JPH05206143A - 複合フィルムおよびそれを用いた転写バンプ形成方法 - Google Patents

複合フィルムおよびそれを用いた転写バンプ形成方法

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JPH05206143A
JPH05206143A JP8794292A JP8794292A JPH05206143A JP H05206143 A JPH05206143 A JP H05206143A JP 8794292 A JP8794292 A JP 8794292A JP 8794292 A JP8794292 A JP 8794292A JP H05206143 A JPH05206143 A JP H05206143A
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JP
Japan
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metal body
composite film
insulating film
film
present
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Application number
JP8794292A
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English (en)
Inventor
Kazuo Ouchi
一男 大内
Munekazu Tanaka
宗和 田中
Masakazu Sugimoto
正和 杉本
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19043Component type being a resistor

Landscapes

  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体素子や電気・電子部品、電気回路など
に高精度で、しかも容易に接続や接点として用いるバン
プを形成できる複合フィルム、およびこのフィルムを用
いた転写バンプ形成方法を提供する。 【構成】 複合フィルムにはポリイミド樹脂などからな
る絶縁性フィルム1の表裏面に貫通し、しかも少なくと
も一方の表面から突出するように金属体2が保持されて
おり、この金属体2はフィルム1から離脱可能な状態で
保持されている。金属体2には絶縁性フィルム1の厚み
方向にテーパーが設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子および電気部
品、電気回路などの接続や接点に用いるバンプを容易に
形成できる複合フィルム、および該フィルムを用いた転
写バンプ形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年における半導体産業の発展に伴っ
て、電子機器の薄型化や小型軽量化が進み、半導体装置
を多く用いるデバイスや機器には半導体素子を一定面積
の基板上に高密度に実装することが望まれている。半導
体実装の技術分野では半導体素子に金属突起物(バン
プ)を直接もしくは転写にて形成して接続端子とし、こ
れを用いて実装を行っている。このようなバンプを形成
する方法は、半導体素子以外の各種電気・電子部品にも
応用することによって電子機器への実装密度の向上につ
ながる。
【0003】しかしながら、一般に半導体素子やその他
の多くの電子部品にバンプを直接形成することは、製造
技術(形成技術)の面から難しく、製造時の歩留り低下
の原因となるものである。一方、バンプを転写法によっ
て形成する、所謂転写バンプ形成方法も提案されている
が、現在行われているITOガラス上にバンプを形成す
る方法では、製造コストや製造方法、バンプの転写方法
などに種々の制約があり、実用化の点で未だ満足できる
ものではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来のバ
ンプ形成技術における種々の問題に鑑みてなされたもの
であって、半導体素子や電気・電子部品、電気回路など
に高精度で、しかも容易に接続や接点に用いるバンプを
形成することができるフィルムの提供、およびこのフィ
ルムを用いた転写バンプ形成方法を提供することを目的
とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは上
記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、バンプ
用の金属体を離脱可能な状態で保持する特定形状の絶縁
フィルムを用いることによって、転写バンプを容易に形
成できることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【0006】即ち、本発明は絶縁性フィルムの表裏面に
貫通して金属体を保持し、該金属体は絶縁性フィルムの
少なくとも一方の表面から突出し、かつ絶縁性フィルム
表面から離脱可能な状態で保持されていることを特徴と
する複合フィルム、およびこの複合フィルムを被着体と
しての半導体素子または電気回路、もしくは電気回路部
品上に接合したのち、接合部に金属体を残した状態で絶
縁性フィルムのみを剥離することを特徴とする転写バン
プ形成方法を提供するものである。
【0007】以下、本発明の複合フィルムおよびこれを
用いた転写バンプ形成方法を図面を用いて説明する。
【0008】図1は本発明の複合フィルムの一実例を示
す拡大断面図である。
【0009】図1から明らかなように、本発明の複合フ
ィルムには絶縁性フィルム1の表裏面に貫通して半田、
金、銀、銅、ニッケル、錫、またはこれらの合金などか
らなる金属体2が保持されており、この金属体2は一方
の表面(図中、上側)に突出している。また、金属体2
