JPH051904A - 光学式形状計 - Google Patents

光学式形状計

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JPH051904A
JPH051904A JP30625091A JP30625091A JPH051904A JP H051904 A JPH051904 A JP H051904A JP 30625091 A JP30625091 A JP 30625091A JP 30625091 A JP30625091 A JP 30625091A JP H051904 A JPH051904 A JP H051904A
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light
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light receiving
dimensional
received
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Application number
JP30625091A
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English (en)
Inventor
Tsuneo Suyama
恒夫 陶山
Masaki Takenaka
正樹 竹中
Arichika Matsumoto
有慎 松本
Hiroshi Maki
宏 牧
Atsuhisa Takekoshi
篤尚 竹腰
Mamoru Inaba
護 稲葉
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 表面が鏡面に近い被計測物の形状を、被計測
物表面の傾斜変動等に影響されずに、オンラインで安定
して連続計測できる光学式形状計。 【構成】 被計測物11の表面にスポット光を照射する
光照射手段2及び3と、その反射光からハーフミラー7
を介して分離した透過光の受光強度の重心位置を検出す
る第1の光検出手段8及び12−1と、前記ハーフミラ
ー7を介して分離した反射光の受光強度の重心位置を検
出する第2の光検出手段9及び12−2と、前記第1及
び第2の光検出手段8及び9の出力信号に基づき、所定
の計測基準位置から被計測物11の表面までの距離を算
出する演算手段13とを備えたもの。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面が鏡面、または鏡
面に近い材料の形状をオンラインで非接触且つ連続的に
計測出来る光学式形状計に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、光学系を用いた形状計はごく一般
的な技術として確立している。この一般的な形状計は、
三角測量方式を利用しており、拡散反射する被計測物に
対しては非常に有効な手段である。しかし、正反射する
被計測物に対しては、反射光が戻らないため計測は不可
能である。また、拡散反射する被計測物に対しても、疵
などがあると、ハレーションなどを起こし、反射光が戻
らない場合があり、この場合も計測は不可能である。
【0003】本発明においては、表面が鏡面、または鏡
面に近い材料の形状を、計測基準位置から被計測物まで
の距離と、計測基準垂直線に対する被計測物の傾斜角と
を計測することによって、被計測物の形状を測定するこ
とを目的としている。しかし、オンラインにおける表面
が鏡面、または鏡面に近い被計測物は一般に波打ってお
り、測定光を照射する鏡面材の表面は水平面となってい
ない。これは材料を構成する微小部分がそれぞれ本来の
基準位置より上下及び左右に変位していると考えられ
る。このように波打っている鏡面材の表面は傾斜変動を
有するため、オンラインでは、精度良く上記距離の計測
ができなかった。
【0004】図10は従来の光学式形状計の計測誤差を
説明する図である。同図において、6は受光センサであ
