JPH0525670A - 鏡体の洗浄方法および装置 - Google Patents
鏡体の洗浄方法および装置Info
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- JPH0525670A JPH0525670A JP17551591A JP17551591A JPH0525670A JP H0525670 A JPH0525670 A JP H0525670A JP 17551591 A JP17551591 A JP 17551591A JP 17551591 A JP17551591 A JP 17551591A JP H0525670 A JPH0525670 A JP H0525670A
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- Japan
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- cleaning
- mirror body
- tank
- mirror
- washing
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高品質の鏡体をフロンを使用することなく洗
浄できる洗浄方法および装置を提供する。 【構成】 鏡体の形態に切削加工された金属体の鏡面に
増反射膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体の洗
浄装置において、鏡体を非水性の液体で洗浄する第１、
第２、第３の脱脂槽２、３、４と、鏡体を親水性の液体
で洗浄する第１、第２の超音波洗浄槽５、６と、鏡体を
純水により洗浄するリンス槽であるシャワー槽７、第
３、第４の超音波洗浄槽８、９、純水槽１０と、鏡体を
超純水に浸す超純水槽１１と、鏡体を超純水に浸した後
にＨＥＰＡフィルタ１２により浄化した温風により乾燥
させる乾燥槽とを有する。
浄できる洗浄方法および装置を提供する。 【構成】 鏡体の形態に切削加工された金属体の鏡面に
増反射膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体の洗
浄装置において、鏡体を非水性の液体で洗浄する第１、
第２、第３の脱脂槽２、３、４と、鏡体を親水性の液体
で洗浄する第１、第２の超音波洗浄槽５、６と、鏡体を
純水により洗浄するリンス槽であるシャワー槽７、第
３、第４の超音波洗浄槽８、９、純水槽１０と、鏡体を
超純水に浸す超純水槽１１と、鏡体を超純水に浸した後
にＨＥＰＡフィルタ１２により浄化した温風により乾燥
させる乾燥槽とを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザービームプリン
タ等の画像形成装置（走査光学装置）に用いる多面反射
鏡（ポリゴンミラー）や、カメラ用ミラー等の鏡体の増
反射膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体の洗浄
方法に関する。
タ等の画像形成装置（走査光学装置）に用いる多面反射
鏡（ポリゴンミラー）や、カメラ用ミラー等の鏡体の増
反射膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体の洗浄
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、多面反射鏡やカメラ用ミラー等の
鏡体は、主としてアルミニウム等の金属体で構成され、
その洗浄は、図５に示す洗浄装置で行われている。図５
において、多面反射鏡の形態に切削加工された金属体
は、複数の槽からなる脱脂槽６１中でフロンによる脱脂
工程、強酸、市水および純水がそれぞれ充たされたリン
ス槽６２によるリンス工程、および乾燥槽６３中でフロ
ンによる乾燥工程からなる洗浄工程が行われる。
鏡体は、主としてアルミニウム等の金属体で構成され、
その洗浄は、図５に示す洗浄装置で行われている。図５
において、多面反射鏡の形態に切削加工された金属体
は、複数の槽からなる脱脂槽６１中でフロンによる脱脂
工程、強酸、市水および純水がそれぞれ充たされたリン
ス槽６２によるリンス工程、および乾燥槽６３中でフロ
ンによる乾燥工程からなる洗浄工程が行われる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年、環境保護の要望
の高まりから、フロンを使用しないことが各種の分野同