はテーパーを有しており、絶縁性フィルム1から離脱可
能な状態で保持されている。テーパーの程度は絶縁性フ
ィルム1の厚み方向と金属体2のテーパー方向との角度
が20度以下、さらに5〜15度程度とすることが金属
体2の離脱性の点から好ましい。絶縁性フィルム1から
の金属体2の突出形状は、特に限定されないが、被着体
としての半導体素子や電気回路、電気回路部品への確実
な接合、転写のためには図示するようなマッシュルーム
形状とすることが好ましい。
【0010】絶縁性フィルム1は電気絶縁性を有するも
のであり、適度な可撓性を有するものであればよく、例
えばポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系
樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ABS樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂など
熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を問わず用いることができ
る。これらの樹脂のうち、転写バンプ形成の際の位置合
わせの容易性の点からは透明性を有する樹脂が好まし
く、また、耐熱性や機械的強度の点からはポリイミド系
樹脂を用いることが好ましい。さらに、絶縁性フィルム
1の可撓性の点からフィルム厚は5〜500μm、好ま
しくは15〜40μm程度のものを用いる。
【0011】図2は本発明の複合フィルムの好ましい他
の実例を示す拡大断面図であり、金属体2のテーパー先
端側の絶縁性フィルム1表面(図中、下側)に、支持体
3および粘着剤層4からなる粘着シートを設けて、使用
前に金属体2が脱落することを防止したものである。
【0012】図3は図1に示す本発明の複合フィルムを
用いた転写バンプ形成方法の一実例を示す断面図であ
る。
【0013】図3(A)に示すように、本発明の複合フ
ィルムにおける金属体2の突出部を、被着体としての外
部回路5上の電極部6に接合する。接合時の位置合わせ
を正確に行なうために、本発明の複合フィルムにはアラ
イメント孔や治具孔を設けておくことが好ましい。電極
部6の表面には加熱溶融し易い半田のような金属7の層
を形成しておくと、上記金属体2に金などの半田に対し
て濡れ性の良好な金属を用いた場合、接合時に加熱や加
圧、加熱圧着するだけで図3(B)に示すように容易に
接合することができる。接合後、絶縁性フィルム1を剥
離することによって、図3(C)に示すように金属体2
のみを電極部6上に転写することができる。なお、被着
体として外部回路5の代わりに半導体素子を用いても同
様である。
【0014】図4は本発明の複合フィルムを得るための
各製造工程を示す拡大断面図である。
【0015】図4(A)のような銅箔や銅板などからな
る導体層8の上に絶縁性フィルム1を設けた積層フィル
ムの絶縁性フィルム1に、機械的加工やレーザー加工、
光加工、化学エッチングなどによって図4(B)に示す
ような導体層8に達する孔部9を形成する。孔部9の形
成方法としては、微細加工性や加工形状の自由度などの
点からエキシマレーザーの如き紫外線レーザーを用いる
ことが好ましい。
【0016】次に、導体層8を電極として電解メッキを
行なって、図4(C)に示すように形成した孔部9に金
属体2を充填する。このとき、金属体2のメッキ充填は
絶縁性フィルム1の表面から突出するまで行なう。金属
体2の突出形状や大きさには転写形成するバンプ形状や
被着体の電極部の大きさによって適宜設定することがで
きるが、突出高さは孔部形状が円形の場合は、製造精度
などの点から孔部半径の約5倍までとすることが好まし
い。なお、次工程で導体層8はエッチング除去されるの
で、充填する金属体2は導体層8と溶解性の異なる異種
の金属を用いることが好ましい。
【0017】最後に導体層8を公知のエッチング処理に
よって除去して図4(D)に示す本発明の複合フィルム
を得ることができる。こののち、前記したアライメント
孔や治具孔を機械加工やレーザー加工、光加工、化学エ
ッチング加工などによって設けてもよい。
【0018】図5は本発明の他の複合フィルムを得るた
めの各製造工程を示す拡大断面図である。
【0019】図5(A)は導体層8および絶縁性フィル
ム1との積層フィルムの絶縁性フィルム1表面に、フォ
トレジスト10を積層して3層構造としたものである。
このフォトレジスト10に所望のフォトパターンを施し
て、露出した絶縁性フィルム1の表面に上記図4と同様
の方法で穿孔処理して孔部9を設ける(図5(B)参
照)。
【0020】次に、導体層8を電極として孔部9に金属
体2を電解メッキにより充填して、図5(C)に示すよ
うな突出物がフォトレジスト10中に埋設された金属体
2とし、そののち、導体層8をエッチング処理して除去
することによって、図5(D)に示すような複合フィル
ムを得ることができる。このようにフォレジスト10を
用いると、金属体2の突出形状を任意形状に設計するこ
とが容易となる。
【0021】図6〜図8と本発明の複合フィルムの他の
実例を示す断面図である。
【0022】図6は絶縁性フィルム1内に保持する金属
体2を多層化したものであって、金属体2の表面に被着
体との接合に適した金属体102および202を形成し
たものである。また、多層化することによって金属体2
の表面性状を調整することができる。例えば、繰り返し
圧力が加わるような接点への利用や、被着体の電極部に
食い込む必要がある場合に本発明の複合フィルムを用い
てバンプを転写する際には、図6における金属体2には
比較的固いニッケルなどの金属を用い、被着体との接合
に必要な表面層の金属体102および202には金や半
田を用いることが好ましい。
【0023】図7は金属体2が絶縁性フィルム1の両面
に突出しており、図8は絶縁性フィルム1内の金属体2
