JPH10199963A - 搬送具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液の持ち出しを少なくすることができる
搬送具を提供する。 【解決手段】 搬送具を一対の挟持部材１０により構成
する。各挟持部材１０の中央には開口１１をそれぞれ形
成し、半導体基板Ｍの周縁部を挿入して両側から挟持で
きるようにする。各挟持部材１０の底部には互いに傾斜
の向きが異なる２つの傾斜面１３，１４をそれぞれ形成
する。この２つの傾斜面１３，１４は中央に向かって下
方に突出させ、１つの頂角部１５を形成する。これによ
り、この搬送具を処理液の中に浸漬しても、搬送具に付
着した処理液は頂角部１５に集まり、大きな液滴となっ
て下方に落下する。よって、搬送具による処理液の持ち
出しを防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、搬送具に係り、特
に、半導体素子の製造において半導体基板を処理液に浸
漬させる場合などに用いる搬送具に関する。

【０００２】

【従来の技術】トランジスタや集積回路等の半導体素子
の製造においては、通常、物理的および化学的処理を行
う前後に溶液による洗浄（すなわちウエット洗浄）を行
い、半導体基板表面の微細な塵埃や汚染の除去を行って
いる。例えば、代表的な洗浄方法としては、まず水酸化
アンモニウム（ＮＨ₄ ＯＨ）と過酸化水素（Ｈ₂ Ｏ₂ ）
とを含む水溶液中に浸したのち超純水中で洗浄し、次い
でフッ酸（ＨＦ）を含む水溶液中に浸したのち超純水中
で洗浄し、続いて塩酸（ＨＣｌ）と過酸化水素（Ｈ₂ Ｏ
₂ ）とを含む水溶液中に浸したのち超純水中で洗浄する
ものがある。

【０００３】この時、半導体基板の搬送には、例えば、
図６に示した搬送具を用いている。この搬送具は、中央
に開口１１が形成された挟持部材６０を一対として備え
ており、半導体基板の周縁部を開口１１に挿入して一対
の挟持部材６０で両側から挟んで保持するようになって
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
搬送具では各挟持部材６０の底部が水平面６６によりそ
れぞれ構成されていたので、図６に示したように、各処
理液（各薬液や各超純水）に浸して引き上げたときに各
処理液の液滴Ｎが落下しないで底部に多数付着してしま
っていた。そのため、各処理液をそれらの各処理液槽か
らそれぞれ持ち出してしまい、各処理液が減少しそれら
が多量に必要となるという問題があった。また、持ち出
した薬液が次の超純水の中に持ち込まれてしまい、超純
水が汚れ洗浄が不十分となるという問題もあった。

【０００５】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その課題は、処理液の持ち出しを少なくすること
ができる搬送具を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明に係る搬送具は、
被処理物を保持しつつ処理液の中に浸漬させるものであ
って、底部に少なくとも１つの傾斜面を備えたものであ
る。

【０００７】この搬送具では、被処理物を保持して処理
液の中に浸漬される。これにより、搬送具にも処理液が
付着する。次いで、搬送具が処理液の中から引き上げら
れると、搬送具に付着した処理液は底部に集まり、更に
底部に形成された傾斜面にそってその傾斜面の先端部に
集まる。これにより、先端部の処理液の液滴が大きくな
り、先端部から落下する。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【０００９】図１は本発明の第１の実施の形態に係る搬
送具の構成を表すものである。この搬送具は一対の挟持
部材１０により構成されており、この一対の挟持部材１
０により被処理物である半導体基板（ここでは半導体ウ
ェハ）Ｍを保持して複数の処理液の中に浸漬させつつ各
処理液の間を搬送するものである。

