JPH0521583A - 洗浄用治具および洗浄方法 - Google Patents
洗浄用治具および洗浄方法Info
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- JPH0521583A JPH0521583A JP3175513A JP17551391A JPH0521583A JP H0521583 A JPH0521583 A JP H0521583A JP 3175513 A JP3175513 A JP 3175513A JP 17551391 A JP17551391 A JP 17551391A JP H0521583 A JPH0521583 A JP H0521583A
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- cleaning
- cleaned
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- cleaning jig
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄液がたまることなく、洗浄、リンス、乾
燥の各工程を一貫して行うことができる洗浄用治具およ
び洗浄方法を提供する。 【構成】 穴部を有する被洗浄部材を湿式洗浄する際に
用いる、可搬性を有する本体である治具基板2を有する
洗浄用治具において、治具基板2に設けられた、被洗浄
部材を保持する保持手段である保持ピン4と、治具基板
2に設けられた、被洗浄部材の穴部に非接触に挿入され
る突起である挿入ピン5を有する。
燥の各工程を一貫して行うことができる洗浄用治具およ
び洗浄方法を提供する。 【構成】 穴部を有する被洗浄部材を湿式洗浄する際に
用いる、可搬性を有する本体である治具基板2を有する
洗浄用治具において、治具基板2に設けられた、被洗浄
部材を保持する保持手段である保持ピン4と、治具基板
2に設けられた、被洗浄部材の穴部に非接触に挿入され
る突起である挿入ピン5を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、穴部を有する被洗浄部
材を湿式洗浄する際に用いる洗浄用治具およびこの洗浄
用治具を用いた洗浄方法に関する。
材を湿式洗浄する際に用いる洗浄用治具およびこの洗浄
用治具を用いた洗浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の被洗浄部材(以下ワーク
という)、例えば多面反射鏡(回転反射鏡)のクリーナ
ー、水等の液体(以下洗浄液という)を用いる湿式洗浄
工程においては、多面反射鏡を保持するために、多面反
射鏡に形成された穴部に挿入される突起を有する治具が
用いられていた。また、一般に洗浄工程は、洗浄、リン
ス、乾燥という工程からなっており、この各工程におい
て前記治具が一貫して用いられていた。
という)、例えば多面反射鏡(回転反射鏡)のクリーナ
ー、水等の液体(以下洗浄液という)を用いる湿式洗浄
工程においては、多面反射鏡を保持するために、多面反
射鏡に形成された穴部に挿入される突起を有する治具が
用いられていた。また、一般に洗浄工程は、洗浄、リン
ス、乾燥という工程からなっており、この各工程におい
て前記治具が一貫して用いられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、洗浄液の表面張力の作用で、前記ワークと突
起、および前記ワークと治具表面の部分に洗浄液がたま
るため、いわゆる洗浄不良、リンス効果の減少および乾
燥性の低下などが生ずることとなる。本発明の目的は、
洗浄液がたまることなく、洗浄、リンス、乾燥の各工程
を一貫して行うことができる洗浄用治具および洗浄方法
を提供することにある。
来例では、洗浄液の表面張力の作用で、前記ワークと突
起、および前記ワークと治具表面の部分に洗浄液がたま
るため、いわゆる洗浄不良、リンス効果の減少および乾
燥性の低下などが生ずることとなる。本発明の目的は、
洗浄液がたまることなく、洗浄、リンス、乾燥の各工程
を一貫して行うことができる洗浄用治具および洗浄方法
を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄用治具は、
穴部を有する被洗浄部材を湿式洗浄する際に用いる、可
搬性を有する本体を有する洗浄用治具において、前記本
