JPS63153752A - 光磁気記録媒体及びその記録方法 - Google Patents
光磁気記録媒体及びその記録方法Info
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- JPS63153752A JPS63153752A JP62020384A JP2038487A JPS63153752A JP S63153752 A JPS63153752 A JP S63153752A JP 62020384 A JP62020384 A JP 62020384A JP 2038487 A JP2038487 A JP 2038487A JP S63153752 A JPS63153752 A JP S63153752A
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- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気カー効果を利用して読出しすることので
きるキュリー点書込みタイプの光磁気記録媒体を使用し
た、重ね書き可能な光磁気記録方法に関する。
きるキュリー点書込みタイプの光磁気記録媒体を使用し
た、重ね書き可能な光磁気記録方法に関する。
（従来の技術）
消去可能な光デイスクメモリとして光磁気ディスクが知
られている。光磁気ディスクは、従来の磁気ヘッドを使
った磁気記録媒体と比べて高密度記録、非接触での記録
再生などが可能であるという長所がある反面、記録前に
一度記録部分を消去しなければならない（一方向に着磁
しなければならない）という欠点があった。この欠点を
補う為に、記録再生用ヘッドと消去用ヘッドを別々に設
ける方式、あるいは、レーザーの連続ビームを照射しな
がら、同時に印加する磁場を変調しながら記録する方式
などが提案されている。
られている。光磁気ディスクは、従来の磁気ヘッドを使
った磁気記録媒体と比べて高密度記録、非接触での記録
再生などが可能であるという長所がある反面、記録前に
一度記録部分を消去しなければならない（一方向に着磁
しなければならない）という欠点があった。この欠点を
補う為に、記録再生用ヘッドと消去用ヘッドを別々に設
ける方式、あるいは、レーザーの連続ビームを照射しな
がら、同時に印加する磁場を変調しながら記録する方式
などが提案されている。
しかし、これらの方法は、装置が大がかりとなり、コス
ト高になる欠点あるいは高速の変調が出来ないなどの欠
点を有する。
ト高になる欠点あるいは高速の変調が出来ないなどの欠
点を有する。
本発明は上述従来例の欠点を除去し、従来の装置構成に
簡易な構造の磁界発生手段を付設するだけで、磁気記録
媒体と同様な重ね書き（オーバーライド）を可能とした
、光磁気記録媒体及び記録方法を提供することを目的と
する。
簡易な構造の磁界発生手段を付設するだけで、磁気記録
媒体と同様な重ね書き（オーバーライド）を可能とした
、光磁気記録媒体及び記録方法を提供することを目的と
する。
上記目的達成可能な本発明は、
低いキュリー点（ＴＬ ）と高い保磁力（Ｈｏ）を有す
る第２磁性層と、この磁性層に比べて相対的に高いキュ
リー点（ＴＨ）と低い保磁力（ＨＬ ）を有する第２Ｍ
ｉ性層と、からなる二層構造の垂直磁化膜を基板上に有
して成る光磁気記録てあって、第２磁性層の飽和磁化を
Ｍｓ、膜厚をｈ、二層間の磁壁エネルギーをＯｗとする
と、を満たすように結合している光磁気記録媒体と、こ
れを使用して、次の二値の記録を行なうことを特徴とす
る記録方式である。
る第２磁性層と、この磁性層に比べて相対的に高いキュ
リー点（ＴＨ）と低い保磁力（ＨＬ ）を有する第２Ｍ
ｉ性層と、からなる二層構造の垂直磁化膜を基板上に有
して成る光磁気記録てあって、第２磁性層の飽和磁化を
Ｍｓ、膜厚をｈ、二層間の磁壁エネルギーをＯｗとする
と、を満たすように結合している光磁気記録媒体と、こ
れを使用して、次の二値の記録を行なうことを特徴とす
る記録方式である。
（ａ）該媒体に対して、記録用ヘットと異なる場所で、
保母力ＨＬの第２磁性層を一方向に磁化させるのに充分
で保磁力Ｈ□の第ｆｉｌ性層の磁化の向きを反転させる
ことのない大きさの磁界Ｂを加え、 （ｂ）次に、記録ヘッドにより、バイアス磁界を印加す
ると同時に低いキュリー点（ＴＬ）付近まで該媒体が昇
温するだけのレーザーパワーを照射することにより、第
２磁性層の磁化の向きを変えないまま第１磁性層の磁化
の向きを第２磁性層に対して安定な向きにそろえる第１
種の予備記録か、バイアス磁界を印加すると同時に高い
キュリー点（Ｔ）Ｉ ）付近まで該媒体が昇温するだけ
のレーザーパワーを照射することにより、第２磁性層の
磁化の向きを反転させて同時に第１磁性層も第２磁性層
に対して安定な向きに磁化する第２種の予備記録かを、
信号に応じて実施し、 （ｃ）次に、該媒体を運動させて、予備記録されたビッ
トを前記磁界Ｂを通過させることにより、第１種のＰ備
記録により形成されたビットについては第１磁性層、第
２磁性層とも磁化の向きをそのまま変化させず（第１！
４の記録）、 第２種の予備記録により形成されたビットについては第
２磁性層の磁化の向きだけを前記磁界Ｂと同方向に反転
させる（第２種の記録）、二値の記録。
保母力ＨＬの第２磁性層を一方向に磁化させるのに充分
で保磁力Ｈ□の第ｆｉｌ性層の磁化の向きを反転させる
ことのない大きさの磁界Ｂを加え、 （ｂ）次に、記録ヘッドにより、バイアス磁界を印加す
ると同時に低いキュリー点（ＴＬ）付近まで該媒体が昇
温するだけのレーザーパワーを照射することにより、第
２磁性層の磁化の向きを変えないまま第１磁性層の磁化
の向きを第２磁性層に対して安定な向きにそろえる第１
種の予備記録か、バイアス磁界を印加すると同時に高い
キュリー点（Ｔ）Ｉ ）付近まで該媒体が昇温するだけ
のレーザーパワーを照射することにより、第２磁性層の
磁化の向きを反転させて同時に第１磁性層も第２磁性層
に対して安定な向きに磁化する第２種の予備記録かを、
信号に応じて実施し、 （ｃ）次に、該媒体を運動させて、予備記録されたビッ
トを前記磁界Ｂを通過させることにより、第１種のＰ備
記録により形成されたビットについては第１磁性層、第
２磁性層とも磁化の向きをそのまま変化させず（第１！
４の記録）、 第２種の予備記録により形成されたビットについては第
２磁性層の磁化の向きだけを前記磁界Ｂと同方向に反転
させる（第２種の記録）、二値の記録。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図（ａ） 、 （ｂ）は各々本発明に用いる光磁気
