JPH0521007B2 - - Google Patents
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- JPH0521007B2 JPH0521007B2 JP59183637A JP18363784A JPH0521007B2 JP H0521007 B2 JPH0521007 B2 JP H0521007B2 JP 59183637 A JP59183637 A JP 59183637A JP 18363784 A JP18363784 A JP 18363784A JP H0521007 B2 JPH0521007 B2 JP H0521007B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
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Description
本発明は排ガスの処理方法、特にアルミニウム
やシリコン等の金属を弗素或は塩素を含むガスに
よつてドライエツチングした際、排出されたガス
中の弗素分や塩素分を有効に捕促せしめる処理手
段に係るものである。 近年各種エレクトロニクスの発展に伴ない、そ
れらに用いられる電子基板としてシリコン、電極
材としてアルミニウム等の金属が多数用いられ、
これらは必要に応じてエツチング処理される。か
かるエツチング剤としては例えばBCl3、Cl2、
CF4、CHF3、CCl4等の塩素分や弗素分が多く用
いられ、エツチング処理後はこれらを含んだ排ガ
スが排出される。 これら排ガスは個々にはそれ程大量でないが、
含まれる塩素分や弗素分の濃度が比較的高い為、
これらガスをそのまま大気中に放出することは公
害防止の見地から許されない。 従来かかる排ガスの処理手段としては、例えば
活性炭等によるガス吸着が排液等を生じないとし
て有力な手段とされて来た。 処で、かかるエツチング手段としては所謂ドラ
イエツチングが一般に用いられており、処理ガス
は真空ポンプにより強制的にエツチングの場から
排出される手段が採られている。この為、活性炭
等の吸着材による排ガス処理を採用すると、真空
ポンプより前では雰囲気が脱着雰囲気となる為実
施し得ず、真空ポンプより後の部分で行なわざる
を得ない。 しかしながら、この様に塩素分や弗素分を含ん
だガスを真空ポンプに通すと、ポンプ内の油が分
解し、ポンプの運転に著しい支障を来たす。 この為従来においては度々真空ポンプを調整し
たり取り換えを行ないつつ処理せざるを得ず、そ
の操作が煩雑である等の欠点を有していた。 本発明者はかかる点に鑑み、エツチング排ガス
を容易且確実に無害化出来、しかも非真空雰囲
気、即ち真空ポンプに吸入される前にエツチング
ガスを有効に処理し得る手段を見出すことを目的
として種々研究、検討した結果、吸着法によら
ず、有害ガス或は腐食性ガスと反応してこれを無
害化し得るような特定の固体物質を用いることに
より前記目的を達成し得ることを見出した。 かくして本発明は、ドライエツチング処理工程
から排出される弗素分及び/又は塩素分を含有す
る排ガスを、真空ポンプの上流で、多孔質粒状の
酸化マグネシウムと乾式で接触せしめることを特
徴とする排ガスの処理方法を提供するにある。 本発明において排ガス中に含まれる有害或は腐
食性の弗素分としてはその形態として例えばHF
が、又有害或は腐食性の塩素分としてはその形態
として例えばBCl3、Cl2、HCl等が挙げられ、こ
れは一種或は二種以上適宜な割合で混合していて
差し支えない。 この様な排ガスに対し、本発明においては、多
孔質粒状の酸化マグネシウムと、乾式で接触せし
める。本発明において酸化マグネシウムは、多孔
質粒状であるので、排ガスとの接触面積が大きく
且排ガスが通過する際の圧力損失が小さいという
特徴を有する。実際、酸化マグネシウムと排ガス
を接触せしめる手段としては、例えば粒状品の固
定層、移動層、流動層等の手段を適宜採用し得
る。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 1 アルミニウムのドライエツチング装置から排出
された廃ガス(0℃、1気圧換算の濃度で、
BCl369.2容量%、HCl29.6容量%、Cl21.2容量%
なる組成からなり、真空ポンプの上流のガス)
を、直径12mm、長さ300mmのステンレス製管に充
填材として顆粒状酸化マグネシウム(平均粒子径
1mm、見掛比重0.45、BET非表面積180m2/g)
を100g充填した反応管に、標準状態(0℃、1
気圧)換算硫量0.2Nl/分、温度80℃、絶対圧力
0.1torrなる条件で通過させた。反応管を出たガ
スを真空ポンプによつて吸引し2Nl/分のN2ガス
を混合さた後、真空ポンプ出口のガスを採取し化
学分析を行なつた。 廃ガスを反応管に導入後1時間後の真空ポンプ
出口ガスの分析値は、BCl33ppm、HC15ppm、
Cl210ppmであつた。 実施例 2 二酸化珪素膜のドライエツチング装置から排出
された廃ガス(0℃、1気圧換算の濃度で、
CF470.5容量%、H221.3容量%、HF0.58容量%な
る組成からなり、真空ポンプの上流のガス)を実
施例1と同様にして処理し、真空ポンプ出口のガ
スを採取し化学分析を行なつた。 廃ガスを反応管に導入後1時間後の真空ポンプ
出口ガスの分析値は、HF2ppmであつた。 比較例 1〜7 前記実施例に示されたと同じ反応管を用いて、