体に設けられた、前記被洗浄部材を保持する保持手段
と、前記本体に設けられた、前記被洗浄部材の穴部に非
接触に挿入される突起を有することを特徴とする。
穴部を有する被洗浄部材を湿式洗浄する際に用いる、可
搬性を有する本体を有する洗浄用治具において、前記本
体に設けられた、前記被洗浄部材を保持する保持手段
と、前記本体に設けられた、前記被洗浄部材の穴部に非
接触に挿入される突起を有することを特徴とする。
【0005】この洗浄用治具は、保持手段および突起か
らなる組を複数組有することができる。また、本発明の
洗浄用治具は、側面が鏡面であり、底面に穴部を有する
多面反射鏡の被洗浄部材を湿式洗浄する際に用いる、可
搬性を有する本体を有する洗浄用治具において、前記本
体に設けられた、前記被洗浄部材の底面の概縁部を点接
触により保持する保持手段と、前記本体に設けられた、
前記被洗浄部材の穴部に非接触に挿入される突起を有す
ることを特徴とする。
らなる組を複数組有することができる。また、本発明の
洗浄用治具は、側面が鏡面であり、底面に穴部を有する
多面反射鏡の被洗浄部材を湿式洗浄する際に用いる、可
搬性を有する本体を有する洗浄用治具において、前記本
体に設けられた、前記被洗浄部材の底面の概縁部を点接
触により保持する保持手段と、前記本体に設けられた、
前記被洗浄部材の穴部に非接触に挿入される突起を有す
ることを特徴とする。
【0006】この洗浄用治具も、保持手段および突起か
らなる組を複数組有することができる。さらに、本発明
の洗浄方法は、側面が鏡面であり、底面に穴部を有する
多面反射鏡の被洗浄部材を湿式洗浄する洗浄方法におい
て、前記被洗浄部材の底面の概縁部をを本発明の洗浄用
治具の保持手段で保持するとともに、前記被洗浄部材の
穴部に前記洗浄用治具の突起を非接触に挿入した後、こ
の状態で、前記被洗浄部材を親水性の液体で洗浄し、そ
の後、前記被洗浄部材の鏡面を超純水で洗浄し、この超
純水で洗浄した被洗浄部材を前記洗浄用治具ごと乾燥さ
せることを特徴とする。
らなる組を複数組有することができる。さらに、本発明
の洗浄方法は、側面が鏡面であり、底面に穴部を有する
多面反射鏡の被洗浄部材を湿式洗浄する洗浄方法におい
て、前記被洗浄部材の底面の概縁部をを本発明の洗浄用
治具の保持手段で保持するとともに、前記被洗浄部材の
穴部に前記洗浄用治具の突起を非接触に挿入した後、こ
の状態で、前記被洗浄部材を親水性の液体で洗浄し、そ
の後、前記被洗浄部材の鏡面を超純水で洗浄し、この超
純水で洗浄した被洗浄部材を前記洗浄用治具ごと乾燥さ
せることを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明によれば、洗浄用治具の突起をワークの
穴部に非接触に挿入することにより洗浄液の穴部からの
液抜けを良好にさせるとともに、保持手段が点接触によ
りワークを保持してワークと洗浄用治具の接触部位の面
積を最小限にすることにより、洗浄効果が最大に発揮さ
れるようにしたものである。
穴部に非接触に挿入することにより洗浄液の穴部からの
液抜けを良好にさせるとともに、保持手段が点接触によ
りワークを保持してワークと洗浄用治具の接触部位の面
積を最小限にすることにより、洗浄効果が最大に発揮さ
れるようにしたものである。
【0008】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は本発明の洗浄用治具の一実施例を示
す平面図、図2は図1に示す洗浄用治具の正面図、図3
は図1に示す洗浄用治具の側面図、図4は本実施例の洗
浄用治具およびワークの関係を示す説明図である。
て説明する。図1は本発明の洗浄用治具の一実施例を示
す平面図、図2は図1に示す洗浄用治具の正面図、図3
は図1に示す洗浄用治具の側面図、図4は本実施例の洗
浄用治具およびワークの関係を示す説明図である。
【0009】本実施例の洗浄用治具であるパレット1
は、図1〜3に示すように、複数の窓21、22が設け
られた本体である治具基板2上に、それぞれ複数のアー
ム3と、保持ピン4と、挿入ピン5とが設けられたもの
である。複数の窓21、22は、パレット1が図示しな
い超音波洗浄槽内に入れられた際に超音波を通すための
ものであり、個数や大きさ、形状等は使用される条件等
により適宜定められる。アーム3は、パレット1の搬送
の際に図示しない搬送装置により引っ掛けられ、持ち上
げられるためのものである。保持ピン4は、超音波洗浄