り、例えば2次元アレイに配置された複数のCCD(C
harge Coupled Device)受光素子
を含む。そして受光センサ6は入射光を受光すると、各
受光素子毎にその受光位置を示す電気信号が読出せるの
で、配列された平面上の受光位置を検出することができ
る。但し図10においては、鉛直線を含む2次元座標系
において計測するため、受光センサ6の受光位置はA及
びA′を含む直線上の座標位置として検出している。1
1は表面が鏡面、または鏡面に近い被計測物である。
【0005】いま図10の被計測物11の表面が鉛直線
に対して直角な水平面Pの場合に、この鉛直線に対して
入射角βでO点に照射された入射光は、入射角と等しい
反射角βにより正反射され、受光センサ6の受光位置A
に入力する。この場合に基準水平面Rから被計測物11
の照射点Oまでの鉛直距離はLである。またこの場合は
入射角βが既知であるため、反射角は受光センサ6の受
光位置Aによって基準鉛直線Vからの角度として決定で
きる。
【0006】次に被計測物11の表面が角度dβ/2だ
け傾斜して、水平面Pが傾斜面P′に変化すると、入射
光はこの傾斜面P′に直角な法線に対して正反射される
ためO点における反射角β′はβ′=β+dβとなる。
従って受光センサ6における受光位置はA′に移行す
る。この受光位置A′が検出されると、従来の光学式距
離計においては、被計測物11の表面の傾斜は無視さ
れ、基準水平面Rから被計測物11の照射点Oまでの鉛
直距離がL′に変化したものとして計測される。従って
被計測物11の表面の傾斜に基づき、距離計測において
△L=L′−Lの計測誤差が発生したことになる。
【0007】また被計測物11の表面が下方に△Lだけ
変化して、水平面がP′に変化すると、入射光はこの水
平面P′に直角な法線に対して正反射されるためO′点
における反射角βは変化しないにもかかわらず受光セン
サ6における受光位置はA′に移行する。この受光位置
A′が検出されると、従来の光学式傾斜計においては、
被計測物11の表面の傾斜変化として計測する。従って
被計測物11の表面の上下変化は無視され、基準鉛直線
Vからの角度が変化したものとして計測され、被計測物
11の表面の上下変化に基づき、傾斜計測においてdβ
=β′−βの計測誤差が発生したことになる。
【0008】この計測誤差は、光源または受光センサと
被計測物との間の相対的位置の変化によっても発生する
が、さらに光源スポットの光量分布の偏りやハレーショ
ンも受光センサの受光位置を変化させるので、これも計
測誤差の原因となる。従って表面が鏡面、または鏡面に
近い材料の形状計測において、従来方式ではセンサに対
して被計測物を鉛直方向に精度良く配置し、しかも被計
測物とセンサ間の角度を変化させないように工夫せざる
を得ないため実用化されていない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の被
計測物までの距離または表面傾斜角の測定による光学式
形状計では、被計測物の表面が鏡面、または鏡面に近い
場合に、被計測物表面の傾斜変動や、光源または受光セ
ンサと被計測物との間の相対的位置の変動等により計測
誤差を生じるため、オンラインで安定して連続的に被計
測物の形状を計測できないという問題点があった。本発
明は、上記のような課題を解決するためになされたもの
で、表面が鏡面または、鏡面に近い被計測物までの距離
または表面傾斜角の測定による被計測物の形状を、被計
測物表面の傾斜変動等に影響されずに、オンラインで安
定して連続的に計測できる光学式形状計を得ることを目
的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
光学式形状計は、被計測物に対して集光された光を所定
の入射角により照射する光照射手段と、前記被計測物の
表面からの反射光をハーフミラーを介して透過光と反射
光とに分離し、該分離された透過光を2次元の受光素子
により受光し、その受光強度の重心位置信号を検出する
第1の光検出手段と、前記ハーフミラーを介して分離さ