【００１０】各挟持部材１０の中央には開口１１がそれ
ぞれ形成されており、この開口１１に半導体基板Ｍの周
縁部を挿入して一対の挟持部材１０により両側から挟持
するようになっている。各支持部材１０の上部には、こ
の挟持部材１０を支持する支持部材１２がそれぞれ配設
されている。各支持部材１２の他端部は図１においては
図示しないが適宜の搬送ロボット２１にそれぞれ接続さ
れており（図２参照）、予め定められたプログラムに沿
って搬送具を移動させ半導体基板Ｍを搬送することがで
きるようになっている。

【００１１】また、各挟持部材１０の底部には、傾斜の
向きが互いに異なる２つの傾斜面１３，１４がそれぞれ
形成されている。これらの各傾斜面１３，１４は平面に
よりそれぞれ構成されている。また、一方の傾斜面１３
は、底部の一端部Ａから他端部Ｂに向かって下方に突出
するようにそれぞれ形成されている。他方の傾斜面１４
は、他端部Ｂから一端部Ａに向かって下方に突出するよ
うにそれぞれ形成されている。この２つの傾斜面１３，
１４は中央付近においてそれぞれ交わっており、下方に
突出した頂角部１５をそれぞれ形成している。頂角部１
５の角度は任意に決定することができる。

【００１２】このような構成を有する搬送具は、次のよ
うにして用いられ、各半導体基板Ｍを複数の処理液の間
で搬送する。図２はこの搬送具の作用を説明するための
ものである。

【００１３】まず、図１に示したように、この搬送具に
より複数の半導体基板Ｍをそれぞれ保持する。すなわ
ち、一対の挟持部材１０の各開口１２に複数の半導体基
板Ｍの周縁部をそれぞれ挿入し、各半導体基板Ｍを両側
からそれぞれ挟持する。

【００１４】次いで、この搬送具を図２に示した搬送ロ
ボット２１により移動させ、各半導体基板Ｍを図２に示
した適宜な処理液（例えば、適宜な酸性あるいはアルカ
リ性の薬液）２２が入った処理液槽２３の上に搬送す
る。そののち、搬送具を下方に降ろして搬送具と共に各
半導体基板Ｍを処理液２２の中に浸漬させる。

【００１５】適宜の時間が経過したのち、図２に示した
ように、搬送具を上方に持ち上げて搬送具と共に各半導
体基板Ｍを処理液２２から引き上げる。この時、この搬
送具では各挟持部材１０の底部に両端部Ａ，Ｂから頂角
部１５に向かって傾斜面１３，１４が形成されているの
で、各挟持部材１０に付着した処理液２２が底部に集ま
ったのち更に頂角部１５に集まり、大きな液滴Ｎとなっ
て頂角部１５から処理液槽２３の中に落下する。

【００１６】続いて、搬送具を移動させて各半導体基板
Ｍを適宜な処理液（例えば、超純水）が入った次の処理
液槽の上に搬送する。そののち、搬送具を下方に降ろし
て搬送具と共に各半導体基板Ｍを処理液の中に浸漬さ
せ、適宜の時間が経過したのち、搬送具を上方に持ち上
げて搬送具と共に各半導体基板Ｍを処理液から引き上げ
る。このようにして、各半導体基板Ｍを複数の処理液の
中に浸漬させながら各処理液の間で搬送する。

【００１７】このように本実施の形態に係る搬送具によ
れば、各挟持部材１０の底部に両端部Ａ，Ｂから下方に
向かって傾斜面１３，１４をそれぞれ形成しそれにより
頂角部１５を形成するようにしたので、処理液に浸した
のち引き上げても、各挟持部材１０に付着した処理液を
底部の頂角部１５に集めることができ、大きな液滴Ｎと
して処理液槽の中に落下させることができる。よって、
各処理液を各処理液槽からそれぞれ持ち出すことを防止
でき、各処理液の減少を改善することができる。すなわ
ち、各処理液の使用量を削減することができる。

【００１８】また、次の処理液槽の中に前に処理液槽か
ら持ち出した処理液を持ち込むことも防止でき、処理液
（例えば、超純水）の汚染を防止することができる。す
なわち、処理液の作用力（例えば、洗浄力）を向上させ
ることができる。