の際にワーク6を動かないようにワーク6の底面の概縁
部を点接触により保持する保持手段であり、図1に示す
ように、1個のワーク6につき4本の保持ピン4がワー
ク6の底面概縁部に対応する位置に設けられている。挿
入ピン5は、後述する液抜けをするためのワーク6の穴
部に非接触に挿入される突起であり、図1〜3に示すよ
うに、保持ピン4より僅かに長く形成され、1個のワー
ク6につき1本の挿入ピン5がワーク6の中心の回転軸
に対応する位置に設けられている。本実施例は、4本の
保持ピン4および1本の挿入ピン5からなる組を12組
有しており、12個のワークを1度に洗浄できる。
は、図1〜3に示すように、複数の窓21、22が設け
られた本体である治具基板2上に、それぞれ複数のアー
ム3と、保持ピン4と、挿入ピン5とが設けられたもの
である。複数の窓21、22は、パレット1が図示しな
い超音波洗浄槽内に入れられた際に超音波を通すための
ものであり、個数や大きさ、形状等は使用される条件等
により適宜定められる。アーム3は、パレット1の搬送
の際に図示しない搬送装置により引っ掛けられ、持ち上
げられるためのものである。保持ピン4は、超音波洗浄
の際にワーク6を動かないようにワーク6の底面の概縁
部を点接触により保持する保持手段であり、図1に示す
ように、1個のワーク6につき4本の保持ピン4がワー
ク6の底面概縁部に対応する位置に設けられている。挿
入ピン5は、後述する液抜けをするためのワーク6の穴
部に非接触に挿入される突起であり、図1〜3に示すよ
うに、保持ピン4より僅かに長く形成され、1個のワー
ク6につき1本の挿入ピン5がワーク6の中心の回転軸
に対応する位置に設けられている。本実施例は、4本の
保持ピン4および1本の挿入ピン5からなる組を12組
有しており、12個のワークを1度に洗浄できる。
【0010】次に、本実施例の使用法について説明す
る。まず、図4に示すように、穴部61を有する多面反
射鏡等のワーク6を保持ピン4、挿入ピン5上に載せ
る。このとき、ワーク6の穴部61と挿入ピン5の軸線
が概ね一致するようにすると、穴部61と挿入ピン5間
に所定のクリアランスcを持たせることができる。この
状態で、図5に示す洗浄装置により、洗浄、リンス、乾
燥の各工程を行う。
る。まず、図4に示すように、穴部61を有する多面反
射鏡等のワーク6を保持ピン4、挿入ピン5上に載せ
る。このとき、ワーク6の穴部61と挿入ピン5の軸線
が概ね一致するようにすると、穴部61と挿入ピン5間
に所定のクリアランスcを持たせることができる。この
状態で、図5に示す洗浄装置により、洗浄、リンス、乾
燥の各工程を行う。
【0011】図5は本実施例に用いる洗浄装置を概略的
に示す説明図である。図1〜4に示すパレット1に搭載
されたワーク6(図5では不図示)は、非水性の液体と
して図示しないヒータにより40℃〜50℃程度に加熱
された1,1,1−トリクロロエタン等の有機溶剤が充
たされた第1の脱脂槽52中に浸され、第1の脱脂工程
を経る。第1の脱脂工程において使用する有機溶剤は、
次工程の第2の脱脂工程において使用した有機溶剤をオ
ーバーフローさせて貯留したものである。次に、有機溶
剤が充たされた第2の脱脂槽53による第2の脱脂工程
を経る。第2の脱脂工程において使用する有機溶剤は、
次工程の第3の脱脂工程において使用した気化された
(ベーパー)有機溶剤を結露させ、貯留したものであ
る。次に、第3の脱脂槽54中で上記気化された(ベー
パー)有機溶剤による第3の脱脂工程を経る。
に示す説明図である。図1〜4に示すパレット1に搭載
されたワーク6(図5では不図示)は、非水性の液体と
して図示しないヒータにより40℃〜50℃程度に加熱
された1,1,1−トリクロロエタン等の有機溶剤が充
たされた第1の脱脂槽52中に浸され、第1の脱脂工程
を経る。第1の脱脂工程において使用する有機溶剤は、
次工程の第2の脱脂工程において使用した有機溶剤をオ
ーバーフローさせて貯留したものである。次に、有機溶
剤が充たされた第2の脱脂槽53による第2の脱脂工程
を経る。第2の脱脂工程において使用する有機溶剤は、
次工程の第3の脱脂工程において使用した気化された
(ベーパー)有機溶剤を結露させ、貯留したものであ
る。次に、第3の脱脂槽54中で上記気化された(ベー
パー)有機溶剤による第3の脱脂工程を経る。
【0012】第1ないし第3の脱脂工程を経たワーク6
は、親水性の液体として弱アルカリ性の界面活性材が充
