明者等が引き続き研究した結
果によれば、特に第１磁性層と第２磁性層の間の磁壁エ
ネルギーを制御して、上式を満たすようにしなければな
らないことがわかった。磁壁エネルギーを調整する一つ
の方法として、第１磁性層を形成した後、第２磁性層を
形成する前、高真空中に数時間〜数日放置する方法があ
る。この方法において、適正な放置時間は成膜装置によ
り異なるが、最も大きな問題は媒体の製作に時間がかか
りすぎるという点である。
【０００７】また更に、その様な方法にて磁壁エネルギ
ーを調整した媒体においては、熱の影響によって調整さ
れた磁壁エネルギーが変化し易いという問題もある。そ
の結果、その様な媒体を使用した記録方法では、長時間
安定な記録を行なえないという問題があった。
ーを調整した媒体においては、熱の影響によって調整さ
れた磁壁エネルギーが変化し易いという問題もある。そ
の結果、その様な媒体を使用した記録方法では、長時間
安定な記録を行なえないという問題があった。
【０００８】本発明は上述の欠点を除去し、重ね書き可
能で且つ短時間に容易に作成できる光磁気記録媒体を使
用し、長時間安定な記録を行なえる光磁気記録方法を提
供することにある。
能で且つ短時間に容易に作成できる光磁気記録媒体を使
用し、長時間安定な記録を行なえる光磁気記録方法を提
供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成すべく様々な層構成及び媒体作製法について研究を重
ねた結果、第１の磁性層と第２の磁性層の間に調整層を
設けることが、磁壁エネルギーの調整と媒体の作製効率
の向上とに極めて有効であり、かつ長時間安定な記録が
可能になることを見い出し本発明を完成するに至った。
成すべく様々な層構成及び媒体作製法について研究を重
ねた結果、第１の磁性層と第２の磁性層の間に調整層を
設けることが、磁壁エネルギーの調整と媒体の作製効率
の向上とに極めて有効であり、かつ長時間安定な記録が
可能になることを見い出し本発明を完成するに至った。
【００１０】すなわち本発明は、基板上に希土類と遷移
金属合金からなる第１磁性層と第２磁性層とが少なくと
も積層されており、該両磁性層が交換結合して、かつ前
記第１磁性層の磁化を反転させることなく前記第２磁性
層の磁化のみを一方向に磁化可能な光磁気記録媒体であ
って、該両磁性層間の磁壁エネルギーを調整するための
調整層が、該両磁性層の間に設けられており、これによ
って下式
金属合金からなる第１磁性層と第２磁性層とが少なくと
も積層されており、該両磁性層が交換結合して、かつ前
記第１磁性層の磁化を反転させることなく前記第２磁性
層の磁化のみを一方向に磁化可能な光磁気記録媒体であ
って、該両磁性層間の磁壁エネルギーを調整するための
調整層が、該両磁性層の間に設けられており、これによ
って下式
【００１１】
【数３】 （ＨH は第１磁性層の保磁力、ＨL は第２磁性層の保磁
力、σｗは第１磁性層と第２磁性層間の磁壁エネルギ
ー、Ｍｓは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層の膜
厚を示す）を満たしている光磁気記録媒体を使用して、
次の二値の記録を行なうことを特徴とする記録方法であ
る。
力、σｗは第１磁性層と第２磁性層間の磁壁エネルギ
ー、Ｍｓは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層の膜
厚を示す）を満たしている光磁気記録媒体を使用して、
次の二値の記録を行なうことを特徴とする記録方法であ
る。
【００１２】（ａ） 保磁力ＨH の第１磁性層の磁化の
向きを反転させることなく、保磁力ＨL の第２磁性層を
一方向に磁化させ、（ｂ） 次に、記録ヘッドにより、
バイアス磁界を印加すると同時に第１磁性層のキュリー
点付近まで該媒体が昇温するだけのレーザーパワーを照
射することにより、第２磁性層の磁化の向きを変えない
まま第１磁性層の磁化の向きを第２磁性層に対して安定
な向きにそろえる第１種の予備記録か、バイアス磁界を
印加すると同時に第２磁性層のキュリー点付近まで該媒
体が昇温するだけのレーザーパワーを照射することによ
り、第２磁性層の磁化の向きを反転させて、同時に第１
磁性層を第２磁性層に対して安定な向きに磁化する第２
種の予備記録かを、信号に応じて実施する二値の記録。
向きを反転させることなく、保磁力ＨL の第２磁性層を
一方向に磁化させ、（ｂ） 次に、記録ヘッドにより、
バイアス磁界を印加すると同時に第１磁性層のキュリー
点付近まで該媒体が昇温するだけのレーザーパワーを照