様、鏡体の製造、特に洗浄においても重要な課題となっ
ている。本発明の目的は、高品質の鏡体をフロンを使用
することなく洗浄できる洗浄方法および装置を提供する
ことにある。
の高まりから、フロンを使用しないことが各種の分野同
様、鏡体の製造、特に洗浄においても重要な課題となっ
ている。本発明の目的は、高品質の鏡体をフロンを使用
することなく洗浄できる洗浄方法および装置を提供する
ことにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の鏡体の洗浄方法
は、鏡体の形態に切削加工された金属体の鏡面に増反射
膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体の洗浄方法
において、前記鏡体を非水性の液体で洗浄する脱脂工程
と、該脱脂工程を経た鏡体を親水性の液体で洗浄する洗
浄工程と、該洗浄工程を経た鏡体を純水により洗浄する
リンス工程と、該リンス工程を経た鏡体を超純水に浸し
た後に乾燥させる乾燥工程とを有することを特徴とす
る。
は、鏡体の形態に切削加工された金属体の鏡面に増反射
膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体の洗浄方法
において、前記鏡体を非水性の液体で洗浄する脱脂工程
と、該脱脂工程を経た鏡体を親水性の液体で洗浄する洗
浄工程と、該洗浄工程を経た鏡体を純水により洗浄する
リンス工程と、該リンス工程を経た鏡体を超純水に浸し
た後に乾燥させる乾燥工程とを有することを特徴とす
る。
【０００５】本発明の鏡体の洗浄方法は、洗浄工程およ
びリンス工程の少なくとも一方において１００ｋＨｚ〜
８００ｋＨｚの超音波を用いることができる。また、本
発明の鏡体の洗浄装置は、鏡体の形態に切削加工された
金属体の鏡面に増反射膜を被覆する被覆工程の前処理に
用いる鏡体の洗浄装置において、前記鏡体を非水性の液
体で洗浄する脱脂槽と、前記鏡体を親水性の液体で洗浄
する洗浄槽と、前記鏡体を純水により洗浄するリンス槽
と、前記鏡体を超純水に浸した後に乾燥させる乾燥槽と
を有することを特徴とする。
びリンス工程の少なくとも一方において１００ｋＨｚ〜
８００ｋＨｚの超音波を用いることができる。また、本
発明の鏡体の洗浄装置は、鏡体の形態に切削加工された
金属体の鏡面に増反射膜を被覆する被覆工程の前処理に
用いる鏡体の洗浄装置において、前記鏡体を非水性の液
体で洗浄する脱脂槽と、前記鏡体を親水性の液体で洗浄
する洗浄槽と、前記鏡体を純水により洗浄するリンス槽
と、前記鏡体を超純水に浸した後に乾燥させる乾燥槽と
を有することを特徴とする。
【０００６】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の鏡体の洗浄装置の一実施例
を概略的に示す説明図である。本実施例は、鏡体を非水
性の液体で洗浄する３槽の脱脂槽２、３、４と、鏡体を
親水性の液体で洗浄する２槽の超音波洗浄槽５、６と、
鏡体を純水により洗浄するリンス槽であるシャワー槽
７、２槽の超音波洗浄槽８、９、および純水槽１０と、
鏡体を超純水に浸すための超純水槽１１と、鏡体を乾燥
させる図示しない乾燥槽としての図示しないヒータおよ
びＨＥＰＡフィルタ１２とを備えており、さらに、それ
ぞれ公知の切削加工装置１と増反射膜被覆装置１３とを
有している。
て説明する。図１は本発明の鏡体の洗浄装置の一実施例
を概略的に示す説明図である。本実施例は、鏡体を非水
性の液体で洗浄する３槽の脱脂槽２、３、４と、鏡体を
親水性の液体で洗浄する２槽の超音波洗浄槽５、６と、
鏡体を純水により洗浄するリンス槽であるシャワー槽
７、２槽の超音波洗浄槽８、９、および純水槽１０と、
鏡体を超純水に浸すための超純水槽１１と、鏡体を乾燥
させる図示しない乾燥槽としての図示しないヒータおよ
びＨＥＰＡフィルタ１２とを備えており、さらに、それ
ぞれ公知の切削加工装置１と増反射膜被覆装置１３とを
有している。
【０００７】次に、本実施例による洗浄方法を説明す
る。まず、公知の切削加工装置１により、主としてアル
ミニウムからなる金属体（不図示）を多面反射鏡の形態
に加工する切削加工工程を経る。多面反射鏡の形態に切
削加工された金属体は、非水性の液体として図示しない
ヒータにより５０℃〜８０℃程度に加熱された１，１，
１−トリクロロエタン等の有機溶剤が充たされた第１の
脱脂槽２中に浸され、第１の脱脂工程を経る。第１の脱
脂工程において使用する有機溶剤は、次工程の第２の脱