たされた第1の超音波洗浄槽55中に浸され、第1の洗
浄工程を経るとともに、同様の第2の超音波洗浄槽56
中で第2の洗浄工程を経る。第1および第2の洗浄工程
を経たワーク6は、シャワー槽57に運ばれ、純水(市
水でもよい)のシャワーによる第1のリンス工程を経
る。次いで、純水が充たされた第3の超音波洗浄槽58
中に浸され、第2のリンス工程を経る。第2のリンス工
程において使用する純水は、次工程の第3のリンス工程
において使用した純水をオーバーフローさせて貯留した
ものである。次いで、後述する一次純水と呼ばれる通常
の純度(抵抗率が概ね1MΩ・cm程度)に精製された
純水が充たされた第4の超音波洗浄槽59中に浸され、
第3のリンス工程を経る。さらに、第3のリンス工程と
同程度に精製された純水が充たされた純水槽60中に浸
され、第4のリンス工程を経る。
は、親水性の液体として弱アルカリ性の界面活性材が充
たされた第1の超音波洗浄槽55中に浸され、第1の洗
浄工程を経るとともに、同様の第2の超音波洗浄槽56
中で第2の洗浄工程を経る。第1および第2の洗浄工程
を経たワーク6は、シャワー槽57に運ばれ、純水(市
水でもよい)のシャワーによる第1のリンス工程を経
る。次いで、純水が充たされた第3の超音波洗浄槽58
中に浸され、第2のリンス工程を経る。第2のリンス工
程において使用する純水は、次工程の第3のリンス工程
において使用した純水をオーバーフローさせて貯留した
ものである。次いで、後述する一次純水と呼ばれる通常
の純度(抵抗率が概ね1MΩ・cm程度)に精製された
純水が充たされた第4の超音波洗浄槽59中に浸され、
第3のリンス工程を経る。さらに、第3のリンス工程と
同程度に精製された純水が充たされた純水槽60中に浸
され、第4のリンス工程を経る。
【0013】第1ないし第4のリンス工程を経たワーク
6は、後述する乾燥工程の前工程を経る。後述する超純
水製造装置により精製され、図示しないヒータにより約
50℃に加熱された超純水(抵抗率が概ね10MΩ・c
m程度)が充たされた超純水槽61中に浸されて、乾燥
工程の前工程が行われる。この超純水に浸されたワーク
6は、引き上げられて、図示しないヒータにより約60
℃に加熱され、HEPAフィルタ62により浄化された
温風による乾燥工程を経る。そして、ワーク6の鏡面
(側面)に酸化膜を被覆する工程である増反射膜被覆工
程を経る。
6は、後述する乾燥工程の前工程を経る。後述する超純
水製造装置により精製され、図示しないヒータにより約
50℃に加熱された超純水(抵抗率が概ね10MΩ・c
m程度)が充たされた超純水槽61中に浸されて、乾燥
工程の前工程が行われる。この超純水に浸されたワーク
6は、引き上げられて、図示しないヒータにより約60
℃に加熱され、HEPAフィルタ62により浄化された
温風による乾燥工程を経る。そして、ワーク6の鏡面
(側面)に酸化膜を被覆する工程である増反射膜被覆工
程を経る。
【0014】本実施例は、上記洗浄、リンスおよび乾燥
の各工程の実行および各工程間の金属体の搬送の際、ワ
ーク6同士が接触しないように保持しながら、洗浄用治
具ごと搬送できるので、ワーク6の鏡面への衝撃等を防
止できる。上述した第1ないし第4の超音波洗浄槽5
5、56、58、59として、従来ガラス等の洗浄に広
く用いられている28kHz前後の超音波を発生するも
のは、アルミニウム等のワーク6の表面にエロージョン
が発生するために不向きである。上記エロージョンを抑
えるためには、100kH以上の超音波を発生するもの
が好ましい。また、800kHzを越える超音波を発生
するものは、入手が困難となるうえにキャビテーション
が弱まるので、あまり好ましくない。したがって、約1
00〜800kHzの超音波を発生するもの用いること
が好ましい。また、本実施例では、洗浄工程およびリン
ス工程にそれぞれ超音波洗浄槽を用いているが、いずれ
か一方でもよい。さらに、ワーク6を各超音波洗浄槽5
5、56、58、59内で上下動させれば、ワーク6に
超音波を均一に当てることができ、洗浄効果を上げると
ともに、表面のエロージョンをより効果的に防止でき、
好ましい。
の各工程の実行および各工程間の金属体の搬送の際、ワ
ーク6同士が接触しないように保持しながら、洗浄用治
具ごと搬送できるので、ワーク6の鏡面への衝撃等を防
止できる。上述した第1ないし第4の超音波洗浄槽5
5、56、58、59として、従来ガラス等の洗浄に広
く用いられている28kHz前後の超音波を発生するも