【００１９】図３は本発明の第２の実施の形態に係る搬
送具の構成を表すものである。この搬送具は各挟持部材
３０の底部の形状が第１の実施の形態の挟持部材１０と
は異なっていることを除き、他は同一の構成を有してい
る。よって、ここでは、同一の構成要素には同一の符号
を付し、その詳細な説明は省略する。

【００２０】本実施の形態に係る搬送具は、各挟持部材
３０の底部に傾斜の向きが互いに異なる２つの傾斜面３
３，３４がそれぞれ形成されている。これら各傾斜面３
３，３４は平面によりそれぞれ構成されている。また、
一方の傾斜面３３は、底部の一端部Ａから他端部Ｂに向
かって一端部Ａが下方に突出するようにそれぞれ形成さ
れている。他方の傾斜面３４は、他端部Ｂから一端部Ａ
に向かって他端部Ｂが下方に突出するようにそれぞれ形
成されている。この２つの傾斜面１３，１４は中央付近
においてそれぞれ交わっており、上方に向かって凹部を
形成している。すなわち、一端部Ａには傾斜面３３によ
り側面と共に頂角部３５Ａが形成され、他端部Ｂには傾
斜面３４により側面と共に頂角部３５Ｂが形成されてい
る。各頂角部３５Ａ，３５Ｂの角度は、任意にそれぞれ
決定することができる。

【００２１】このような構成を有する搬送具は、第１の
実施の形態と同様にして用いられ、各半導体基板Ｍを複
数の処理液の間で搬送する。

【００２２】この時、この搬送具では、各挟持部材３０
の底部に頂角部３５Ａ，３５Ｂをそれぞれ形成するよう
に傾斜面３３，３４が形成されているので、各挟持部材
３０に付着した処理液が底部に集まったのち更に２つの
頂角部３５Ａ，３５Ｂにそれぞれ集まり、大きな液滴Ｎ
となって各頂角部３５Ａ，３５Ｂから処理液槽の中に落
下する。

【００２３】このように本実施の形態に係る搬送具によ
れば、各挟持部材３０の底部に両端部Ａ，Ｂから上方に
向かって傾斜面３３，３４をそれぞれ形成しそれにより
両端部Ａ，Ｂに頂角部３５Ａ，３５Ｂをそれぞれ形成す
るようにしたので、各挟持部材３０に付着した処理液を
底部の２つの頂角部３５Ａ，３５Ｂに集めることができ
る。よって、第１の実施の形態と同様の効果を有する。

【００２４】図４は本発明の第３の実施の形態に係る搬
送具の構成を表すものである。この搬送具は各挟持部材
４０の底部の形状が第１の実施の形態の挟持部材１０と
は異なっていることを除き、他は同一の構成を有してい
る。よって、ここでは、同一の構成要素には同一の符号
を付し、その詳細な説明は省略する。

【００２５】本実施の形態に係る搬送具は、各挟持部材
４０の底部に傾斜の向きが交互に異なる（すなわち傾斜
の向きが交互に上向きと下向きの）１０の傾斜面４３
が、一端部Ａから他端部Ｂに向かってそれぞれ形成され
ている。各傾斜面４３は平面によりそれぞれ構成されて
いる。底部には、これらの各傾斜面により６の頂角部４
５がそれぞれ形成されている。各頂角部４５の角度は、
任意にそれぞれ決定することができる。

【００２６】このような構成を有する搬送具は、第１の
実施の形態と同様にして用いられ、各半導体基板Ｍを複
数の処理液の間で搬送する。

【００２７】この時、この搬送具では、各挟持部材４０
の底部に６の頂角部４５をそれぞれ形成するように１０
の傾斜面４３が形成されているので、各挟持部材４０に
付着した処理液が底部に集まったのち更に各頂角部４５
にそれぞれ集まり、大きな液滴Ｎとなって各頂角部４５
からそれぞれ処理液槽の中に落下する。