記録媒体の一実施例を示す模式断面図である。第１図（
ａ）の光磁気記録媒体は、プリグループが設けられた透
光性の基板１上に、第１の磁性層２と第２の磁性層３が
積層されたものである。第１磁性層２は低いキュリー点
（”ｒｔ、）と高い保磁力（ＨＨ）を有し、第２＠性層
３は、高いキュリー点（Ｔ８）と低い保磁力（ＨＬ ）
を有する。ここで「高い」、「低い」とは両磁性層を比
較した場合の相対的な関係を表わす（保磁力は室温にお
ける比較）。ただし、通常は第１磁性層２のＴＬは７Ｏ
Ｎ１８０℃、ＨＨは、３〜ｌＯにＯｅ 、第２磁性層３
のＴ、は１５０〜４００℃、ＨＬは０．５〜２にＯｅ程
度の範囲内にするとよい。
記録媒体の一実施例を示す模式断面図である。第１図（
ａ）の光磁気記録媒体は、プリグループが設けられた透
光性の基板１上に、第１の磁性層２と第２の磁性層３が
積層されたものである。第１磁性層２は低いキュリー点
（”ｒｔ、）と高い保磁力（ＨＨ）を有し、第２＠性層
３は、高いキュリー点（Ｔ８）と低い保磁力（ＨＬ ）
を有する。ここで「高い」、「低い」とは両磁性層を比
較した場合の相対的な関係を表わす（保磁力は室温にお
ける比較）。ただし、通常は第１磁性層２のＴＬは７Ｏ
Ｎ１８０℃、ＨＨは、３〜ｌＯにＯｅ 、第２磁性層３
のＴ、は１５０〜４００℃、ＨＬは０．５〜２にＯｅ程
度の範囲内にするとよい。
本発明の光磁気記録方法においては、第１磁性層２が主
に再生に関与する。即ち、第１磁性層２が呈する磁気光
学効果が主に□再生に利用され、第２磁性層３は記録に
重要な役割りを果たす。
に再生に関与する。即ち、第１磁性層２が呈する磁気光
学効果が主に□再生に利用され、第２磁性層３は記録に
重要な役割りを果たす。
一方、従来の光磁気記録方法においては、交換結合二層
膜では、逆に、低いキュリー点と高い保磁力とを有する
磁性層は主に記録に関与し、高いキュリー点と低い保磁
力とを有する磁性層が主に再生に関与した。かかる従来
の交換結合二層膜では、後者の磁性層の飽和磁化Ｍｓと
、膜厚りと、二層間の磁壁エネルギーσｗの間に、次の
様な関係があるのが望ましかった。
膜では、逆に、低いキュリー点と高い保磁力とを有する
磁性層は主に記録に関与し、高いキュリー点と低い保磁
力とを有する磁性層が主に再生に関与した。かかる従来
の交換結合二層膜では、後者の磁性層の飽和磁化Ｍｓと
、膜厚りと、二層間の磁壁エネルギーσｗの間に、次の
様な関係があるのが望ましかった。
ＨＬ＞ −＞ ＨＬ
Ｍｓｈ
しかし、本発明に使用する記録媒体の交換結合二層膜で
は、第２磁性層３の飽和磁化Ｍｓと膜厚りと、二層間の
磁壁エネルギーσｗの間に、次の関係が必要である。
は、第２磁性層３の飽和磁化Ｍｓと膜厚りと、二層間の
磁壁エネルギーσｗの間に、次の関係が必要である。
この理由については後に詳述するが簡単に言えば、記録
によって最終的に完成されるビットの磁化状態（第２図
（ｆ）に示す）が安定に存在出来るようにするためであ
る。したがって、両磁性層２．３は上記の関係式を満た
すように各層の実効的バイアス磁界、膜厚、保磁力、飽
和磁化の大きさ、磁壁エネルギーなどを設定すればよい
。
によって最終的に完成されるビットの磁化状態（第２図
（ｆ）に示す）が安定に存在出来るようにするためであ
る。したがって、両磁性層２．３は上記の関係式を満た
すように各層の実効的バイアス磁界、膜厚、保磁力、飽
和磁化の大きさ、磁壁エネルギーなどを設定すればよい
。
各磁性層の材料には、垂直磁気異方性を示し且つ磁気光
学効果を呈するものが利用できるが、ＧｄＣｏ、 Ｇｄ
Ｆｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ、 ＧｄＴｂＦｅ、 Ｔ
ｂＤｙＦｅ、 ＧｄＦｅＣｏ、 ＴｂＦｅＣｏ、 Ｇｄ
ＴｂＣｏ、 ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の希土類元素と遷移金
属元素との非晶質磁性合金が好ましい。
学効果を呈するものが利用できるが、ＧｄＣｏ、 Ｇｄ
Ｆｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ、 ＧｄＴｂＦｅ、 Ｔ
ｂＤｙＦｅ、 ＧｄＦｅＣｏ、 ＴｂＦｅＣｏ、 Ｇｄ
ＴｂＣｏ、 ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の希土類元素と遷移金
属元素との非晶質磁性合金が好ましい。
第１図（ｂ）において、４．５は両磁性層２．３の耐久
性を向上させるためのあるいは光磁気効果を向上させる
ための保護膜である。
性を向上させるためのあるいは光磁気効果を向上させる
ための保護膜である。
６は、貼り合わせ用基板７を貼り合わすための接着層で
ある。貼り合わせ用基板７にも、２から５までの層を積
層し、これを接着すれば表裏で記録・再生が可能となる
。
ある。貼り合わせ用基板７にも、２から５までの層を積
層し、これを接着すれば表裏で記録・再生が可能となる
。
以下、第２図〜第４図を用いて記録の過程を示すが、記
録前、両磁性層２と３の磁化の安定な向きは平行（同じ
向き）でも反平行（逆方向）でも良い。第２図では磁化
の安定な向きが平行な場合について説明する。
録前、両磁性層２と３の磁化の安定な向きは平行（同じ
向き）でも反平行（逆方向）でも良い。第２図では磁化
の安定な向きが平行な場合について説明する。
第３図の３５は、上述したような構成を有する光磁気デ
ィスクである。例えば、この磁性層のある一部の磁化状
態が初め第２図（ａ）のようになっているとする。光磁
気ディスク３５はスピンドルモータにより回転して、磁
界発生部３４を通過する。このとき、磁界発生部３４の
磁界の大きさを両磁性層２と３の保磁力の間の適当値に
設定すると（磁界の向きは本実施例では上向き）、第２
図（ｂ）に示す様に第２磁性層３は一様な方向に磁化さ
れ、一方、第１磁性層２の磁化は初めのままである。
ィスクである。例えば、この磁性層のある一部の磁化状
態が初め第２図（ａ）のようになっているとする。光磁
気ディスク３５はスピンドルモータにより回転して、磁
界発生部３４を通過する。このとき、磁界発生部３４の
磁界の大きさを両磁性層２と３の保磁力の間の適当値に
設定すると（磁界の向きは本実施例では上向き）、第２
図（ｂ）に示す様に第２磁性層３は一様な方向に磁化さ
れ、一方、第１磁性層２の磁化は初めのままである。
次に光磁気ディスク３５が回転して記録・再生ヘッド３
１を通過するときに、記録信号発生器３２からの信号に
従って、２種類（第１種と第２！４）のレーザーパワー