れた反射光を2次元の受光素子により受光し、その受光
強度の重心位置信号を検出する第2の光検出手段と、前
記第1の光検出手段から検出される受光強度の重心位置
信号及び前記第2の光検出手段から検出される受光強度
の重心位置信号に基づき、所定の計測基準位置から被計
測物の表面までの距離を算出する演算手段とを備えたも
のである。
【0011】本発明の請求項2に係る光学式形状計は、
被計測物に対して集光され第1のハーフミラーを介した
反射光を垂直に照射する光照射手段と、前記被計測物の
表面からの反射光の前記第1のハーフミラーを介した透
過光を第2のハーフミラーを介して透過光と反射光とに
分離し、該分離された透過光を2次元の受光素子により
受光し、その受光強度の重心位置信号を検出する第1の
光検出手段と、前記第2のハーフミラーを介して分離さ
れた反射光を2次元の受光素子により受光し、その受光
強度の重心位置信号を検出する第2の光検出手段と、前
記第1の光検出手段から検出される受光強度の重心位置
信号、並びに前記第2の光検出手段から検出される受光
強度の重心位置信号に基づき、所定の計測基準垂直線に
対する被計測物表面の傾斜角を算出する演算手段とを備
えたものである。
【0012】本発明の請求項3に係る光学式形状計は、
前記請求項1または請求項2記載の光学式形状計におい
て、前記第1の光検出手段及び第2の光検出手段は、そ
れぞれ2次元受光素子から検出する座標位置信号を直線
化するリニアライズ装置を有するものである。
【0013】
【作用】本請求項1に係る発明においては、光照射手段
は被計測物に対して集光された光を所定の入射角により
照射する。第1の光検出手段は前記被計測物の表面から
の反射光をハーフミラーを介して透過光と反射光とに分
離し、該分離された透過光を2次元の受光素子により受
光し、その受光強度の重心位置信号を検出する。第2の
光検出手段とは前記ハーフミラーを介して分離された反
射光を2次元の受光素子により受光し、その受光強度の
重心位置信号を検出する。演算手段は前記第1の光検出
手段から検出される受光強度の重心位置信号及び前記第
2の光検出手段から検出される受光強度の重心位置信号
に基づき、所定の計測基準位置から被計測物の表面まで
の距離を算出する。
【0014】本請求項2に係る発明においては、光照射
手段は被計測物に対して集光され第1のハーフミラーを
介した反射光を垂直に照射する。第1の光検出手段は前
記被計測物の表面からの反射光の前記第1のハーフミラ
ーを介した透過光を第2のハーフミラーを介して透過光
と反射光とに分離し、該分離された透過光を2次元の受
光素子により受光し、その受光強度の重心位置信号を検
出する。第2の光検出手段は前記第2のハーフミラーを
介して分離された反射光を2次元の受光素子により受光
し、その受光強度の重心位置信号を検出する。演算手段
は前記第1の光検出手段から検出される受光強度の重心
位置信号、並びに前記第2の光検出手段から検出される
受光強度の重心位置信号に基づき、所定の計測基準垂直
線に対する被計測物表面の傾斜角を算出する。
【0015】本請求項3に係る発明においては、前記請
求項1または請求項2記載の光学式形状計において、前
記第1の光検出手段及び第2の光検出手段に設けられた
リニアライズ装置は、それぞれ2次元受光素子から検出
する座標位置信号を直線化し、精度の高い座標位置信号
を出力する。
【0016】
【実施例】図1は本発明の第1実施例に係る光学式形状
計の概略構成図である。同図において、1はセンサボッ
クスであり、内部に発光部2、投光レンズ3、受光レン
ズ4、ハーフミラー7、1次受光センサ8及び2次受光
センサ9を含んでいる。ここで発光部2は例えばレーザ
光源等である。また1次受光センサ8及び2次受光セン
サ9は、例えば2次元の光位置検出器(Positio
n Sensitive Device,以下2次元P
SDという)と、該2次元PSDにより光/電変換され
た電気的信号を外部に取出すための信号読取り回路を含