のは、アルミニウム等のワーク6の表面にエロージョン
が発生するために不向きである。上記エロージョンを抑
えるためには、100kH以上の超音波を発生するもの
が好ましい。また、800kHzを越える超音波を発生
するものは、入手が困難となるうえにキャビテーション
が弱まるので、あまり好ましくない。したがって、約1
00〜800kHzの超音波を発生するもの用いること
が好ましい。また、本実施例では、洗浄工程およびリン
ス工程にそれぞれ超音波洗浄槽を用いているが、いずれ
か一方でもよい。さらに、ワーク6を各超音波洗浄槽5
5、56、58、59内で上下動させれば、ワーク6に
超音波を均一に当てることができ、洗浄効果を上げると
ともに、表面のエロージョンをより効果的に防止でき、
好ましい。
【0015】上記乾燥工程では、洗浄液は、ワーク6の
穴部61に滞留せず、自重で挿入ピン5に沿って落下す
る。これを液抜けという。また、保持ピン4により、ワ
ーク6の下部と治具基板2の上面とは十分離れているの
で、ワーク下部も十分洗浄される。上記クリアランスc
は、ワーク6の材質、穴部61の大きさや形状、および
洗浄液の組成等により異なる。例えばワーク6がアルミ
ニウム製であり、円形の穴部61を有し、その直径が4
〜6mmであって、洗浄液が水である場合、クリアラン
スcは1〜3mmが好ましい。
穴部61に滞留せず、自重で挿入ピン5に沿って落下す
る。これを液抜けという。また、保持ピン4により、ワ
ーク6の下部と治具基板2の上面とは十分離れているの
で、ワーク下部も十分洗浄される。上記クリアランスc
は、ワーク6の材質、穴部61の大きさや形状、および
洗浄液の組成等により異なる。例えばワーク6がアルミ
ニウム製であり、円形の穴部61を有し、その直径が4
〜6mmであって、洗浄液が水である場合、クリアラン
スcは1〜3mmが好ましい。
【0016】保持ピン4、挿入ピン5の材質は、好まし
くは洗浄液との濡れ性の高いものを使用することによ
り、液抜けがさらに良好に行われる。
くは洗浄液との濡れ性の高いものを使用することによ
り、液抜けがさらに良好に行われる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ワークの
穴部に所定のクリアランスをもって挿入ピンを挿入する
ことにより、ワークの液抜けが良好に行われ、洗浄液が
たまることなく、洗浄、リンス、乾燥の各工程を一貫し
て行うことができる。これにより、ワークの歩留りが向
上し、品質向上およびコストダウンに効果がある。
穴部に所定のクリアランスをもって挿入ピンを挿入する
ことにより、ワークの液抜けが良好に行われ、洗浄液が
たまることなく、洗浄、リンス、乾燥の各工程を一貫し
て行うことができる。これにより、ワークの歩留りが向
上し、品質向上およびコストダウンに効果がある。
【0018】また、洗浄、リンスおよび乾燥の各工程の
実行および各工程間の金属体の搬送の際、ワーク同士が
接触しないように保持しながら、洗浄用治具ごと搬送で
きるので、ワークの鏡面への衝撃等を防止できる効果が
ある。
実行および各工程間の金属体の搬送の際、ワーク同士が
接触しないように保持しながら、洗浄用治具ごと搬送で
きるので、ワークの鏡面への衝撃等を防止できる効果が
ある。
【図1】本発明の洗浄用治具の一実施例を示す平面図で
ある。
ある。
【図2】図1に示す洗浄用治具の正面図である。
【図3】図1に示す洗浄用治具の側面図である。
【図4】本実施例の洗浄用治具およびワークの関係を示
す説明図である。
す説明図である。
【図5】本実施例に用いる洗浄装置を概略的に示す説明
図である。
図である。
1 パレット
2 治具基板
3 アーム
4 保持ピン
5 挿入ピン
6 ワーク
64 穴部
Claims (5)
- 【請求項1】 穴部を有する被洗浄部材を湿式洗浄する
際に用いる、可搬性を有する本体を有する洗浄用治具に
おいて、 前記本体に設けられた、前記被洗浄部材を保持する保持
手段と、 前記本体に設けられた、前記被洗浄部材の穴部に非接触
に挿入される突起を有することを特徴とする洗浄用治
具。 - 【請求項2】 保持手段および突起からなる組を複数組
有する請求項1記載の洗浄用治具。 - 【請求項3】 側面が鏡面であり、底面に穴部を有する
多面反射鏡の被洗浄部材を湿式洗浄する際に用いる、可
搬性を有する本体を有する洗浄用治具において、 前記本体に設けられた、前記被洗浄部材の底面の概縁部