値を持つレーザービームをディスク面に照射する。第１
種のレーザーパワーは該ディスクを第１磁性層２のキュ
リー点付近まで昇温するだけのパワーであり、第２種の
レーザーバワーは該ディスクを第２磁性層３のキュリー
点付近まで昇温可能なパワーである。即ち、両磁性層２
．３の保磁力と温度との関係の概略を示した第４図にお
いて、第１種のレーザーパワーはＴＬ付近、第２種のレ
ーザーパワーはＴＨ付近までディスクの温度を上昇でき
る。
１を通過するときに、記録信号発生器３２からの信号に
従って、２種類（第１種と第２！４）のレーザーパワー
値を持つレーザービームをディスク面に照射する。第１
種のレーザーパワーは該ディスクを第１磁性層２のキュ
リー点付近まで昇温するだけのパワーであり、第２種の
レーザーバワーは該ディスクを第２磁性層３のキュリー
点付近まで昇温可能なパワーである。即ち、両磁性層２
．３の保磁力と温度との関係の概略を示した第４図にお
いて、第１種のレーザーパワーはＴＬ付近、第２種のレ
ーザーパワーはＴＨ付近までディスクの温度を上昇でき
る。
第１種のレーザーパワーにより第１磁性層２は、キュリ
ー点付近まで昇温するが第２磁性層３はこの温度でビッ
トが安定に存在する保磁力を有しているので記録時のバ
イアス磁界を適正に設定しておくことにより、第２図（
ｂ）のいづれからも第２図（ｃ）の様な記録ビットが形
成される（第１種の予備記録）。
ー点付近まで昇温するが第２磁性層３はこの温度でビッ
トが安定に存在する保磁力を有しているので記録時のバ
イアス磁界を適正に設定しておくことにより、第２図（
ｂ）のいづれからも第２図（ｃ）の様な記録ビットが形
成される（第１種の予備記録）。
ここで、バイアス磁界を適正に設定するとは、次のよう
な意味である。即ち、第１種の予備記録では、第２Ｍｉ
性層３の磁化の向きに対して安定な向きに（ここでは同
じ方向に）第１磁性層２の磁化が配列する力（交換力）
を受けるので１本来はバイアス磁界は必要でない。しか
し、バイアス磁界は後述する第２種のレーザーパワーを
用いた予備記録では第２磁性層３の磁化反転を補助する
向き（すなわち、第１種の予備記録を妨げる向き）に設
定される。そして、このバイアス磁界は、第１種、第２
種どちらのレーザーパワーの予備記録でも、大きさ、方
向を同じ状態に設定しておくことが便宜上好ましい。
な意味である。即ち、第１種の予備記録では、第２Ｍｉ
性層３の磁化の向きに対して安定な向きに（ここでは同
じ方向に）第１磁性層２の磁化が配列する力（交換力）
を受けるので１本来はバイアス磁界は必要でない。しか
し、バイアス磁界は後述する第２種のレーザーパワーを
用いた予備記録では第２磁性層３の磁化反転を補助する
向き（すなわち、第１種の予備記録を妨げる向き）に設
定される。そして、このバイアス磁界は、第１種、第２
種どちらのレーザーパワーの予備記録でも、大きさ、方
向を同じ状態に設定しておくことが便宜上好ましい。
かかる観点からバイアス磁界の設定は次記に示す原理に
よる第２種のレーザーパワーの予備記録に必要鼓小限の
大きさに設定しておくことが好ましく、これを考慮した
設定が前でいう適正な設定である。
よる第２種のレーザーパワーの予備記録に必要鼓小限の
大きさに設定しておくことが好ましく、これを考慮した
設定が前でいう適正な設定である。
次に第２種の予備記録を説明する。第２種のレーザーパ
ワーにより、第２磁性層３のキュリー点近くまで昇温さ
せる（第２種の予備記録）と、上述のように設定された
バイアス磁界により第２磁性層３の磁化の向きが反転す
る。続いて第１！ｆｉ性層２の磁化も第２磁性層３に対
して安定な向きに（ここでは同じ方向に）配列する。即
ち、第２図（ｂ）のいづれからも第２図（ｄ）のような
ビットが形成される。
ワーにより、第２磁性層３のキュリー点近くまで昇温さ
せる（第２種の予備記録）と、上述のように設定された
バイアス磁界により第２磁性層３の磁化の向きが反転す
る。続いて第１！ｆｉ性層２の磁化も第２磁性層３に対
して安定な向きに（ここでは同じ方向に）配列する。即
ち、第２図（ｂ）のいづれからも第２図（ｄ）のような
ビットが形成される。
このように、バイアス磁界と、信号に応じて変わる第１
種及び第２種のレーザーパワーとによって、光磁気ディ
スクの各箇所は第２図（ｃ）か（ｄ）の状態に予備記録
されることになる。
種及び第２種のレーザーパワーとによって、光磁気ディ
スクの各箇所は第２図（ｃ）か（ｄ）の状態に予備記録
されることになる。
次に光磁気ディスク３５を回転させ、記録ビット（ｃ）
、 （ｄ）か磁界発生部３４を再び通過すると、磁界
発生部３４の磁界の大きさは前述したように磁性層２と
３の磁化反転磁界間に設定されているので、記録ビット
（ｃ）は、変化が起こらずに（ｅ）の状態である（最終
的な記録状態）。一方、記録ピッｌ−（ｄ）は第２磁性
層３が磁化反転を起こして（ｆ）の状態になる（もう一
つの最終的な記録状態）。
、 （ｄ）か磁界発生部３４を再び通過すると、磁界
発生部３４の磁界の大きさは前述したように磁性層２と
３の磁化反転磁界間に設定されているので、記録ビット
（ｃ）は、変化が起こらずに（ｅ）の状態である（最終
的な記録状態）。一方、記録ピッｌ−（ｄ）は第２磁性
層３が磁化反転を起こして（ｆ）の状態になる（もう一
つの最終的な記録状態）。
（ｆ）の記録ビットの状態が安定に存在する為には、第
２磁性層３の飽和磁化の大きさをＭＳ、膜厚をり、＠竹
屑２，３間の磁壁エネルギーをａｖｒとすると、前述し
たように次の様な関係があれば良い。
２磁性層３の飽和磁化の大きさをＭＳ、膜厚をり、＠竹
屑２，３間の磁壁エネルギーをａｖｒとすると、前述し
たように次の様な関係があれば良い。
σ Ｗ
−＜ ＨＬ ＜ ｔ−ｔ。
Ｍｓｈ
０ｗ７２Ｍ５ｈは第２磁性層に働く交換力の強さを示す
。つまり、０ｗ７２Ｍ５ｈの大きさの磁界で第２磁性層
３の磁化の向きを、第１磁性層２の磁化の向きに対して
安定な方向へ（この場合は同じ方向）向けようとする。
。つまり、０ｗ７２Ｍ５ｈの大きさの磁界で第２磁性層
３の磁化の向きを、第１磁性層２の磁化の向きに対して
安定な方向へ（この場合は同じ方向）向けようとする。
そこで第２磁性層３がこの磁界に抗して磁化が反転しな
いためには第２磁性層３の保磁力をＨＬとして）ｌＬ＞
ａｍ ７２Ｍ５ｈであればよい。
いためには第２磁性層３の保磁力をＨＬとして）ｌＬ＞
ａｍ ７２Ｍ５ｈであればよい。
言い換えれば、（ｆ）のビットが安定に存在できるため
には第１、第２！ｆ！性層の保磁力、実効的バイアス磁
界の大きさをＨｌ、ＨＬ、、Ｈ□０、ＨＬｅｆｔとする
と次の関係があれば良い。