充填剤をかえて、実施例1に示されたと同じ組成
の廃ガスを、実施例1と同じ条件で処理し、真空
ポンプ出口ガス(N2ガスが混合されたガス)を
採取し化学分析した結果を表1に示す。 比較例 8〜14 前記実施例に示されたと同じ反応管を用いて、
充填剤をかえて、実施例2に示されたと同じ組成
の廃ガスを、前記実施例と同じ条件で処理し、真
空ポンプ出口ガス(N2ガスが混合されたガス)
を採取し化学分析した結果を表2に示す。 実施例 3 充填材として直径約1mm、長さ5mmの円柱状に
成形された酸化マグネシウム(BET比表面積180
m2/g)を直径300mm、長さ1300mmの塩ビ製管中
に30Kg充填し、これにアルミニウムのドライエツ
チング装置から排出された0℃1気圧換算の濃度
で、BCl32.3%、HCl1.5%、HF0.1%を含む排ガ
スを標準状態換算流量8.5Nl/分、温度25℃にて
常圧下に通過せしめた。充填層を通過したガスを
採取し、化学分析を行なつた処、ガス導入後100
時間後のガス分析値はBCl31.2ppm、
HCl0.8ppm、HF1ppmであつた。
やシリコン等の金属を弗素或は塩素を含むガスに
よつてドライエツチングした際、排出されたガス
中の弗素分や塩素分を有効に捕促せしめる処理手
段に係るものである。 近年各種エレクトロニクスの発展に伴ない、そ
れらに用いられる電子基板としてシリコン、電極
材としてアルミニウム等の金属が多数用いられ、
これらは必要に応じてエツチング処理される。か
かるエツチング剤としては例えばBCl3、Cl2、
CF4、CHF3、CCl4等の塩素分や弗素分が多く用
いられ、エツチング処理後はこれらを含んだ排ガ
スが排出される。 これら排ガスは個々にはそれ程大量でないが、
含まれる塩素分や弗素分の濃度が比較的高い為、
これらガスをそのまま大気中に放出することは公
害防止の見地から許されない。 従来かかる排ガスの処理手段としては、例えば
活性炭等によるガス吸着が排液等を生じないとし
て有力な手段とされて来た。 処で、かかるエツチング手段としては所謂ドラ
イエツチングが一般に用いられており、処理ガス
は真空ポンプにより強制的にエツチングの場から
排出される手段が採られている。この為、活性炭
等の吸着材による排ガス処理を採用すると、真空
ポンプより前では雰囲気が脱着雰囲気となる為実
施し得ず、真空ポンプより後の部分で行なわざる
を得ない。 しかしながら、この様に塩素分や弗素分を含ん
だガスを真空ポンプに通すと、ポンプ内の油が分
解し、ポンプの運転に著しい支障を来たす。 この為従来においては度々真空ポンプを調整し
たり取り換えを行ないつつ処理せざるを得ず、そ
の操作が煩雑である等の欠点を有していた。 本発明者はかかる点に鑑み、エツチング排ガス
を容易且確実に無害化出来、しかも非真空雰囲
気、即ち真空ポンプに吸入される前にエツチング
ガスを有効に処理し得る手段を見出すことを目的
として種々研究、検討した結果、吸着法によら
ず、有害ガス或は腐食性ガスと反応してこれを無
害化し得るような特定の固体物質を用いることに
より前記目的を達成し得ることを見出した。 かくして本発明は、ドライエツチング処理工程
から排出される弗素分及び/又は塩素分を含有す
る排ガスを、真空ポンプの上流で、多孔質粒状の
酸化マグネシウムと乾式で接触せしめることを特
徴とする排ガスの処理方法を提供するにある。 本発明において排ガス中に含まれる有害或は腐
食性の弗素分としてはその形態として例えばHF
が、又有害或は腐食性の塩素分としてはその形態
として例えばBCl3、Cl2、HCl等が挙げられ、こ
れは一種或は二種以上適宜な割合で混合していて
差し支えない。 この様な排ガスに対し、本発明においては、多
孔質粒状の酸化マグネシウムと、乾式で接触せし
める。本発明において酸化マグネシウムは、多孔
質粒状であるので、排ガスとの接触面積が大きく
且排ガスが通過する際の圧力損失が小さいという
特徴を有する。実際、酸化マグネシウムと排ガス
を接触せしめる手段としては、例えば粒状品の固
定層、移動層、流動層等の手段を適宜採用し得
る。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 1 アルミニウムのドライエツチング装置から排出
された廃ガス(0℃、1気圧換算の濃度で、
BCl369.2容量%、HCl29.6容量%、Cl21.2容量%
なる組成からなり、真空ポンプの上流のガス)
を、直径12mm、長さ300mmのステンレス製管に充
填材として顆粒状酸化マグネシウム(平均粒子径
1mm、見掛比重0.45、BET非表面積180m2/g)
を100g充填した反応管に、標準状態(0℃、1
気圧)換算硫量0.2Nl/分、温度80℃、絶対圧力
0.1torrなる条件で通過させた。反応管を出たガ
スを真空ポンプによつて吸引し2Nl/分のN2ガス
を混合さた後、真空ポンプ出口のガスを採取し化
学分析を行なつた。 廃ガスを反応管に導入後1時間後の真空ポンプ
出口ガスの分析値は、BCl33ppm、HC15ppm、
Cl210ppmであつた。 実施例 2 二酸化珪素膜のドライエツチング装置から排出
された廃ガス(0℃、1気圧換算の濃度で、
CF470.5容量%、H221.3容量%、HF0.58容量%な
る組成からなり、真空ポンプの上流のガス)を実
施例1と同様にして処理し、真空ポンプ出口のガ
スを採取し化学分析を行なつた。 廃ガスを反応管に導入後1時間後の真空ポンプ
出口ガスの分析値は、HF2ppmであつた。 比較例 1〜7 前記実施例に示されたと同じ反応管を用いて、