が段差形状となっているものである。金属体2を図中下
面に突出させる場合は図4(B)の工程ののち、露出し
た導体層8の表面を腐食液によってエッチングし、その
のち、図4(C)〜(D)の工程を行なうことによって
得ることができる。また、図8の形状は図4(B)にお
ける孔部9を形成する工程において2段加工(穿孔加
工)を行なうことによって形成することができる。この
ように、本発明の複合フィルムは転写バンプの形状を任
意の形状にすることができ、目的に応じた形状のバンプ
を転写することができるのである。例えば、被着体の電
極部に食い込んで接合する場合や半田ボール付きの半導
体素子の検査電極などに用いることができ、孔部9の形
状によっては転写バンプを針状にすることもできる。
【0024】
【発明の効果】以上のように本発明の複合フィルムは、
所望の大きさでバンプ用の金属体を離脱可能に保持して
いるので、高密度な半導体素子の電極部や電気部品や電
気回路などに精度よく、しかも容易にバンプを転写形成
することができる。従って、従来の半導体装置自体にバ
ンプ電極を形成して接続を行うようなバンプコネクター
方式と比べて、半導体装置などの製造効率がよく、製品
の歩留りや生産性が向上するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の複合フィルムの一実例を示す拡大断
面図である。
【図2】 本発明の複合フィルムの他の実例を示す拡大
断面図である。
【図3】 図1に示す本発明の複合フィルムを用いた転
写バンプ形成方法の一実例を示す拡大断面図である。
【図4】 本発明の複合フィルムを得るための各製造工
程を示す拡大断面図である。
【図5】 本発明の他の複合フィルムを得るための各製
造工程を示す拡大断面図である。
【図6】 本発明の複合フィルムの他の実例を示す拡大
断面図である。
【図7】 本発明の複合フィルムの他の実例を示す拡大
断面図である。
【図8】 本発明の複合フィルムの他の実例を示す拡大
断面図である。
【符号の説明】
1 絶縁性フィルム 2 金属体 3 支持体 4 粘着剤層 5 外部回路 6 電極部 8 導体層 9 孔部 10 フォトレジスト 102,202 金属体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁性フィルムの表裏面に貫通して金属
    体を保持し、該金属体は絶縁性フィルムの少なくとも一
    方の表面から突出し、かつ絶縁性フィルム表面から離脱
    可能な状態で保持されていることを特徴とする複合フィ
    ルム。
  2. 【請求項2】 絶縁性フィルム内に金属体がテーパーを
    有した状態で保持されている請求項1記載の複合フィル
    ム。
  3. 【請求項3】 金属体の突出形状がマッシュルーム状で
    ある請求項1または2記載の複合フィルム。
  4. 【請求項4】 金属体のテーパー先端側の絶縁性フィル
    ム表面に粘着シートを形成してなる請求項1記載の複合
    フィルム。
  5. 【請求項5】 半導体素子または電気回路、もしくは電
    気回路部品上に請求項1記載の複合フィルムを接合した
    のち、接合部に金属体を残した状態で絶縁性フィルムの
    みを剥離することを特徴とする転写バンプ形成方法。
JP8794292A 1991-11-28 1992-03-11 複合フィルムおよびそれを用いた転写バンプ形成方法 Pending JPH05206143A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8794292A JPH05206143A (ja) 1991-11-28 1992-03-11 複合フィルムおよびそれを用いた転写バンプ形成方法
EP19920120222 EP0544305A3 (en) 1991-11-28 1992-11-26 Method of forming a contact bump using a composite film

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3-340384 1991-11-28
JP34038491 1991-11-28
JP8794292A JPH05206143A (ja) 1991-11-28 1992-03-11 複合フィルムおよびそれを用いた転写バンプ形成方法

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JP8794292A Pending JPH05206143A (ja) 1991-11-28 1992-03-11 複合フィルムおよびそれを用いた転写バンプ形成方法

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JP (1) JPH05206143A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07122594A (ja) * 1993-10-28 1995-05-12 Hitachi Ltd 導電性バンプの形成方法
JP2009123918A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
WO2013137444A1 (ja) * 2012-03-16 2013-09-19 リンテック株式会社 導通検査用テープ及び該テープを用いた導通検査方法

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JP2009123918A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
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