には第１、第２！ｆ！性層の保磁力、実効的バイアス磁
界の大きさをＨｌ、ＨＬ、、Ｈ□０、ＨＬｅｆｔとする
と次の関係があれば良い。
ＨＨＨＬ４ｅｔｒ＞ ０、 ＨＬ ＨＬａｔｔ＞
０ＨＨ−Ｈｈｅｒｒ＞ＨＬ、＋ＨＬｅｒｒこれを第６図
を用いて説明する。（６−１）は第１ＶＡ性層単層に対
して印加した外部磁界の大きさく横軸）と第１磁性層の
磁化の大きさく縦軸）との関係を示すグラフである（Ｂ
−Ｈループ）。
０ＨＨ−Ｈｈｅｒｒ＞ＨＬ、＋ＨＬｅｒｒこれを第６図
を用いて説明する。（６−１）は第１ＶＡ性層単層に対
して印加した外部磁界の大きさく横軸）と第１磁性層の
磁化の大きさく縦軸）との関係を示すグラフである（Ｂ
−Ｈループ）。
■方向に磁界を加えていくとＨｏの大きさの磁界で、磁
化の向きは■の方向（↑゛の向き）に磁化が配向し、ま
たｅ方向に磁界を印加していくと、−ＨＬの大きさの磁
界で磁化の向きはθの方向（↓の向き）に磁界が配向す
ることを示している。（６−２）は第２′Ｎ性層単層の
Ｂ−Ｈループを示す。
化の向きは■の方向（↑゛の向き）に磁化が配向し、ま
たｅ方向に磁界を印加していくと、−ＨＬの大きさの磁
界で磁化の向きはθの方向（↓の向き）に磁界が配向す
ることを示している。（６−２）は第２′Ｎ性層単層の
Ｂ−Ｈループを示す。
（６−３）は第１磁性層と第２磁性層が交換結合して積
層されたときの第１磁性層のＢ−Ｈループを示す（ここ
では第２磁性層の磁化の向きが↑上向きの場合について
）。この場合は（６−１）の単層の場合に比べて第１磁
性層と第２磁性層の磁化が同方向になりやすいようにＨ
Ｈｅｆｆの大きさだけ実効的バイアス磁界が印加される
ことになる。
層されたときの第１磁性層のＢ−Ｈループを示す（ここ
では第２磁性層の磁化の向きが↑上向きの場合について
）。この場合は（６−１）の単層の場合に比べて第１磁
性層と第２磁性層の磁化が同方向になりやすいようにＨ
Ｈｅｆｆの大きさだけ実効的バイアス磁界が印加される
ことになる。
ここで、（ｆ）の記録ビットの状態が安定に存在できる
ためには、外部磁場ゼロで第１磁性層の磁化の方向が反
平行である（Ａ点）が安定で、磁化の方向が平行である
（Ｂ点）へは移らないことが必要である。このためには
ＨＨＨＨｅｆｆ＞Ｏであることが必要である。
ためには、外部磁場ゼロで第１磁性層の磁化の方向が反
平行である（Ａ点）が安定で、磁化の方向が平行である
（Ｂ点）へは移らないことが必要である。このためには
ＨＨＨＨｅｆｆ＞Ｏであることが必要である。
同様に（６−４）は、第１磁性層と第２Ｍｉ性層が交換
結合して積層されたときの第２磁性層のＢ−Ｈループを
示す。（ここでは第１磁性層の磁化の向きが↑上向きの
場合について） この場合は、（６−２）は単層の場合に比べて第１磁性
層層と第２磁性層の磁化が同方向になりやすいようにＨ
ＬａｆＦの大きさだけ実効的バイアス磁界が印加される
ことになる。ここで（ｆ）の記録ビットの状態が安定に
存在するためには外部磁界ゼロで第１磁性層と第２磁性
層の磁化の方向が反平行である（Ａ点）が安定で、磁界
の方向が平行である（Ｂ点）へは移らないことがことが
必要である。このためにはＨＬ −ＨＬｅｔｒ＞ ０で
あることが必要である。
結合して積層されたときの第２磁性層のＢ−Ｈループを
示す。（ここでは第１磁性層の磁化の向きが↑上向きの
場合について） この場合は、（６−２）は単層の場合に比べて第１磁性
層層と第２磁性層の磁化が同方向になりやすいようにＨ
ＬａｆＦの大きさだけ実効的バイアス磁界が印加される
ことになる。ここで（ｆ）の記録ビットの状態が安定に
存在するためには外部磁界ゼロで第１磁性層と第２磁性
層の磁化の方向が反平行である（Ａ点）が安定で、磁界
の方向が平行である（Ｂ点）へは移らないことがことが
必要である。このためにはＨＬ −ＨＬｅｔｒ＞ ０で
あることが必要である。
第１、第２磁性層共、安定な配列がら、非安定な配列に
磁化が向かう場合、各層に働く交換力に抗して磁化が反
転するので、反転に必要な磁界の大きさは、磁性層の保
磁カブラス交換力になる。
磁化が向かう場合、各層に働く交換力に抗して磁化が反
転するので、反転に必要な磁界の大きさは、磁性層の保
磁カブラス交換力になる。
また非安定な配列から安定な配列に向がう場合は、交換
力が補助的に働くので反転に必要な磁界の大きさは、磁
性層の保磁力マイナス交換力になる。
力が補助的に働くので反転に必要な磁界の大きさは、磁
性層の保磁力マイナス交換力になる。
そこで磁界発生部３４を通過したときに、すべての組み
合わせの磁化状態において第１磁性層の磁化反転は起こ
らず、第２＠性層の磁化はすべて磁界発生部３４の磁界
方向へ配列する為には、ＨＨ−Ｈ）ｌｅｒｔ＞ＨＬ＋Ｈ
Ｌａｔｔの関係があれば外部磁場Ｂをこの中間の大きさ
に設定すればよいことが分かる。（これは第２磁性層の
磁化を反転させるときに必要な磁界の大きさは、第１、
第２磁性層が安定な配列をしているときに、Ｈし＋ＨＬ
、ｅｆｆより大である。
合わせの磁化状態において第１磁性層の磁化反転は起こ
らず、第２＠性層の磁化はすべて磁界発生部３４の磁界
方向へ配列する為には、ＨＨ−Ｈ）ｌｅｒｔ＞ＨＬ＋Ｈ
Ｌａｔｔの関係があれば外部磁場Ｂをこの中間の大きさ
に設定すればよいことが分かる。（これは第２磁性層の
磁化を反転させるときに必要な磁界の大きさは、第１、
第２磁性層が安定な配列をしているときに、Ｈし＋ＨＬ
、ｅｆｆより大である。
また第１Ｗｌ性層の磁化を反転させない為の磁界の大き
さは、第１、第２磁性層が非安定な配列をしているとき
に、ＨＨ−ＨＨｅｆｆより小である、という理由による
。） 記録ビットの状態（ｅ）と（ｆ）は、記録時のレーザー
のパワーで制御され、記録前の状態には依存しないので
、重ね書き（オーバーライド）が可能である。記録ビッ
ト（ｅ）と（ｆ）は、再生用のレーザービームを照射し
、再生光を記録信号再生器３３で処理することにより、
再生できる。
さは、第１、第２磁性層が非安定な配列をしているとき
に、ＨＨ−ＨＨｅｆｆより小である、という理由による
。） 記録ビットの状態（ｅ）と（ｆ）は、記録時のレーザー
のパワーで制御され、記録前の状態には依存しないので
、重ね書き（オーバーライド）が可能である。記録ビッ
ト（ｅ）と（ｆ）は、再生用のレーザービームを照射し
、再生光を記録信号再生器３３で処理することにより、
再生できる。
第２図の説明では第１磁性層２と第２磁性層３の磁化の
向きが同しときに安定な例を示したが、磁化の向きが反
平行のときに安定な磁性層についても同様に考えられる
。第５図に、この場合の記録過程の磁化状態を第２図に