脂工程において使用した有機溶剤をオーバーフローさせ
て貯留したものである。次に、有機溶剤が充たされた第
２の脱脂槽３による第２の脱脂工程を経る。第２の脱脂
工程において使用する有機溶剤は、次工程の第３の脱脂
工程において使用した気化された（ベーパー）有機溶剤
を結露させ、貯留したものである。次に、第３の脱脂槽
３中で上記気化された（ベーパー）有機溶剤による第３
の脱脂工程を経る。
る。まず、公知の切削加工装置１により、主としてアル
ミニウムからなる金属体（不図示）を多面反射鏡の形態
に加工する切削加工工程を経る。多面反射鏡の形態に切
削加工された金属体は、非水性の液体として図示しない
ヒータにより５０℃〜８０℃程度に加熱された１，１，
１−トリクロロエタン等の有機溶剤が充たされた第１の
脱脂槽２中に浸され、第１の脱脂工程を経る。第１の脱
脂工程において使用する有機溶剤は、次工程の第２の脱
脂工程において使用した有機溶剤をオーバーフローさせ
て貯留したものである。次に、有機溶剤が充たされた第
２の脱脂槽３による第２の脱脂工程を経る。第２の脱脂
工程において使用する有機溶剤は、次工程の第３の脱脂
工程において使用した気化された（ベーパー）有機溶剤
を結露させ、貯留したものである。次に、第３の脱脂槽
３中で上記気化された（ベーパー）有機溶剤による第３
の脱脂工程を経る。
【０００８】第１ないし第３の脱脂工程を経た金属体
は、親水性の液体として弱アルカリ性の界面活性材が充
たされた第１の超音波洗浄槽５中に浸され、第１の洗浄
工程を経るとともに、同様の第２の超音波洗浄槽６中で
第２の洗浄工程を経る。第１および第２の洗浄工程を経
た金属体は、シャワー槽７に運ばれ、純水（市水でもよ
い）のシャワーによる第１のリンス工程を経る。次い
で、純水が充たされた第３の超音波洗浄槽８中に浸さ
れ、第２のリンス工程を経る。第２のリンス工程におい
て使用する純水は、次工程の第３のリンス工程において
使用した純水をオーバーフローさせて貯留したものであ
る。次いで、後述する一次純水と呼ばれる通常の純度
（抵抗率が概ね１ＭΩ・ｃｍ程度）に精製された純水が
充たされた第４の超音波洗浄槽９中に浸され、第３のリ
ンス工程を経る。さらに、第３のリンス工程と同程度に
精製された純水が充たされた純水槽１０中に浸され、第
４のリンス工程を経る。
は、親水性の液体として弱アルカリ性の界面活性材が充
たされた第１の超音波洗浄槽５中に浸され、第１の洗浄
工程を経るとともに、同様の第２の超音波洗浄槽６中で
第２の洗浄工程を経る。第１および第２の洗浄工程を経
た金属体は、シャワー槽７に運ばれ、純水（市水でもよ
い）のシャワーによる第１のリンス工程を経る。次い
で、純水が充たされた第３の超音波洗浄槽８中に浸さ
れ、第２のリンス工程を経る。第２のリンス工程におい
て使用する純水は、次工程の第３のリンス工程において
使用した純水をオーバーフローさせて貯留したものであ
る。次いで、後述する一次純水と呼ばれる通常の純度
（抵抗率が概ね１ＭΩ・ｃｍ程度）に精製された純水が
充たされた第４の超音波洗浄槽９中に浸され、第３のリ
ンス工程を経る。さらに、第３のリンス工程と同程度に
精製された純水が充たされた純水槽１０中に浸され、第
４のリンス工程を経る。
【０００９】第１ないし第４のリンス工程を経た金属体
は、後述する乾燥工程の前工程を経る。後述する超純水
製造装置により精製され、図示しないヒータにより約５
０℃に加熱された超純水（抵抗率が概ね１０ＭΩ・ｃｍ
程度）が充たされた超純水槽１１中に浸されて、乾燥工
程の前工程が行われる。この超純水に浸された金属体
は、引き上げられて、図示しないヒータにより約６０℃
に加熱され、ＨＥＰＡフィルタ１２により浄化された温
風による乾燥工程を経る。そして、金属体の鏡面（側
面）に酸化膜を被覆する装置である公知の増反射膜被覆
装置１３を用いる増反射膜被覆工程を経る。
は、後述する乾燥工程の前工程を経る。後述する超純水
製造装置により精製され、図示しないヒータにより約５
０℃に加熱された超純水（抵抗率が概ね１０ＭΩ・ｃｍ
程度）が充たされた超純水槽１１中に浸されて、乾燥工
程の前工程が行われる。この超純水に浸された金属体
は、引き上げられて、図示しないヒータにより約６０℃
に加熱され、ＨＥＰＡフィルタ１２により浄化された温
風による乾燥工程を経る。そして、金属体の鏡面（側
面）に酸化膜を被覆する装置である公知の増反射膜被覆
装置１３を用いる増反射膜被覆工程を経る。
【００１０】上記乾燥工程を経た１０００枚の多面反射