【００２８】このように本実施の形態に係る搬送具によ
れば、各挟持部材４０の底部に傾斜の向きが交互に異な
る１０の傾斜面４３をそれぞれ形成することにより６の
（すなわち多くの）頂角部４５をそれぞれ形成するよう
にしたので、各挟持部材４０に付着した処理液を底部に
形成した多くの頂角部４５に分散してそれぞれ集めるこ
とができる。よって、第１の実施の形態と同様の効果を
有する。

【００２９】図５は本発明の第４の実施の形態に係る搬
送具の構成を表すものである。この搬送具は各挟持部材
５０の底部の形状が第１の実施の形態の挟持部材１０と
は異なっていることを除き、他は同一の構成を有してい
る。よって、ここでは、同一の構成要素には同一の符号
を付し、その詳細な説明は省略する。

【００３０】本実施の形態に係る搬送具は、各挟持部材
５０の底部に平面よりなる１つの傾斜面５３が形成され
ている。この傾斜面５３は、底部の一端部Ａから他端部
Ｂに一端部Ａが下方に向かって突出するように形成され
ている。一端部Ａには、この傾斜面５３により側面と共
に頂角部５５が形成されている。この頂角部５５の角度
は、任意に決定することができる。

【００３１】このような構成を有する搬送具は、第１の
実施の形態と同様にして用いられ、各半導体基板Ｍを複
数の処理液の間で搬送する。

【００３２】この時、この搬送具では、各挟持部材５０
の底部に頂角部５５を形成するように傾斜面５３が形成
されているので、各挟持部材５０に付着した処理液が底
部に集まったのち更に頂角部５５に集まり、大きな液滴
Ｎとなって頂角部５５から処理液槽の中に落下する。

【００３３】このように本実施の形態に係る搬送具によ
れば、各挟持部材５０の底部に傾斜面５３を形成しそれ
により頂角部５５を形成するようにしたので、各挟持部
材５０に付着した処理液を底部の頂角部５５に集めるこ
とができる。よって、第１の実施の形態と同様の効果を
有する。

【００３４】以上、各実施の形態を挙げて本発明を説明
したが、本発明は上記各実施の形態に限定されるもので
はなく、種々の変形が可能である。例えば、上記第１乃
至第３の実施の形態では、各傾斜面１３，１４，３３，
３４，４３の傾斜角度をそれぞれ同一とするようにした
が、それぞれが異なった傾斜角度を有するようにしても
よい。

【００３５】また、上記第３の本実施の形態では、傾斜
の向きが交互に異なる１０の傾斜面４３をそれぞれ形成
すると共に、それにより６の頂角部４５をそれぞれ形成
するようにしたが、傾斜面の数は３以上において任意に
決定することができ、頂角部の数は傾斜面の数に応じて
２以上で適宜決定することができる。このように傾斜面
の数を３以上とすれば、第３の実施の形態と同様に、傾
斜面の数を２としている第１および第２の実施の形態に
比べ、処理液を分散して各頂角部に集めることができ
る。

【００３６】更に、上記第４の実施の形態では、傾斜面
５３を一端部Ａが下方に突出するように形成し頂角部５
５を一端部Ａに形成するようにしたが、傾斜面を他端部
Ｂが下方に突出するように形成し頂角部を他端部Ｂに形
成するようにしてもよい。

【００３７】加えて、上記各実施の形態では、各傾斜面
１３，１４，３３，３４，４３，５３をそれぞれ平面に
より形成するようにしたが、曲面によりそれぞれ形成す
るようにしてもよい。更にまた、上記各実施の形態で
は、頂角部１５，３５Ａ，３５Ｂ，４５，５５をそれぞ
れ形成するようにしたが、各傾斜面１３，１４，３３，
３４，４３，５３の下方に突出した先端部をそれぞれ曲
面とするようにしてもよい。