んでいる。そして入射光を受光すると、2次元PSDの
座標上の受光強度の重心位置を示す出力信号が得られ
る。(なお、2次元PSDによる座標位置算出法につい
ては図2で説明する。)またセンサボックス1内に収納
されている上記各ユニットの相対位置は、設計時に幾何
学的に計算された位置にそれぞれ配置される。11は表
面が鏡面、または鏡面に近い被計測物、12−1、12
−2はそれぞれ前記受光センサ8、9の出力信号から2
次元座標上の受光座標位置を算出する座標位置算出器、
13は前記座標位置算出器12−1及び12−2の出力
信号から被計測物11の変位または形状を算出する演算
器である。
【0017】図2は2次元PSDによる2次元位置計測
の説明図である。同図において、30は2次元PSD素
子であり、例えば浜松ホトニック(株)製の型式S−1
200,S−1300等が市販されている。31A〜3
1Dはそれぞれ前置増幅器であり、30〜31Dは1次
または2次センサ8まは9に含まれる。32A及び32
Bはそれぞれ加算器、33A及び33Bはそれぞれ減算
器、34A及び34Bはそれぞれ除算器、35はリニア
ライザであり、32A〜35は座標位置算出器12−1
または12−2に含まれている。
【0018】図2の動作を説明する。2次元PSD素子
30は、2次元の受光面に多数のホトダイオードが配列
され、この受光面の各縁の対向位置にそれぞれX軸用に
2個、Y軸用に2個の合計4個の取出し電極が設けられ
ている。いま入射光がレンズにより集光された光束とし
て2次元PSD素子30の受光面を照射すると、その照
射エネルギーに比例して光/電変換された電流が発生
し、この発生した電流がそれぞれ対向して配置されたX
軸及びY軸の取出し電極に対して分流する。この場合各
取出し電極に分流する4つの電流i1 ,i2 ,i3 及び
4 の値は、光照射位置から各電極までの距離に反比例
した値となる。前記各電流i1 〜i4 は所定インピーダ
ンスを介して対応する電圧X1 ,X2 ,Y1 及びY2
して各取出し電極から取出される。
【0019】前置増幅器31A〜31Dは前記2次元P
SD素子30の各取出し電極から出力される電圧X1
2 ,Y1 及びY2 をそれぞれ増幅して加算器32A及
び32B,並びに減算器33A及び33Bに供給する。
加算器32A及び32Bはそれぞれ2入力電圧の和電圧
(X1 +X2 )及び(Y1 +Y2 )を演算して出力し、
減算器33A及び33Bはそれぞれ2入力電圧の差電圧
(X1 −X2 )及び(Y1 −Y2 )を演算して出力す
る。除算器34A及び34Bは前記X軸及びY軸の差電
圧を和電圧で除算した商を各軸の補正前の座標位置を示
す信号として出力する。即ち(X1 −X2 )/(X1
2 )がX軸の補正前座標位置信号となり、(Y1 −Y
2 )/(Y1 +Y2 )がY軸の補正前座標位置信号とな
る。
【0020】図3は図2の2次元PSDの出力特性及び
リニアライザの説明図である。現在市販されている2次
元PSDの出力特性は必ずしも良好な直線性を有しない
ものが多く、その出力特性は製造方法や製造過程により
個々に決定される。図3の(a)は2次元PSD素子3
0の出力特性の一例を示すものであり、除算器34A及
び34Bの出力より得られる座標位置信号は、そのまま
では、方眼紙を凸面鏡や凹面鏡を介してみた投影像のよ
うに歪んでおり、非直線性誤差が含まれる。しかしこの
非直線性誤差は除算器34A及び34Bの出力信号をX
軸方向にm段階、Y軸方向にn段階に分けて、あらかじ
め較正しておくことによりリニアライズ補正を行なうこ
とができる。
【0021】図3の(b)は図2のリニアライザ35の
一例を示すブロック図であり、リニアライザ35は、例
えば1対のA/D変換器36A及び36B、テーブルメ
モリ37並びに1対のデータバッファ38A及び38B
により構成することができる。A/D変換器36A及び
36Bは、例えば12〜16ビット程度の分解能を有
し、それぞれ補正前のX座標電圧信号及びY座標電圧信
号をデジタルデータに変換し、これらをX軸アドレスデ