鏡を５０倍の顕微鏡で観察し、歩留まりを調べたとこ
ろ、０．１％という結果が得られた。図５に示す従来の
技術を用いて同様に調べた歩留まりが５．３％であり、
本実施例はきわめて良好な歩留まりを得ることができ
た。上述した第１ないし第４の超音波洗浄槽５、６、
８、９として、従来ガラス等の洗浄に広く用いられてい
る２８ｋＨｚ前後の超音波を発生するものは、アルミニ
ウム等の金属体の表面にエロージョンが発生するために
不向きである。上記エロージョンを抑えるためには、１
００ｋＨ以上の超音波を発生するものが好ましい。ま
た、８００ｋＨｚを越える超音波を発生するものは、入
手が困難となるうえにキャビテーションが弱まるので、
あまり好ましくない。したがって、約１００〜８００ｋ
Ｈｚの超音波を発生するもの用いることが好ましい。ま
た、本実施例では、洗浄工程およびリンス工程にそれぞ
れ超音波洗浄槽を用いているが、いずれか一方でもよ
い。さらに、金属体を各超音波洗浄槽５、６、８、９内
で上下動させれば、今属体に超音波を均一に当てること
ができ、洗浄効果を上げるとともに、表面のエロージョ
ンをより効果的に防止でき、好ましい。
鏡を５０倍の顕微鏡で観察し、歩留まりを調べたとこ
ろ、０．１％という結果が得られた。図５に示す従来の
技術を用いて同様に調べた歩留まりが５．３％であり、
本実施例はきわめて良好な歩留まりを得ることができ
た。上述した第１ないし第４の超音波洗浄槽５、６、
８、９として、従来ガラス等の洗浄に広く用いられてい
る２８ｋＨｚ前後の超音波を発生するものは、アルミニ
ウム等の金属体の表面にエロージョンが発生するために
不向きである。上記エロージョンを抑えるためには、１
００ｋＨ以上の超音波を発生するものが好ましい。ま
た、８００ｋＨｚを越える超音波を発生するものは、入
手が困難となるうえにキャビテーションが弱まるので、
あまり好ましくない。したがって、約１００〜８００ｋ
Ｈｚの超音波を発生するもの用いることが好ましい。ま
た、本実施例では、洗浄工程およびリンス工程にそれぞ
れ超音波洗浄槽を用いているが、いずれか一方でもよ
い。さらに、金属体を各超音波洗浄槽５、６、８、９内
で上下動させれば、今属体に超音波を均一に当てること
ができ、洗浄効果を上げるとともに、表面のエロージョ
ンをより効果的に防止でき、好ましい。
【００１１】本実施例において、各工程の実行および各
槽間の金属体の搬送は、各工程で用いられる液体の液抜
けや鏡面への衝撃等を十分配慮して行う必要がある。し
たがって、多数の金属体をかご状の容器に積載して移送
するようなことは好ましくなく、金属体同士が接触しな
いように専用の洗浄用治具で保持しながら、この治具ご
と各工程の実行および各槽間の搬送を行うことが好まし
い。
槽間の金属体の搬送は、各工程で用いられる液体の液抜
けや鏡面への衝撃等を十分配慮して行う必要がある。し
たがって、多数の金属体をかご状の容器に積載して移送
するようなことは好ましくなく、金属体同士が接触しな
いように専用の洗浄用治具で保持しながら、この治具ご
と各工程の実行および各槽間の搬送を行うことが好まし
い。
【００１２】図３は本実施例に好適な洗浄用治具の一例
を示す平面図である。本例の洗浄用治具であるパレット
１０１は、複数の窓１２１、１２２が設けられた本体で
ある治具基板１０２上に、それぞれ複数のアーム１０３
と、保持ピン１０４と、挿入ピン１０５とが設けられた
ものである。複数の窓１２１、１２２は、パレット１が
図示しない超音波洗浄槽内に入れられた際に超音波を通
すためのものであり、個数や大きさ、形状等は使用され
る条件等により適宜定められる。アーム１０３は、パレ
ット１０１の搬送の際に図示しない搬送装置により引っ
掛けられ、持ち上げられるためのものである。保持ピン
１０４は、超音波洗浄の際に金属体（以下ワーク１０６
という）を動かないようにワーク１０６の底面の概縁部
を点接触により保持する保持手段であり、図１に示すよ
うに、１個のワーク１０６につき４本の保持ピン１０４
がワーク１０６の底面概縁部に対応する位置に設けられ
ている。挿入ピン１０５は、後述する液抜けをするため
のワーク１０６の穴部に非接触に挿入される突起であ
り、保持ピン１０４より僅かに長く形成され、１個のワ
ーク１０６につき１本の挿入ピン１０５がワーク１０６
の中心の回転軸に対応する位置に設けられている。
を示す平面図である。本例の洗浄用治具であるパレット
１０１は、複数の窓１２１、１２２が設けられた本体で
ある治具基板１０２上に、それぞれ複数のアーム１０３