【００３８】加えてまた、上記各実施の形態では、搬送
具により半導体基板Ｍを保持して処理液の中に浸漬させ
る場合について説明したが、本発明は、半導体基板Ｍに
限らず、処理液の中に浸漬させて処理する被処理物の搬
送に関し広く適用することができる。

【００３９】更にまた、上記各実施の形態では、搬送具
を一対の挟持部材１０，３０，４０，５０により構成す
る場合についてのみ説明したが、本発明は、他の構成を
有する搬送具についても広く適用することができる。例
えば、箱型の内部に複数の溝または仕切りが形成されて
おり、そこに半導体基板を立てて挿入するいわゆるカセ
ット式の搬送具においても適用することができる。この
場合、底部に形成する頂角部（または傾斜面の下方に突
出した先端部）の数は２以上とし、台などの上に安定し
て載置することができるようにすることが好ましい。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る搬送具
によれば、底部に少なくとも１つの傾斜面を備えるよう
にしたので、処理液に浸したのち引き上げても、搬送具
に付着した処理液を傾斜面の先端部に集めることがで
き、大きな液滴として先端部から落下させることができ
る。よって、処理液を搬送具により持ち出すことを防止
でき、処理液の減少を改善して処理液の使用量を削減す
ることができるという効果を奏する。

【００４１】また、被処理物を複数の処理液の中に浸漬
させて処理する場合でも、次の処理液の中に前の処理液
を持ち込むことも防止でき、次の処理液の汚染を防止す
ることができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る搬送具の構造
を表す斜視図である。

【図２】図１に示した搬送具の作用を説明するための平
面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態に係る搬送具の構造
を表す平面図である。

【図４】本発明の第３の実施の形態に係る搬送具の構造
を表す平面図である。

【図５】本発明の第４の実施の形態に係る搬送具の構造
を表す平面図である。

【図６】従来の搬送具を表す平面図である。

【符号の説明】

１０，３０，４０，５０，６０…挟持部材、１１…開
口、１２…支持部材、１３，１４，３３，３４，４３，
５３…傾斜面、１５，３５Ａ，３５Ｂ，４５，５５…頂
角部、２１…搬送ロボット、２２…処理液、２３…処理
液槽、６６…水平面、Ｍ…半導体基板（半導体ウェ
ハ）、Ｎ…液滴

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物を保持しつつ処理液の中に浸漬
   させる搬送具であって、 底部に少なくとも１つの傾斜面を備えたことを特徴とす
   る搬送具。
2. 【請求項２】 前記傾斜面により形成された少なくとも
   １つの頂角部を備えたことを特徴とする請求項１記載の
   搬送具。
3. 【請求項３】 一端部から他端部に向かって傾斜の向き
   が上向きと下向きとで交互に異なる複数の傾斜面と、 少なくとも１つの頂角部とを備えたことを特徴とする請
   求項２記載の搬送具。
4. 【請求項４】 両端部から下方に突出するようにそれぞ
   れ形成された２つの傾斜面と、 １つの頂角部とを備えたことを特徴とする請求項３記載
   の搬送具。
5. 【請求項５】 両端部が下方に突出するように両端部か
   らそれぞれ形成された２つの傾斜面と、 ２つの頂角部とを備えたことを特徴とする請求項３記載
   の搬送具。
6. 【請求項６】 ３以上の前記傾斜面と、 ２以上の頂角部とを備えたことを特徴とする請求項３記
   載の搬送具。
7. 【請求項７】 一端部から他端部に形成された１つの傾
   斜面と、 一端部または他端部に形成された１つの頂角部とを備え
   たことを特徴とする請求項２記載の搬送具。
8. 【請求項８】 前記被搬送物を両側から挟持する一対の
   挟持部材を備えると共に、各挟持部材の底部に少なくと
   も１つの傾斜面をそれぞれ備えたことを特徴とする請求
   項１記載の搬送具。