射することにより、第２磁性層の磁化の向きを変えない
まま第１磁性層の磁化の向きを第２磁性層に対して安定
な向きにそろえる第１種の予備記録か、バイアス磁界を
印加すると同時に第２磁性層のキュリー点付近まで該媒
体が昇温するだけのレーザーパワーを照射することによ
り、第２磁性層の磁化の向きを反転させて、同時に第１
磁性層を第２磁性層に対して安定な向きに磁化する第２
種の予備記録かを、信号に応じて実施する二値の記録。
【００１３】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。まず、図５に特願昭６１−１５８７８７号で提案
した光磁気記録媒体の一例を示す。
する。まず、図５に特願昭６１−１５８７８７号で提案
した光磁気記録媒体の一例を示す。
【００１４】この光磁気記録媒体は、プリグルーブが設
けられた透光性の基板１上に、第１の磁性層２と第２の
磁性層３が積層されたものである。第１磁性層２は低い
キュリー点（ＴL ）と高い保磁力（ＨH ）を有し、第２
磁性層３は、高いキュリー点（ＴH ）と低い保磁力（Ｈ
L ）を有する。ここで「高い」、「低い」とは両磁性層
を比較した場合の相対的な関係を表わす（保磁力は室温
における比較）。ただし、通常は第１磁性層２のＴL は
７０〜１８０℃、ＨH は、３〜１０ＫＯｅ、第２磁性層
３のＴH は１５０〜４００℃、ＨL は０．５〜５０ＫＯ
ｅ程度の範囲内である。この媒体は下記式を満たすよう
に形成されていた。
けられた透光性の基板１上に、第１の磁性層２と第２の
磁性層３が積層されたものである。第１磁性層２は低い
キュリー点（ＴL ）と高い保磁力（ＨH ）を有し、第２
磁性層３は、高いキュリー点（ＴH ）と低い保磁力（Ｈ
L ）を有する。ここで「高い」、「低い」とは両磁性層
を比較した場合の相対的な関係を表わす（保磁力は室温
における比較）。ただし、通常は第１磁性層２のＴL は
７０〜１８０℃、ＨH は、３〜１０ＫＯｅ、第２磁性層
３のＴH は１５０〜４００℃、ＨL は０．５〜５０ＫＯ
ｅ程度の範囲内である。この媒体は下記式を満たすよう
に形成されていた。
【００１５】
【数４】 各磁性層の材料には、ＧｄＣｏ，ＧｄＦｅ，ＴｂＦｅ，
ＤｙＦｅ，ＧｄＴｂＦｅ，ＴｂＤｙＦｅ，ＧｄＦｅＣ
ｏ，ＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＣｏ等の希土類元素と遷移
金属元素との非晶質磁性合金が好ましい。
ＤｙＦｅ，ＧｄＴｂＦｅ，ＴｂＤｙＦｅ，ＧｄＦｅＣ
ｏ，ＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＣｏ等の希土類元素と遷移
金属元素との非晶質磁性合金が好ましい。
【００１６】また、ＭｎＢｉ，ＣｏＣｒの多結晶系、ガ
ーネット系等も利用できる。
ーネット系等も利用できる。
【００１７】本発明は上述したような光磁気記録媒体の
第１磁性層と第２磁性層の間に調整層を設け、この層に
よって磁壁エネルギーを調整し、媒体が上式を満たすよ
うにしたものを使用する方法である。
第１磁性層と第２磁性層の間に調整層を設け、この層に
よって磁壁エネルギーを調整し、媒体が上式を満たすよ
うにしたものを使用する方法である。
【００１８】調整層の材料としては、磁性層を劣化させ
ない材料の中から選べばよく、例えば、Ｔｉ，Ｃｒ，Ａ
ｌ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，希土類、希土類フッ化物が好適
である。
ない材料の中から選べばよく、例えば、Ｔｉ，Ｃｒ，Ａ
ｌ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，希土類、希土類フッ化物が好適
である。
【００１９】この短時間に形成できる調整層によって、
光磁気記録媒体は、前記の式を満たすような特性を容易
に備えることができる。ただし、第１，第２磁性層の材
料や膜厚により、この調整層をどの程度の膜厚にすれば
よいかは変わってくるので、調整層の膜厚は適宜選べば
よい。普通は５〜５０Åの範囲内から選べばよい。
光磁気記録媒体は、前記の式を満たすような特性を容易
に備えることができる。ただし、第１，第２磁性層の材
料や膜厚により、この調整層をどの程度の膜厚にすれば
よいかは変わってくるので、調整層の膜厚は適宜選べば
よい。普通は５〜５０Åの範囲内から選べばよい。
【００２０】かかる本発明の光磁気記録媒体の実施態様
は図１，図２に示す。これらの図において、４が調整層