と、保持ピン１０４と、挿入ピン１０５とが設けられた
ものである。複数の窓１２１、１２２は、パレット１が
図示しない超音波洗浄槽内に入れられた際に超音波を通
すためのものであり、個数や大きさ、形状等は使用され
る条件等により適宜定められる。アーム１０３は、パレ
ット１０１の搬送の際に図示しない搬送装置により引っ
掛けられ、持ち上げられるためのものである。保持ピン
１０４は、超音波洗浄の際に金属体（以下ワーク１０６
という）を動かないようにワーク１０６の底面の概縁部
を点接触により保持する保持手段であり、図１に示すよ
うに、１個のワーク１０６につき４本の保持ピン１０４
がワーク１０６の底面概縁部に対応する位置に設けられ
ている。挿入ピン１０５は、後述する液抜けをするため
のワーク１０６の穴部に非接触に挿入される突起であ
り、保持ピン１０４より僅かに長く形成され、１個のワ
ーク１０６につき１本の挿入ピン１０５がワーク１０６
の中心の回転軸に対応する位置に設けられている。
【００１３】図３に示す洗浄用治具を用いれば、金属体
の液抜けが良好に行われ、洗浄液がたまることなく、洗
浄、リンス、乾燥の各工程を一貫して行うことができ
る。次に、本実施例において用いる超純水発生装置につ
いて説明する。この超純水発生装置は、図４に示すよう
に、一次純水を殺菌する紫外線照射装置４１と、粒子径
約１μｍ以上の粒子を除去するプレフィルタ４２と、粒
子径約１μｍ以下の有機物を除去する活性炭フィルタ４
３と、Ｎａ+ ，Ｋ+ ，Ｃａ2+，Ｃｌ- ，ＳＯ4 2ー等のイ
オンを除去するイオン交換器４４、４５と、粒子径約
０．２μｍ以上の微粒子を除去するマイクロフィルタ４
６から構成されている。
の液抜けが良好に行われ、洗浄液がたまることなく、洗
浄、リンス、乾燥の各工程を一貫して行うことができ
る。次に、本実施例において用いる超純水発生装置につ
いて説明する。この超純水発生装置は、図４に示すよう
に、一次純水を殺菌する紫外線照射装置４１と、粒子径
約１μｍ以上の粒子を除去するプレフィルタ４２と、粒
子径約１μｍ以下の有機物を除去する活性炭フィルタ４
３と、Ｎａ+ ，Ｋ+ ，Ｃａ2+，Ｃｌ- ，ＳＯ4 2ー等のイ
オンを除去するイオン交換器４４、４５と、粒子径約
０．２μｍ以上の微粒子を除去するマイクロフィルタ４
６から構成されている。
【００１４】この超純水発生装置により、抵抗率が概ね
１０ＭΩ・ｃｍ程度の超純水が精製される。次に、本実
施例の洗浄装置により洗浄された多面反射鏡を用いた走
査光学装置について図２を参照して説明する。図２にお
いて、半導体レーザ２１より出射された光ビームはコリ
メータレンズ２２を透過することにより概略平行光とさ
れる。コリメータレンズ２の近傍には開口絞り２３があ
り、光ビームの大きさが決められる。開口絞り２３を通
過した光ビームは多面反射鏡２４に入射される。ここ
で、多面反射鏡２４は、矢印Ａ方向に高速で回転してお
り、入射された光ビームは高速に走査され、ｆθレンズ
２５を通過して走査面２６に達する。
１０ＭΩ・ｃｍ程度の超純水が精製される。次に、本実
施例の洗浄装置により洗浄された多面反射鏡を用いた走
査光学装置について図２を参照して説明する。図２にお
いて、半導体レーザ２１より出射された光ビームはコリ
メータレンズ２２を透過することにより概略平行光とさ
れる。コリメータレンズ２の近傍には開口絞り２３があ
り、光ビームの大きさが決められる。開口絞り２３を通
過した光ビームは多面反射鏡２４に入射される。ここ
で、多面反射鏡２４は、矢印Ａ方向に高速で回転してお
り、入射された光ビームは高速に走査され、ｆθレンズ
２５を通過して走査面２６に達する。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、金属体を
非水性および親水性の液体ならびに純水により洗浄し、
超純水に浸した後に乾燥させることにより、高品質の鏡
体をフロンを使用することなく洗浄することができる。
また、良好な歩留まりを得ることができる効果がある。
非水性および親水性の液体ならびに純水により洗浄し、
超純水に浸した後に乾燥させることにより、高品質の鏡
体をフロンを使用することなく洗浄することができる。
また、良好な歩留まりを得ることができる効果がある。
【図１】図１は本発明の鏡体の洗浄装置の一実施例を概
略的に示す説明図である。
略的に示す説明図である。
【図２】本実施例の洗浄装置により洗浄された鏡体であ
る多面反射鏡を用いた走査光学装置を示す概略構成図で