対応させて示しておく。
向きが同しときに安定な例を示したが、磁化の向きが反
平行のときに安定な磁性層についても同様に考えられる
。第５図に、この場合の記録過程の磁化状態を第２図に
対応させて示しておく。
実施例１
３元のターゲット源を備えたスパッタ装置内に、プリグ
ループ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボネ
ート製のディスク状基板を、ターゲットとの間の距１１
１１０ｃｍの間隔にセットし、回転させた。
ループ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボネ
ート製のディスク状基板を、ターゲットとの間の距１１
１１０ｃｍの間隔にセットし、回転させた。
アルゴン中で、第１のターゲットより、スパッタ速度１
００人／ｍｉｎ、スパッタ圧５ｘ １０’ Ｔｏｒｒで
ＺｎＳを保護層として１０００人の厚さに設けた。次に
アルゴン中で、第２のターゲットよりスパッタ速度１０
０人／ｍｉｎ、スパッタ圧５ｘ ｔｏ−３ＴｏｒｒでＴ
ｂＦｅ合金をスパッタし、膜厚５００人、Ｔ、＝約１４
０℃、ＨＬ＝約５ ＫＯｅのＴｂ＋ａＦｅａ２の第１！
ｆｌ性層を形成した。
００人／ｍｉｎ、スパッタ圧５ｘ １０’ Ｔｏｒｒで
ＺｎＳを保護層として１０００人の厚さに設けた。次に
アルゴン中で、第２のターゲットよりスパッタ速度１０
０人／ｍｉｎ、スパッタ圧５ｘ ｔｏ−３ＴｏｒｒでＴ
ｂＦｅ合金をスパッタし、膜厚５００人、Ｔ、＝約１４
０℃、ＨＬ＝約５ ＫＯｅのＴｂ＋ａＦｅａ２の第１！
ｆｌ性層を形成した。
次にアルゴン中でスパッタ圧５Ｘ １０’ Ｔｏｒｒで
かＴｂＦｅＣｏ合金をスパッタし、膜厚５００人、Ｔ□
＝約２５０℃、Ｈｔ、＝約１にＯｅのＴｂ２Ｊｅ６６（
：０１７の第２磁性層を形成した。
かＴｂＦｅＣｏ合金をスパッタし、膜厚５００人、Ｔ□
＝約２５０℃、Ｈｔ、＝約１にＯｅのＴｂ２Ｊｅ６６（
：０１７の第２磁性層を形成した。
次にアルゴン中で第１のターゲットよりスパッタ速度１
００人／ｗｉｎ、スパッタ圧ｓｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒで
、ＺｎＳを保護層として３０００人の厚さに設けた。
００人／ｗｉｎ、スパッタ圧ｓｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒで
、ＺｎＳを保護層として３０００人の厚さに設けた。
次に膜形成を終えた上記の基板を、ホットメルト接着剤
を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ用基板と貼り
合わせ光磁気ディスクを作成した。この光磁気ディスク
を記録再生装置にセットし、５０００ｅの磁界発生部を
、線速度〜８ ｍ／ｓｅｃで通過させつつ、約１μに集
光した８３０ｍｍの波長のレーザービームを５０％のデ
ユーティで２ ＭＨｚで変調させながら、４１１ＩＷと
８ｍ１ｌの２値のレーザーパ。
を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ用基板と貼り
合わせ光磁気ディスクを作成した。この光磁気ディスク
を記録再生装置にセットし、５０００ｅの磁界発生部を
、線速度〜８ ｍ／ｓｅｃで通過させつつ、約１μに集
光した８３０ｍｍの波長のレーザービームを５０％のデ
ユーティで２ ＭＨｚで変調させながら、４１１ＩＷと
８ｍ１ｌの２値のレーザーパ。
ワーで記録を行なった。バイアス磁界は１０００ｅであ
った。その後１．５＋＋１のレーザービームを照射して
再生を行なったところ、２値の信号の再生ができた。
った。その後１．５＋＋１のレーザービームを照射して
再生を行なったところ、２値の信号の再生ができた。
次に、上記と同様の実験を、全面記録された後の光磁気
ディスクについて行なった。この結果前に記録された信
号成分は検出されず、オーバーライドが可能であること
が確認された。
ディスクについて行なった。この結果前に記録された信
号成分は検出されず、オーバーライドが可能であること
が確認された。
実施例２
第２！！ｉ性層をＴＨ＝２００℃、ＨＬ＝約１にＯｅ、
ＨＬａｆｒ＝約３０００ｅのＴｂ２３Ｆｅ７゜ＣＯｙと
した以外は実施例１と同様にして光磁気記録ディスクを
形成した。これを約２．５にＯｅの磁界発生部を用いた
以外は実施例１と同様な記録、再生を実施した。実施例
１と同様な結果が得られた。
ＨＬａｆｒ＝約３０００ｅのＴｂ２３Ｆｅ７゜ＣＯｙと
した以外は実施例１と同様にして光磁気記録ディスクを
形成した。これを約２．５にＯｅの磁界発生部を用いた
以外は実施例１と同様な記録、再生を実施した。実施例
１と同様な結果が得られた。
この場合健、Ｈｏ。ｆｆの大きさについては第６図（６
−３）、（６−４）を使って説明する。
−３）、（６−４）を使って説明する。
ＨＨＨＨ＠ｆｆの大きさの方がＨＬ −ＨＬ、ｅｆｆよ
りも大きかったため第１、第２磁性層を同じ方向に配向
した後、磁化の向きを反転させる磁界を加えていったと
きＨＬ ＨＬａｔｔ＝ ０．７にＯｅで第２磁性層の
磁化反転が起こってしまいＨＬｅｅｔの値の測定はでき
なかった。
りも大きかったため第１、第２磁性層を同じ方向に配向
した後、磁化の向きを反転させる磁界を加えていったと
きＨＬ ＨＬａｔｔ＝ ０．７にＯｅで第２磁性層の
磁化反転が起こってしまいＨＬｅｅｔの値の測定はでき
なかった。
しかしＨｏ−ＨＨａｒｒ＞ＨＬ−ＨＬｅｔｒより、ＨＨ
＝５にＯｅ 、 ＨＬ＝＝ Ｉ ＫＯｅ 、 ＨＬｅｆ
ｆ＝０．３ 、ＫＯｅの値を入れると、４．３にＯｅ＞
ＨＨａｒｒであることがいえる。
＝５にＯｅ 、 ＨＬ＝＝ Ｉ ＫＯｅ 、 ＨＬｅｆ
ｆ＝０．３ 、ＫＯｅの値を入れると、４．３にＯｅ＞
ＨＨａｒｒであることがいえる。
また、第１磁性層のＴｂＦｅ合金の組成、厚さを変えず
に第２磁性槽のＴｂＦｅＣｏ層の組成を変えてＨＬ −
ＨＬｅｆｆの値を大きくした層を積層した実験から測定
されたＨＨｅｆｆの値は約１にＯｅであった。
に第２磁性槽のＴｂＦｅＣｏ層の組成を変えてＨＬ −
ＨＬｅｆｆの値を大きくした層を積層した実験から測定
されたＨＨｅｆｆの値は約１にＯｅであった。
第１、Ｚ磁性層は竹屑の保磁力、交換力の値のとき、前
述の磁界発生部３４より、第２磁性層の磁化だけが、磁
界方向へ配列する条件ＨＨ ”−ＨＨｅｆｆ＞ ＨＬ、 ＋ ＨＬ、ａｆｆを満足
していることが確認できた。
述の磁界発生部３４より、第２磁性層の磁化だけが、磁
界方向へ配列する条件ＨＨ ”−ＨＨｅｆｆ＞ ＨＬ、 ＋ ＨＬ、ａｆｆを満足
していることが確認できた。