ータ及びY軸アドレスデータとしてテーブルメモリ37
に供給する。図3の(c)はテーブルメモリ37の一例
を示す説明図であり、補正前のX軸アドレスデータ及び
Y軸アドレスデータで指定されたアドレスには、それぞ
れ補正後のX座標データ(上段データ)及びY座標デー
タ(下段データ)があらかじめ収納されている。そして
テーブルメモリ37は前記補正前のX軸アドレス及びY
軸アドレスの入力により、該両アドレスにより指定され
たアドレスから補正後のX座標データ及びY座標データ
を読出し、それぞれデータバッファ36A及び36Bを
介して出力する。
【0022】また2次元PSD素子30に入射する光ビ
ームの径が大きくなったり、または光ビーム内での光量
分布が不規則に分布して正規分布にならない場合には、
受光強度の重心位置が前記座標位置として算出される。
【0023】ここで計測回路の具体的配置は、種々のケ
ースが考えられる。この実施例では、2次元PSD素子
30及び前置増幅器31A〜31Dが受光センサ側に設
けられ、受光センサ側から前記4つの電圧信号X1 ,X
2,Y1 及びY2 を座標位置算出器側に出力する場合に
ついて説明する。またアナログ信号による演算を行なう
加算器32A及び32B、減算器33A及び33B、並
びに除算器34A及び34Bを受光センサ側に設けて、
受光センサ側から補正前のX軸及びY軸の座標位置信号
を出力するようにしてもよい。この場合は高速演算処理
に適している。
【0024】図2及び図3を参照し図1の動作を説明す
る。まず表面が鏡面または鏡面に近い被計測物11の表
面に微小の光スポットを所定の入射角で照射する。この
ためセンサボックス1内の発光部2から出射された光
(例えばレーザ光)は投光レンズ3により微小なスポッ
ト径に集光されて、被計測物11の表面に入射角βで照
射される。被計測物11の表面は鏡面であるため光の正
反射が生じ、入射光は反射角β′で反射される。
【0025】ここでセンサボックス1における光学的基
準面(例えば上面)に対して、発光部2と投光レンズ3
を通る照射光路と、受光レンズ4とハーフミラー7を通
る反射光路とが軸対称になるような垂線を考えると、こ
の垂線上の照射光路と反射光路の交点Qが被計測物11
の表面と一致するように初期調整されている。従って被
計測物11の表面の照射点Qにおける被計測物11の法
線が前記垂線と一致する場合(すなわち前記垂線と被計
測物11の表面が直角の場合)、前記垂線に対する入射
角βと反射角β′とは等しい値となる。しかし被計測物
11の表面が傾斜してQ点における法線が前記垂線と一
致しない場合は、入射角βと反射角β′とは一致せずそ
の差dβを生じる。このβの値は機器設計時に決定され
るものである。また通常の設置状態においては、センサ
ボックス1の光路の基準軸となる前記垂線は重力の方向
である鉛直線と一致するように、また被計測物11の表
面は水平面となるように設定される。しかしオンライン
の設置条件によっては、必ずしもそうでない場合も有り
得る。
【0026】このようにして被計測物11の表面から正
反射された反射光は受光レンズ4を介し、ハーフミラー
7により透過光と反射光とに分離され、その透過光は1
次受光センサ8により、またその反射光は2次受光セン
サ9によりそれぞれ受光される。1次受光センサ8及び
2次受光センサ9では図2で説明したように2次元PS
D素子30が入射光を受光し、内蔵する前置増幅器31
A〜31Dを介して、X軸方向の電圧出力X1 及び
2 ,並びにY軸方向の電圧出力Y1 及びY2 を出力
し、これらの出力信号が座標位置算出器12−1及び1
2−2に逐次供給される。
【0027】座標位置算出器12−1及び12−2は1
次受光センサ8及び1次受光センサ9からそれぞれ入力
される前記電圧信号X1 ,X2 ,Y1 及びY2 の加算、
減算及び除算を行ない、さらに図3で説明したようにリ
ニアライザ35により座標位置の非直線性誤差の補正を
行ない、図1に示した各受光センサの断面の長さ方向
(即ち直線座標上)における受光位置A及びBを算出す