ある。
る多面反射鏡を用いた走査光学装置を示す概略構成図で
ある。
【図３】本実施例に好適な洗浄用治具の一例を示す平面
図である。
図である。
【図４】本実施例において用いる超純水発生装置の構成
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図５】鏡体の洗浄装置の従来例を示す説明図である。
１ 切削加工装置
２ 第１の脱脂槽
３ 第２の脱脂槽
４ 第３の脱脂槽
５ 第１の超音波洗浄槽
６ 第２の超音波洗浄槽
７ シャワー槽
８ 第３の超音波洗浄槽
９ 第４の超音波洗浄槽
１０ 純水槽
１１ 超純水槽
１２ ＨＥＰＡフィルタ
１３ 増反射膜被覆装置
２１ 半導体レーザ
２２ コリメータレンズ
２３ 開口絞り
２４ 多面反射鏡
２５ ｆθレンズ
２６ 走査面
Claims (5)
- 【請求項１】 鏡体の形態に切削加工された金属体の鏡
面に増反射膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体
の洗浄方法において、 前記鏡体を非水性の液体で洗浄する脱脂工程と、 該脱脂工程を経た鏡体を親水性の液体で洗浄する洗浄工
程と、 該洗浄工程を経た鏡体を純水により洗浄するリンス工程
と、 該リンス工程を経た鏡体を超純水に浸した後に乾燥させ
る乾燥工程とを有することを特徴とする鏡体の洗浄方
法。 - 【請求項２】 洗浄工程において１００ｋＨｚ〜８００
ｋＨｚの超音波を用いる請求項１記載の鏡体の洗浄方
法。 - 【請求項３】 リンス工程において１００ｋＨｚ〜８０
０ｋＨｚの超音波を用いる請求項１記載の鏡体の洗浄方
法。 - 【請求項４】 洗浄工程およびリンス工程においてそれ
ぞれ１００ｋＨｚ〜８００ｋＨｚの超音波を用いる請求
項１記載の鏡体の洗浄方法。 - 【請求項５】 鏡体の形態に切削加工された金属体の鏡
面に増反射膜を被覆する被覆工程の前処理に用いる鏡体
の洗浄装置において、 前記鏡体を非水性の液体で洗浄する脱脂槽と、 前記鏡体を親水性の液体で洗浄する洗浄槽と、 前記鏡体を純水により洗浄するリンス槽と、 前記鏡体を超純水に浸した後に乾燥させる乾燥槽とを有
することを特徴とする鏡体の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17551591A JPH0525670A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 鏡体の洗浄方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17551591A JPH0525670A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 鏡体の洗浄方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0525670A true JPH0525670A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=15997406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17551591A Pending JPH0525670A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 鏡体の洗浄方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0525670A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100905757B1 (ko) * | 2008-12-09 | 2009-07-02 | (주)대신에이엔씨 | 인플레이터 스틸부품의 방청처리방법 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP17551591A patent/JPH0525670A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100905757B1 (ko) * | 2008-12-09 | 2009-07-02 | (주)대신에이엔씨 | 인플레이터 스틸부품의 방청처리방법 |
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