を示す。
は図１，図２に示す。これらの図において、４が調整層
を示す。
【００２１】両媒体のうち、図２に示すものは、実用性
を向上するためトラッキング溝のある透光性基板１を用
い、更に保護層５，６を設けた構造を示している。（番
号１〜３の示すものは既出）次に、この様な光磁気記録
媒体を使用した本発明の方法による二値の記録を、図４
を参照しつつ説明する。
を向上するためトラッキング溝のある透光性基板１を用
い、更に保護層５，６を設けた構造を示している。（番
号１〜３の示すものは既出）次に、この様な光磁気記録
媒体を使用した本発明の方法による二値の記録を、図４
を参照しつつ説明する。
【００２２】（イ）まず、例えば図４（ａ）のような磁
化状態にある上記媒体（図３の３５）に対して、記録用
ヘッド３１と異なる場所で磁性発生手段３４により、保
磁力ＨL の第２磁性層を一方向に磁化させるのに充分で
保磁力ＨH の第１磁性層の磁化の向きを反転させること
のない大きさの磁界Ｂを加える（こうすると図４（ｂ）
の状態になる）。
化状態にある上記媒体（図３の３５）に対して、記録用
ヘッド３１と異なる場所で磁性発生手段３４により、保
磁力ＨL の第２磁性層を一方向に磁化させるのに充分で
保磁力ＨH の第１磁性層の磁化の向きを反転させること
のない大きさの磁界Ｂを加える（こうすると図４（ｂ）
の状態になる）。
【００２３】（ロ）次に、この媒体３５を回転させ図４
（ｂ）の状態になった地点に、記録ヘッド３１により、
バイアス磁界を印加すると同時に、低いキュリー点（Ｔ
L ）付近まで該媒体３５が昇温するだけのレザーパワー
を、照射することにより、第２磁性層の磁化の向きを変
えないまま第１磁性層の磁化の向きを第２磁性層に対し
て安定な向きにそろえる第１種の予備記録か、バイアス
磁界を印加すると同時に高いキュリー点（ＴH ）付近ま
で該媒体３５が昇温するだけのレザーパワーを照射する
ことにより、第２磁性層の磁化の向きを反転させて同時
に第１磁性層も第２磁性層に対して安定な向きに磁化す
る第２種の予備記録かを、信号に応じて実施する（第１
種の予備記録により図４（ｂ）のいずれの状態からも図
４（ｃ）の状態になり、第２種の予備記録により図４
（ｂ）のいずれの状態からも図４（ｄ）の状態にな
る）。
（ｂ）の状態になった地点に、記録ヘッド３１により、
バイアス磁界を印加すると同時に、低いキュリー点（Ｔ
L ）付近まで該媒体３５が昇温するだけのレザーパワー
を、照射することにより、第２磁性層の磁化の向きを変
えないまま第１磁性層の磁化の向きを第２磁性層に対し
て安定な向きにそろえる第１種の予備記録か、バイアス
磁界を印加すると同時に高いキュリー点（ＴH ）付近ま
で該媒体３５が昇温するだけのレザーパワーを照射する
ことにより、第２磁性層の磁化の向きを反転させて同時
に第１磁性層も第２磁性層に対して安定な向きに磁化す
る第２種の予備記録かを、信号に応じて実施する（第１
種の予備記録により図４（ｂ）のいずれの状態からも図
４（ｃ）の状態になり、第２種の予備記録により図４
（ｂ）のいずれの状態からも図４（ｄ）の状態にな
る）。
【００２４】（ハ）次に、該媒体３５を回転させて、予
備記録されたビットを、磁界発生手段３４による前記磁
界Ｂを通過させることにより、第１種の予備記録により
形成されたビット（ｃ）については磁化の向きをそのま
ま変化させず（第１種の記録の完了、即ち第４図（ｅ）
の状態にすること）、第２種の予備記録により形成され
たビット（ｄ）については第２磁性層の磁化の向きだけ
を前記磁界Ｂと同方向に反転させる（第２種の記録完
了、即ち図４（ｆ）の状態にすること）。この様な二値
の記録により、重ね書き（オーバーライト）が可能とな
る。
備記録されたビットを、磁界発生手段３４による前記磁
界Ｂを通過させることにより、第１種の予備記録により
形成されたビット（ｃ）については磁化の向きをそのま
ま変化させず（第１種の記録の完了、即ち第４図（ｅ）
の状態にすること）、第２種の予備記録により形成され
たビット（ｄ）については第２磁性層の磁化の向きだけ
を前記磁界Ｂと同方向に反転させる（第２種の記録完
了、即ち図４（ｆ）の状態にすること）。この様な二値
の記録により、重ね書き（オーバーライト）が可能とな
る。
【００２５】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。
する。
【００２６】＜実施例１＞３元のターゲット源を備えた
スパッタ装置内に、プリグルーブ、プリフォーマット信
号の刻まれたポリカーボネート製のディスク状基板を、