充填剤をかえて、実施例1に示されたと同じ組成
の廃ガスを、実施例1と同じ条件で処理し、真空
ポンプ出口ガス(N2ガスが混合されたガス)を
採取し化学分析した結果を表1に示す。 比較例 8〜14 前記実施例に示されたと同じ反応管を用いて、
充填剤をかえて、実施例2に示されたと同じ組成
の廃ガスを、前記実施例と同じ条件で処理し、真
空ポンプ出口ガス(N2ガスが混合されたガス)
を採取し化学分析した結果を表2に示す。 実施例 3 充填材として直径約1mm、長さ5mmの円柱状に
成形された酸化マグネシウム(BET比表面積180
m2/g)を直径300mm、長さ1300mmの塩ビ製管中
に30Kg充填し、これにアルミニウムのドライエツ
チング装置から排出された0℃1気圧換算の濃度
で、BCl32.3%、HCl1.5%、HF0.1%を含む排ガ
スを標準状態換算流量8.5Nl/分、温度25℃にて
常圧下に通過せしめた。充填層を通過したガスを
採取し、化学分析を行なつた処、ガス導入後100
時間後のガス分析値はBCl31.2ppm、
HCl0.8ppm、HF1ppmであつた。
【表】
Claims (1)
- 1 ドライエツチング処理工程から排出される弗
素分及び/又は塩素分を含有する排ガスを、真空
ポンプの上流で、多孔質粒状の酸化マグネシウム
と乾式で接触せしめることを特徴とする排ガスの
処理方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59183637A JPS6161619A (ja) | 1984-09-04 | 1984-09-04 | 排ガスの処理方法 |
US06/772,431 US4673558A (en) | 1984-09-04 | 1985-09-04 | Method for treating a waste gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59183637A JPS6161619A (ja) | 1984-09-04 | 1984-09-04 | 排ガスの処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6161619A JPS6161619A (ja) | 1986-03-29 |
JPH0521007B2 true JPH0521007B2 (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=16139263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59183637A Granted JPS6161619A (ja) | 1984-09-04 | 1984-09-04 | 排ガスの処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4673558A (ja) |
JP (1) | JPS6161619A (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5244144A (en) * | 1989-08-23 | 1993-09-14 | Showa Aluminum Kabushiki Kaisha | Method for brazing aluminum materials |
JPH0340549U (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-18 | ||
JPH082598Y2 (ja) * | 1989-08-30 | 1996-01-29 | 株式会社島津製作所 | 温度サイクル試験装置 |
JPH0743639Y2 (ja) * | 1989-11-30 | 1995-10-09 | 株式会社島津製作所 | 温度サイクル試験装置 |
JPH03202128A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Ebara Res Co Ltd | Nf↓3の除害方法 |
JPH06177B2 (ja) * | 1990-02-05 | 1994-01-05 | 株式会社荏原総合研究所 | C1f▲下3▼を含有する排ガスの処理方法 |
US5401473A (en) * | 1990-07-09 | 1995-03-28 | Daidousanso Co., Ltd. | Method and apparatus for treatment of NF3 gas |
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JPH04156919A (ja) * | 1990-10-19 | 1992-05-29 | Ebara Res Co Ltd | ハロゲン系化合物を含有する排ガスの処理方法 |
JPH05277341A (ja) * | 1991-03-04 | 1993-10-26 | Iwatani Internatl Corp | フッ化窒素排ガスの除害装置 |
US5688479A (en) * | 1994-12-22 | 1997-11-18 | Uop | Process for removing HCl from hydrocarbon streams |