実施例３
３元のターゲット源を備えたスパッタ装置内に、プリグ
ループ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボネ
ート製のディスク状基板を、ターゲットとの間の距ｆｉ
ｌｏｃｍの間隔にセットし、回転させた。
ループ、プリフォーマット信号の刻まれたポリカーボネ
ート製のディスク状基板を、ターゲットとの間の距ｆｉ
ｌｏｃｍの間隔にセットし、回転させた。
アルゴン中で、第１のターゲットより、スパッタ速度
１００人／ｍｉｎ、スパッタ圧３．Ｘ １０’ Ｔｏｒ
ｒでＳｉＣを保護層として７００人の厚さに設けた。次
にアルゴン中で、第２のターゲットよりスパッタ速度５
０人／ｆｆ１ｉｎ、スパッタ圧 ３ ｘ １０’ Ｔｏ
ｒｒでＧｄＴｂＦｅ合金をスパッタし、膜厚２００人、
ＴＬ＝約１６０℃、ＨＬ＝約８ ！ＡｏｅのＴｂ８Ｇｄ
、２Ｆｅ８ｏの第１磁性層を形成した。
１００人／ｍｉｎ、スパッタ圧３．Ｘ １０’ Ｔｏｒ
ｒでＳｉＣを保護層として７００人の厚さに設けた。次
にアルゴン中で、第２のターゲットよりスパッタ速度５
０人／ｆｆ１ｉｎ、スパッタ圧 ３ ｘ １０’ Ｔｏ
ｒｒでＧｄＴｂＦｅ合金をスパッタし、膜厚２００人、
ＴＬ＝約１６０℃、ＨＬ＝約８ ！ＡｏｅのＴｂ８Ｇｄ
、２Ｆｅ８ｏの第１磁性層を形成した。
次にアルゴン中でスパッタ圧３×ｌＯ°’ Ｔｏｒｒで
かＴｂＦｅ（：ｏＧｕ合金をスパッタし、膜厚４００人
、Ｔ８＝約１８０℃、ＨＬ＝約Ｉ ＫＯｅのＴｂ２３Ｆ
ｅｓａＣＯ＋ｓＣｕ＋２の第２ｉｆｆ性層を形成した。
かＴｂＦｅ（：ｏＧｕ合金をスパッタし、膜厚４００人
、Ｔ８＝約１８０℃、ＨＬ＝約Ｉ ＫＯｅのＴｂ２３Ｆ
ｅｓａＣＯ＋ｓＣｕ＋２の第２ｉｆｆ性層を形成した。
次にアルゴン中で第１のターゲットよりスパッタ速度７
０人／ｍｉｎ、スパッタ圧３×ｌＯ°３Ｔｏｒｒで、Ｓ
ｉ３Ｎ４を保護層として１２００人の厚さに設けた。
０人／ｍｉｎ、スパッタ圧３×ｌＯ°３Ｔｏｒｒで、Ｓ
ｉ３Ｎ４を保護層として１２００人の厚さに設けた。
次に膜形成を終えた上記の基板を、ホットメルト接着剤
を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ用基板と貼り
合わせ光磁気ディスクを作成した。この光磁気ディスク
を記録再生装置にセットし、１５０００ｅの磁界発生部
を、線速度〜８ｍ／ｓｅｃで通過させつつ、約１μに集
光した８３０ｍｍの波長のレーザービームを５０％のデ
ユーティで２ ＭＨｚで変調させながら、４ｍＷと８ｍ
Ｗの２値のレーザーパワーで記録を行なった。バイアス
磁界は１０００ｅであった。その後１ 、５ｍＷのレー
ザービームを照射して再生を行なったところ、２値の信
号の再生ができた。
を用いて、ポリカーボネートの貼り合わせ用基板と貼り
合わせ光磁気ディスクを作成した。この光磁気ディスク
を記録再生装置にセットし、１５０００ｅの磁界発生部
を、線速度〜８ｍ／ｓｅｃで通過させつつ、約１μに集
光した８３０ｍｍの波長のレーザービームを５０％のデ
ユーティで２ ＭＨｚで変調させながら、４ｍＷと８ｍ
Ｗの２値のレーザーパワーで記録を行なった。バイアス
磁界は１０００ｅであった。その後１ 、５ｍＷのレー
ザービームを照射して再生を行なったところ、２値の信
号の再生ができた。
次に、上記と同様の実験を、全面記録された後の光磁気
ディスクについて行なった。この結果前に記録された信
号成分は検出されず、オーバーライドが可能であること
が確認された。
ディスクについて行なった。この結果前に記録された信
号成分は検出されず、オーバーライドが可能であること
が確認された。
（発明の効果）
以上詳細に説明したように光磁気媒体として、低いキュ
・り一点（ＴＬ ）と高い保磁力（Ｈｅ ）を有する第
１の磁性層と相対的に高いキュリー点（Ｔ□）と低い保
磁力（ｉ’ｔｔ、 ）を有する第２の磁性層からなる二
層構造の磁性層を有するものを用い、記録時に、記録ヘ
ッドと別位置に磁界発生部を設け、２値レーザーパワー
で記録することにより、重ね書き（オーバーライド）が
可能になフた。
・り一点（ＴＬ ）と高い保磁力（Ｈｅ ）を有する第
１の磁性層と相対的に高いキュリー点（Ｔ□）と低い保
磁力（ｉ’ｔｔ、 ）を有する第２の磁性層からなる二
層構造の磁性層を有するものを用い、記録時に、記録ヘ
ッドと別位置に磁界発生部を設け、２値レーザーパワー
で記録することにより、重ね書き（オーバーライド）が
可能になフた。
第１図（ａ） 、 （ｂ）は各々本発明で使用する光磁
気媒体の一例構成を示す図、第２図は、本発明の記録法
を実施中の、磁性層２．３の磁化の向きを示す図、第３
図は、記録・再生装置の概念図、第４図は両磁竹屑２と
３の保磁力と温度との関係を示す概略図である。第５図
は本発明の他の実施例における磁性層の磁化状態を示す
図、第６図は第１磁性層、第２Ｍｉ性層それぞれのＢ−
Ｈループを示す部である。 １ニブリグルーブ付の透光性基板、 ２．３：ｖｉｉ性層 竹屑５：保護層、 ６：接着層、 ７：貼り合わせ用基板、 ３１：記録・再生用ヘッド、 ３２：記録信号発生器、 ３３：記録信号再生器 ３４ ：ｉｆｉ界発生部 ３５：光磁気ディスク、 第４図 第５図 第６図
気媒体の一例構成を示す図、第２図は、本発明の記録法
を実施中の、磁性層２．３の磁化の向きを示す図、第３
図は、記録・再生装置の概念図、第４図は両磁竹屑２と
３の保磁力と温度との関係を示す概略図である。第５図
は本発明の他の実施例における磁性層の磁化状態を示す
図、第６図は第１磁性層、第２Ｍｉ性層それぞれのＢ−
Ｈループを示す部である。 １ニブリグルーブ付の透光性基板、 ２．３：ｖｉｉ性層 竹屑５：保護層、 ６：接着層、 ７：貼り合わせ用基板、 ３１：記録・再生用ヘッド、 ３２：記録信号発生器、 ３３：記録信号再生器 ３４ ：ｉｆｉ界発生部 ３５：光磁気ディスク、 第４図 第５図 第６図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）低いキュリー点（Ｔ＿Ｌ）と高い保磁力（Ｈ＿Ｈ）
を有する第１磁性層と、この磁性層に比べて相対的に高
いキュリー点（Ｔ＿Ｈ）と低い保磁力（Ｈ＿Ｌ）を有す
る第２磁性層と、からなる二層構造の垂直磁化膜を基板
上に有して成る光磁気記録であって、第２磁性層の飽和
磁化をＭｓ、膜厚をｈ、二層間の磁壁エネルギーをσ＿
ｗとすると、次の式を満たすように結合していることを
特徴とする光磁気記録媒体。 Ｈ＿Ｈ＞Ｈ＿Ｌ＞σ＿ｗ／２Ｍｓｈ ２）低いキュリー点（Ｔ＿Ｌ）と高い保磁力（Ｈ＿Ｈ）
を有する第１磁性層と、この磁性層に比べて相対的に高