ターゲットとの間の距離１０ｃｍの間隔にセットし、回
転させた。
スパッタ装置内に、プリグルーブ、プリフォーマット信
号の刻まれたポリカーボネート製のディスク状基板を、
ターゲットとの間の距離１０ｃｍの間隔にセットし、回
転させた。
【００２７】アルゴン中で、第１のターゲットより、ス
パッタ速度１００Å／ｍｉｎ、スパッタ圧５×１０-3Ｔ
ｏｒｒでＺｎＳを保護層として１０００Åの厚さに設け
た。次にアルゴン中で、第２のターゲットよりスパッタ
速度１００Å／ｍｉｎ、スパッタ圧５×１０-3Ｔｏｒｒ
でＴｂＦｅ合金をスパッタし、膜厚５００ 、ＴL ＝約
１４０℃、ＨH ＝約５ＫＯｅのＴｂ18Ｆｅ82の第１磁性
層を形成した。
パッタ速度１００Å／ｍｉｎ、スパッタ圧５×１０-3Ｔ
ｏｒｒでＺｎＳを保護層として１０００Åの厚さに設け
た。次にアルゴン中で、第２のターゲットよりスパッタ
速度１００Å／ｍｉｎ、スパッタ圧５×１０-3Ｔｏｒｒ
でＴｂＦｅ合金をスパッタし、膜厚５００ 、ＴL ＝約
１４０℃、ＨH ＝約５ＫＯｅのＴｂ18Ｆｅ82の第１磁性
層を形成した。
【００２８】次にアルゴン中でスパッタ圧５×１０-3Ｔ
ｏｒｒでＣｏを調整層として１０の厚さに成膜した。そ
の後アルゴン中でスパッタ圧５×１０-3Ｔｏｒｒで第２
と第３のターゲットによりＴｂＦｅとＣｏとを同時スパ
ッタし、膜厚約２００Å、ＴH 約２５０℃、ＨL 約２Ｋ
ＯｅのＴｂ15Ｆｅ68Ｃｏ17の第２磁性層を形成した。
ｏｒｒでＣｏを調整層として１０の厚さに成膜した。そ
の後アルゴン中でスパッタ圧５×１０-3Ｔｏｒｒで第２
と第３のターゲットによりＴｂＦｅとＣｏとを同時スパ
ッタし、膜厚約２００Å、ＴH 約２５０℃、ＨL 約２Ｋ
ＯｅのＴｂ15Ｆｅ68Ｃｏ17の第２磁性層を形成した。
【００２９】次にアルゴン中で第１のターゲットよりス
パッタ速度１００Å／ｍｉｎ、スパッタ圧５×１０-3Ｔ
ｏｒｒで、ＺｎＳを保護層として３０００Åの厚さに設
けた。
パッタ速度１００Å／ｍｉｎ、スパッタ圧５×１０-3Ｔ
ｏｒｒで、ＺｎＳを保護層として３０００Åの厚さに設
けた。
【００３０】次に上記の膜形成を終えた基板を、ホット
メルト接着剤を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ
用基板を貼り合わせ光磁気ディスクを作成した。この光
磁気ディスクを記録再生装置にセットし、２．５ＫＯｅ
の磁界発生部を、線速度約８ｍ／ｓｅｃで通過させつ
つ、約１．５μに集光した８３０ｍｍの波長のレーザー
ビームを５０％のデューティで２ＭＨｚで変調させなが
ら、４ｍＷと８ｍＷの２値のレーザーパワーで記録を行
なった。バイアス磁界は１００ Ｏｅであった。その後
１．５ｍＷのレーザーパワーを照射して再生を行なった
ところ、２値の信号の再生ができた。
メルト接着剤を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ
用基板を貼り合わせ光磁気ディスクを作成した。この光
磁気ディスクを記録再生装置にセットし、２．５ＫＯｅ
の磁界発生部を、線速度約８ｍ／ｓｅｃで通過させつ
つ、約１．５μに集光した８３０ｍｍの波長のレーザー
ビームを５０％のデューティで２ＭＨｚで変調させなが
ら、４ｍＷと８ｍＷの２値のレーザーパワーで記録を行
なった。バイアス磁界は１００ Ｏｅであった。その後
１．５ｍＷのレーザーパワーを照射して再生を行なった
ところ、２値の信号の再生ができた。
【００３１】次に上記の記録を行なった後の光磁気ディ
スクに記録周波数を１．５ＭＨｚに変えて上記と同様の
方法で記録を行なった。この結果、前に記録された信号
成分を検出されず、オーバーライトが可能であった。
スクに記録周波数を１．５ＭＨｚに変えて上記と同様の
方法で記録を行なった。この結果、前に記録された信号
成分を検出されず、オーバーライトが可能であった。
【００３２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、前記の要件
を満たす交換結合している第１磁性層と第２磁性層とを
有する光磁気記録媒体において、該両磁性層間に調整層
を設けることにより、オーバーライト可能な光磁気記録
媒体を短時間で容易に作成することが可能になり、同時
に長時間安定な記録を行なえる光磁気記録方法の提供が
可能となった。
を満たす交換結合している第１磁性層と第２磁性層とを
有する光磁気記録媒体において、該両磁性層間に調整層
を設けることにより、オーバーライト可能な光磁気記録