RU2159666C1 (ru) | 1999-11-24 | 2000-11-27 | Дыкман Аркадий Самуилович | Способ очистки промышленных газовых выбросов |
JP4755364B2 (ja) * | 2001-06-29 | 2011-08-24 | サンワケミカル株式会社 | ハロゲン単体とハロゲン化物との除去方法 |
JP5008801B2 (ja) * | 2001-04-23 | 2012-08-22 | サンワケミカル株式会社 | ハロゲン系ガスの除去方法 |
CN100344345C (zh) | 2001-10-12 | 2007-10-24 | 旭硝子株式会社 | 卤素类气体的除去方法 |
JP2011062697A (ja) * | 2010-11-26 | 2011-03-31 | Sanwa Chemical Kk | ハロゲン系ガスの除去方法 |
KR101726299B1 (ko) | 2016-05-25 | 2017-04-12 | (주)중앙플랜트 | 수평형 습식 스크러버용 클린 필터를 포함하는 조립체 및 그의 구성방법 |
KR102204092B1 (ko) | 2019-01-14 | 2021-01-18 | (주)중앙플랜트 | 수평형 습식 스크러버용 클린 필터의 자동세척장치 |
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JPS5667524A (en) * | 1979-11-09 | 1981-06-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Dry type treatment of gas |
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JPS56163740A (en) * | 1980-05-20 | 1981-12-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method for removing halogen substance in desorbed gas of dry desulfurization |
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JPS58166933A (ja) * | 1982-03-26 | 1983-10-03 | Onoda Cement Co Ltd | 排ガス中の酸性物質除去剤 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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BE560740A (ja) * | 1956-09-12 | 1958-03-11 |
-
1984
- 1984-09-04 JP JP59183637A patent/JPS6161619A/ja active Granted
-
1985
- 1985-09-04 US US06/772,431 patent/US4673558A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS5495972A (en) * | 1977-12-12 | 1979-07-28 | Babcock & Wilcox Ag | Method and apparatus for removing by adsorbing sulfer dioxide chlorine and fluorine from waste gas |
JPS5667524A (en) * | 1979-11-09 | 1981-06-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Dry type treatment of gas |
JPS56126425A (en) * | 1980-03-11 | 1981-10-03 | Kurabo Ind Ltd | Purification method for acidic waste gas |
JPS56163740A (en) * | 1980-05-20 | 1981-12-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method for removing halogen substance in desorbed gas of dry desulfurization |
JPS571422A (en) * | 1980-06-05 | 1982-01-06 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Dry-type purifying method for pyrolysis gas |
JPS58166933A (ja) * | 1982-03-26 | 1983-10-03 | Onoda Cement Co Ltd | 排ガス中の酸性物質除去剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4673558A (en) | 1987-06-16 |
JPS6161619A (ja) | 1986-03-29 |
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