いキュリー点（Ｔ＿Ｈ）と低い保磁力（Ｈ＿Ｌ）を有す
る第２磁性層と、からなる二層構造の垂直磁化膜を基板
上に有して成る光磁気記録であって、第２磁性層の飽和
磁化をＭｓ、膜厚をｈ、二層間の磁壁エネルギーをσ＿
ｗとすると、 Ｈ＿Ｈ＞Ｈ＿Ｌ＞σ＿ｗ／２Ｍｓｈ を満たすように結合している光磁気記録媒体を使用して
、次の二値の記録を行なうことを特徴とする記録方式。 （ａ）該媒体に対して、記録用ヘッドと異なる場所で、
保磁力Ｈ＿Ｌの第２磁性層を一方向に磁化させるのに充
分で保磁力Ｈ＿Ｈの第１磁性層の磁化の向きを反転させ
ることのない大きさの磁界Ｂを加え、 （ｂ）次に、記録ヘッドにより、バイアス磁界を印加す
ると同時に低いキュリー点（Ｔ＿Ｌ）付近まで該媒体が
昇温するだけのレーザーパワーを照射することにより、
第２磁性層の磁化の向きを変えないまま第１磁性層の磁
化の向きを第２磁性層に対して安定な向きにそろえる第
１種の予備記録か、バイアス磁界を印加すると同時に高
いキュリー点（Ｔ＿Ｈ）付近まで該媒体が昇温するだけ
のレーザーパワーを照射することにより、第２磁性層の
磁化の向きを反転させて同時に第１磁性層も第２磁性層
に対して安定な向きに磁化する第２種の予備記録かを、
信号に応じて実施し、 （ｃ）次に、該媒体を運動させて、予備記録されたビッ
トを前記磁界Ｂを通過させることにより、第１種の予備
記録により形成されたビットについては第１磁性層、第
２磁性層とも磁化の向きをそのまま変化させず、 第２種の予備記録により形成されたビットについては、
第２磁性層の磁化の向きを前記磁界Ｂと同方向に反転さ
せ、第１磁性層については磁化の向きをそのまま変化さ
せないとする、二値の記録。
Priority Applications (16)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CA 541367 CA1340058C (en) | 1986-07-08 | 1987-07-06 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with tow or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| AU75306/87A AU593364C (en) | 1986-07-08 | 1987-07-07 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| EP98200006A EP0838814B1 (en) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| DE19873752351 DE3752351T2 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Gerät und System zur Aufzeichnung auf einem magnetooptischen Aufzeichnungsmedium |
| EP87306038A EP0258978B1 (en) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| AT98200007T ATE216528T1 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Gerät und system zur aufzeichnung auf einem magnetooptischen aufzeichnungsmedium |
| KR1019870007322A KR960003420B1 (ko) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | 2층이상의 자성막을 가지고 중복기록이 가능한 광자기 기록매체 및 그의 매체를 사용한 기록방법 |
| DE19873752348 DE3752348T2 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetooptisches Aufzeichnungsmedium mit der Möglichkeit des Überschreibens mit zwei oder mehr Magnetschichten und dieses Medium verwendende Aufzeichnungsmethode |
| DE3752222T DE3752222T2 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetoptisches Aufzeichnungsmedium mit der Möglichkeit des Überschreibens mit zwei oder mehr Magnetschichten und dieses Medium verwendende Aufzeichnungsmethode |
| AT87306038T ATE172047T1 (de) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Magnetoptisches aufzeichnungsmedium mit der möglichkeit des überschreibens mit zwei oder mehr magnetschichten und dieses medium verwendende aufzeichnungsmethode |
| EP98200007A EP0838815B1 (en) | 1986-07-08 | 1987-07-08 | Apparatus and system for recording on a magnetooptical recording medium |
| US07/475,941 US5132945A (en) | 1986-07-08 | 1990-01-30 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| US08/296,163 US5525378A (en) | 1986-07-08 | 1994-08-26 | Method for producing a magnetooptical recording medium |