媒体を短時間で容易に作成することが可能になり、同時
に長時間安定な記録を行なえる光磁気記録方法の提供が
可能となった。
【図１】本発明で使用する光磁気記録媒体の一実施態様
を示す図である。
を示す図である。
【図２】本発明で使用する光磁気記録媒体の一実施態様
を示す図である。
を示す図である。
【図３】本発明の記録方法を説明するための図である。
【図４】本発明の記録方法を説明するための図である。
【図５】本出願人が以前特開昭６１−１５８７８７号で
提案した記録媒体の一例を示す図である。
提案した記録媒体の一例を示す図である。
２，３ 磁性層 ４ 調整層 ５，６ 保護層 ３１ 記録再生用ヘッド ３２ 記録信号発生器 ３５ 光磁気ディスク
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に希土類と遷移金属合金からなる
第１磁性層と第２磁性層とが少なくとも積層されてお
り、該両磁性層が交換結合して、かつ前記第１磁性層の
磁化を反転させることなく前記第２磁性層の磁化のみを
一方向に磁化可能な光磁気記録媒体であって、 該両磁性層間の磁壁エネルギーを調整するための調整層
が、該両磁性層の間に設けられており、これによって下
式 【数１】 （ＨH は第１磁性層の保磁力、ＨL は第２磁性層の保磁
力、σｗは第１磁性層と第２磁性層間の磁壁エネルギ
ー、Ｍｓは第２磁性層の飽和磁化、ｈは第２磁性層の膜
厚を示す）を満たしている光磁気記録媒体を使用して、
次の二値の記録を行なうことを特徴とする記録方法。 （ａ） 保磁力ＨH の第１磁性層の磁化の向きを反転さ
せることなく、保磁力ＨL の第２磁性層を一方向に磁化
させ、 （ｂ） 次に、記録ヘッドにより、バイアス磁界を印加
すると同時に第１磁性層のキュリー点付近まで該媒体が
昇温するだけのレーザーパワーを照射することにより、
第２磁性層の磁化の向きを変えないまま第１磁性層の磁
化の向きを第２磁性層に対して安定な向きにそろえる第
１種の予備記録か、バイアス磁界を印加すると同時に第
２磁性層のキュリー点付近まで該媒体が昇温するだけの
レーザーパワーを照射することにより、第２磁性層の磁
化の向きを反転させて、同時に第１磁性層を第２磁性層
に対して安定な向きに磁化する第２種の予備記録かを、
信号に応じて実施する二値の記録。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11738594A JP2589453B2 (ja) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | 光磁気記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11738594A JP2589453B2 (ja) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | 光磁気記録方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61262034A Division JPS63117354A (ja) | 1986-06-18 | 1986-11-05 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06342539A JPH06342539A (ja) | 1994-12-13 |
| JP2589453B2 true JP2589453B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=14710345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11738594A Expired - Lifetime JP2589453B2 (ja) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | 光磁気記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2589453B2 (ja) |
-
1994
- 1994-05-09 JP JP11738594A patent/JP2589453B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06342539A (ja) | 1994-12-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |