JPH0522224B2 - - Google Patents

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JPH0522224B2
JPH0522224B2 JP58160500A JP16050083A JPH0522224B2 JP H0522224 B2 JPH0522224 B2 JP H0522224B2 JP 58160500 A JP58160500 A JP 58160500A JP 16050083 A JP16050083 A JP 16050083A JP H0522224 B2 JPH0522224 B2 JP H0522224B2
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JP
Japan
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light
exposure
correction plate
lens
amount
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58160500A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6052838A (ja
Inventor
Katsuhiko Ono
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP16050083A priority Critical patent/JPS6052838A/ja
Publication of JPS6052838A publication Critical patent/JPS6052838A/ja
Publication of JPH0522224B2 publication Critical patent/JPH0522224B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
    • G03B27/52Details
    • G03B27/522Projection optics
    • G03B27/525Projection optics for slit exposure
    • G03B27/526Projection optics for slit exposure in which the projection optics move

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は露光ムラを改善した複写機の露光装
置に関する。
従来技術 従来光学系を用いて原稿を感光体へ投影する複
写機においては、その画角に応じてCOS4乗則に
よる露光ムラが発生する。また光学系内の汚れや
光源、ミラー等の劣化により経時的に露光量が変
化することにより、得られる複写の画像にカブリ
等が発生する不具合があつた。
かかる不具合のうち、露光ムラに関しては、光
源の長手方向に輝度分布を変化させてCOS4乗則
による露光ムラを補正する方法が提唱されている
が、この方法では中央部より周辺部の輝度を上げ
た光源を製造する必要があるためコスト高になる
と共に、変倍複写機の場合変倍範囲が大きくなる
と補正できないなど、補正能力に限界がある欠点
があつた。また光源に蛍光灯を用いた複写機で
は、光路中に設けたスリツト板を変倍率に応じて
切換えたり、スリツト板を傾斜させて光路上へ出
し入れするもの、もしくは感光体の近傍でスリツ
ト板をスリツトの長手方向へ移動させたり、レン
ズの移動に対してスリツト板をスリツトの長手方
向と直角な走査方向に移動させるようにしたもの
などが公知であるが、何れの場合もスリツト板を
移動するのに複雑な駆動装置を必要として高価に
なると共に、変倍範囲が大きくなると補正できな
くなるなど補正能力に限界があるなどの欠点があ
つた。
一方光学系の汚れや劣化による画像のカブリ等
に対しては、光路中の画像に影響を与えない位置
に光量検出器を設けて露光量を検出し、または光
量検出時のみ光路の光軸付近に光量検出器を挿入
して露光量を検出し、得られた検出信号と基準値
を比較して、その差に応じて光源等を制御するこ
とにより、光学系の汚れや劣化に関係なく最適な
露光量が得られるようにした制御装置が提唱され
ているが、光路の周辺域に光量検出器を設けたも
のでは検出する光量が少ないため、ノイズ等の影
響を受けやすくなつて精度の高い制御が困難であ
り、また光軸付近に光量検出器を挿入するもので
は、検出器を出し入れする機構が必要となるなど
コスト高となる欠点があつた。
発明の目的 この発明はかかる欠点を除去する目的でなされ
たもので、COS4乗則による露光ムラを補正し、
また精度よく露光量の制御が可能な複写機の露光
装置を簡単な構成で提供しようとするものであ
る。
発明の構成 原稿の複写面からの反射光を光学系を用いて受
光体へ導くものにおいて、上記光学系を構成する
レンズの前方または後方の最大画角での光束が交
差する点より外側近傍でレンズ中心線上に補正板
を設け、上記補正板を、上記レンズと相対関係を
変化せずに移動自在に設けると共に、上記補正板
上に光量検出機を設けてなる複写機等のCOS4乗
則による露光ムラを補正する露光装置。
実施例 以下この発明を変倍複写機に実施した例につい
て図面を参照して詳述すると、図において1は複
写すべき原稿2を載置するプラテンで、このプラ
テン1の下方に原稿2の複写面を照明する光源3
及びリフレクタ4が設置されている。原稿2から
の反射光は光路13上に設けられたスリツト5、
第1、第2、第3ミラー6,7,8を介してレン
ズ9へ導びかれ、さらにレンズ9を透過した光は
第4ミラー10により感光体11側へ反射され
て、感光体11の表面を露光するようになつてい
る。また上記光学系のうち、第2、第3ミラー
7,8及びレンズ9は変倍率に応じて矢印b−c
及びb′−c′方向へ移動し、変倍時の結像関係を保
つレンズ9の後方には距離l離れた位置にCOS4
乗則による露光ムラを補正する補正板12が設置
されており、変倍時はレンズ9と一体に移動す
る。この補正板12はその中心が光軸13′と一
致するように設けられた例えば円板であつて、
COS4乗則による露光ムラを次のように補正す
る。