を点接触により保持する保持手段と、 前記本体に設けられた、前記被洗浄部材の穴部に非接触
に挿入される突起を有することを特徴とする洗浄用治
具。 - 【請求項4】 保持手段および突起からなる組を複数組
有する請求項3記載の洗浄用治具。 - 【請求項5】 側面が鏡面であり、底面に穴部を有する
多面反射鏡の被洗浄部材を湿式洗浄する洗浄方法におい
て、 前記被洗浄部材の底面の概縁部をを請求項3記載の洗浄
用治具の保持手段で保持するとともに、前記被洗浄部材
の穴部に前記洗浄用治具の突起を非接触に挿入した後、
この状態で、前記被洗浄部材を親水性の液体で洗浄し、
その後、前記被洗浄部材の鏡面を超純水で洗浄し、この
超純水で洗浄した被洗浄部材を前記洗浄用治具ごと乾燥
させることを特徴とする洗浄方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3175513A JPH0521583A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 洗浄用治具および洗浄方法 |
US07/913,047 US5334258A (en) | 1991-07-16 | 1992-07-14 | Washing method |
EP92112108A EP0523678B1 (en) | 1991-07-16 | 1992-07-15 | Washing method |
DE69222581T DE69222581T2 (de) | 1991-07-16 | 1992-07-15 | Reinigungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3175513A JPH0521583A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 洗浄用治具および洗浄方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0521583A true JPH0521583A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15997368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3175513A Pending JPH0521583A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 洗浄用治具および洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0521583A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006332215A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Hitachi High-Tech Science Systems Corp | 微細構造処理方法及びその装置 |
KR100855813B1 (ko) * | 2007-04-25 | 2008-09-01 | 삼성전기주식회사 | 세정 지그 |
CN102814296A (zh) * | 2012-08-01 | 2012-12-12 | 太仓市璜泾飞达制衣厂 | 一种加弹机网络器清洗装置 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP3175513A patent/JPH0521583A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006332215A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Hitachi High-Tech Science Systems Corp | 微細構造処理方法及びその装置 |
KR100855813B1 (ko) * | 2007-04-25 | 2008-09-01 | 삼성전기주식회사 | 세정 지그 |
CN102814296A (zh) * | 2012-08-01 | 2012-12-12 | 太仓市璜泾飞达制衣厂 | 一种加弹机网络器清洗装置 |
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