| US08/312,930 US5481410A (en) | 1986-07-08 | 1994-09-30 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| US08/613,431 US5783300A (en) | 1986-06-18 | 1996-02-29 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers and recording method utilizing the same |
| US09/080,215 US6028824A (en) | 1986-07-08 | 1998-05-18 | Magnetooptical recording medium allowing overwriting with two or more magnetic layers |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15878786 | 1986-07-08 | ||
| JP61-158787 | 1986-07-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63153752A true JPS63153752A (ja) | 1988-06-27 |
Family
ID=15679329
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62020384A Pending JPS63153752A (ja) | 1986-06-18 | 1987-02-02 | 光磁気記録媒体及びその記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63153752A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3936690A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-10 | Ricoh Kk | Magneto-optisches aufzeichnungsverfahren und aufzeichnungsmaterial |
| US5210724A (en) * | 1988-03-07 | 1993-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Optomagnetic recording method and apparatus which precludes an interface magnetic wall within block magnetic wall |
| WO1994003892A1 (en) * | 1992-07-29 | 1994-02-17 | Seiko Epson Corporation | Magneto-optic recording medium and method of its manufacture method |
| US5949743A (en) * | 1995-10-11 | 1999-09-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetooptical recording medium having a bias layer related by Curie temperature to a writing layer, which is capable of being overwritten by light modulation |
-
1987
- 1987-02-02 JP JP62020384A patent/JPS63153752A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5210724A (en) * | 1988-03-07 | 1993-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Optomagnetic recording method and apparatus which precludes an interface magnetic wall within block magnetic wall |
| DE3936690A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-10 | Ricoh Kk | Magneto-optisches aufzeichnungsverfahren und aufzeichnungsmaterial |
| US5420836A (en) * | 1988-11-04 | 1995-05-30 | Ricoh Company, Ltd. | Method of magneto-optical recording and overwriting |
| WO1994003892A1 (en) * | 1992-07-29 | 1994-02-17 | Seiko Epson Corporation | Magneto-optic recording medium and method of its manufacture method |
| US5772856A (en) * | 1992-07-29 | 1998-06-30 | Seiko Epson Corporation | Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same |
| US5976688A (en) * | 1992-07-29 | 1999-11-02 | Seiko Epson Corporation | Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same |
| US5949743A (en) * | 1995-10-11 | 1999-09-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetooptical recording medium having a bias layer related by Curie temperature to a writing layer, which is capable of being overwritten by light modulation |
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