すなわち光軸13′に垂直な一つの面内での原
稿2のスリツト領域における各物点の投影光束の
断面は第3図に示すように断面積の等しい円とな
る。補正板12はその中心が光軸13′上にあり、
光軸13′付近の投影光束の遮光が最大で、光軸
13′から離れるに従い順次遮光量が減少するこ
ととなり、COS4乗則による露光ムラの補正がで
きるようになる。
ところで、変倍複写を行うと、各倍率で最大画
角が異なつてくるが、その中で最大画角となる倍
率に合せて補正板12の形状及び距離lを設定し
ておけば、最大画角以内のあらゆる角度で入射す
る投影光束に対して補正が可能である。具体的に
は第4図に示すように最大画角で入射する投影光
束が交差する点Lより外側となる位置に補正板1
2を設ければよい。
一方補正板12の中心部には光量検出器15が
設けられていて、この光量検出器15により複写
開始前第5図に示すようにプラテン押え16の下
面などに設けられた白色の基準反射面17からの
反射光を検出するようになつている。上記光量検
出器15により検出された検出値は制御系により
予め設定された基準値と比較されて、光学系の汚
れや劣化による露光量の変化量が算出される。得
られた変化量に応じて光源3の入力電圧等が制御
され、これによつて光学系の汚れや劣化に関係な
く一定した露光量が得られるようになる。
なお変倍の際の必要露光量は倍率により変化す
るので、倍率に応じた基準値を予め設定し、これ
ら値と、光量検出器15が各倍率毎に検出した値
とを比較すれば、全ての倍率に対応することがで
きる。
またコーナレジスト形式の複写機では倍率に応
じて光軸13′の位置が変化するが、基準反射面
17を光軸13′の移動方向に予め長く形成して
おくことにより問題は生じない。さらに上記の実
施例では補正板12をレンズ9の後方に設けた
が、レンズ9の前方に設置してもよい。
発明の効果 この発明は以上詳述したように、光軸付近の遮
光性が高く、かつ周辺部にゆくに従い遮光性を低
くした補正板12を光路13上に設けてCOS4乗
則による露光ムラを補正するようにしたもので、
変倍複写機に用いた場合でも変倍率に応じてレン
ズと一体に移動するので、構成が簡単で安価に提
供できると共に、変倍範囲が大きくなつても補正
できなくなる虞れがない。また補正板12の中央
部に光量検出器15を設けて露光量を検出するよ
うにしたことから、光学系の汚れや劣化による露
光量の変化を、複雑な機構を使用せずに正確に検
出できるようになり、これによつて精度の高い露
光量の制御が可能である。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の一実施例を示し、第1図は全
体の構成図、第2図はレンズ及び補正板の斜視
図、第3図、第4図及び第5図は作用説明図であ
る。 2は原稿、9はレンズ、11は感光体、12は
補正板、13′は光軸、15は光量検出器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 原稿2の複写面からの反射光を光学系を用い
    て受光体へ導くものにおいて、上記光学系を構成
    するレンズの前方または後方の最大画角での光束
    が交差する点より外側近傍でレンズ中心線上に補
    正板を設け、上記補正板を、上記レンズと相対関
    係を変化させずに移動自在に設けると共に、上記
    補正板12上に光量検出器15を設けてなる複写
    機等のCOS4乗則による露光ムラを補正する露光
    装置。
JP16050083A 1983-09-02 1983-09-02 複写機の露光装置 Granted JPS6052838A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16050083A JPS6052838A (ja) 1983-09-02 1983-09-02 複写機の露光装置

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JP16050083A JPS6052838A (ja) 1983-09-02 1983-09-02 複写機の露光装置

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Publication Number Publication Date
JPS6052838A JPS6052838A (ja) 1985-03-26
JPH0522224B2 true JPH0522224B2 (ja) 1993-03-26

Family

ID=15716276

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16050083A Granted JPS6052838A (ja) 1983-09-02 1983-09-02 複写機の露光装置

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02210340A (ja) * 1989-02-09 1990-08-21 Asahi Optical Co Ltd 光量補正装置
DE4231406A1 (de) * 1992-09-19 1994-03-24 Leica Mikroskopie & Syst Hellfeld-Durchlicht-Beleuchtungseinrichtung für Mikroskope

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5042856A (ja) * 1973-05-23 1975-04-18
JPS56104355A (en) * 1980-01-07 1981-08-20 Xerox Corp Exposure apparatus

Patent Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5042856A (ja) * 1973-05-23 1975-04-18
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JPS6052838A (ja) 1985-03-26

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