る。この場合に前記各受光センサの断面の長さ方向と、
各受光センサに含まれる2次元PSD素子のX軸または
Y軸のいずれか一方の軸方向とは一致するようにあらか
じめ調整されている。従って実際には前記4つの電圧信
号のうちの2つの電圧信号について演算を行ない、一方
の直線座標上の位置を求めることにより前記受光位置A
及びBを算出することができる。この2つの受光センサ
8及び9の直線座標上の受光位置A及びBが座標位置算
出器12−1及び12−2によりそれぞれ算出され、該
受光位置信号が演算器13に入力されると、演算器13
は幾何学的解析により受光角度と計測基準位置から被計
測物11の表面までの距離を算出する。ここで演算器1
3が算出する距離は次のように定式化される。
【0028】図4は本発明の第1実施例に係る距離算出
式の説明図である。同図の(a)において、2〜4、7
〜9及び11は図1と同一のものである。またOは2次
元座標の原点で座標位置(0,0)、Lは座標原点Oを
通るX軸と被計測物11の表面の光照射位置との間の垂
直距離、O′は1次受光センサ8及び2次受光センサ9
内の2次元PSDのX軸またはY軸のいずれか一方の軸
をそれぞれ延長した延長線上の交点であり、その座標位
置を(a,b)とする。即ちaはO点を原点としたとき
のO′点のX座標値、bはO点を原点としたときのO′
点のY座標値である。いまハーフミラー7への入射光の
延長線上の等価位置に2次受光センサ9を移動したと仮
定する。この場合にαは2次受光センサ9の前記等価位
置での水平角度、α′はハーフミラー7の水平角度、β
は被計測物11への照射光の入射角、xは点O′と2次
受光センサ9の受光位置との間の距離、yは点O′と1
次受光センサ8の受光位置との間の距離である。
【0029】また図4の(b)は被計測物11の表面が
角度dβ/2だけ傾斜してX軸に並行な水平線Pが傾斜
線P′に変化したため、入射角βと反射角β′の間の角
度差dβが生じ、この角度差に基づき1次受光センサ8
の受光位置AがA′に、2次受光センサ9の受光位置B
がB″に移行していることを示している。なお、β′は
被計測物11からの反射角、dβは入射角βと反射角
β′との角度差である。また被計測物11の表面の前記
水平線Pが並行移動して距離LがL′に変化すると、入
射角βと反射角β′とは等しくとも、1次受光センサ8
の受光AはA′に、2次受光センサ9の受光位置Bは
B′に移行する。即ち2つの受光センサの受光位置Aと
Bは被測定物11までの距離と、その表面の傾斜の関数
である。しかし前例の傾斜変動の場合の2次受光センサ
9の受光位置はB″であるが、距離変動の場合の受光位
置はB′であり、異なる位置となっている。
【0030】従ってこの1対の受光センサ8及び9の受
光位置を示す距離値x及びyを求めると、図4の(a)
の配置における平面幾何学的解析を行ない、その解とし
て次の式(1),(2)により距離L及び入射角と反射
角との角度差dβを別個に算出することができる。
【0031】
【数1】
【0032】
【数2】
【0033】また(2)式の角度差dβは被計測物11
の表面が水平面との間になす傾斜角の2倍の値となって
いるので、この角度差より傾斜角dβ/2を直ちに求め
ることができる。 前記(1)式において、注目に値するのは、1対の受光
センサの受光位置を示す距離値x及びyが与えられる
と、前記傾斜変動には全く影響されることなく、直接
(1)式により距離Lが求められることである。
【0034】次に受光センサに入射する入射光が微小ビ
ームや正規分布にならない場合につき説明する。図5は
本発明の第1実施例に係る受光センサへの入射光の不規
則分布例を示す図である。図5においては、入射光のビ
ーム径Dは微小であるが、被計測物11の表面に微小な
凹凸や疵等があるため、反射光のビームは拡大し、受光
センサへの入射光の光量分布は正規分布にならない場合
の例を示している。この場合に1次及び2次受光センサ
8及び9に前記2次元PSDを使用することにより、2
次元平面に不規則に分布する受光強度の重心位置を示す
信号が直接得られる。従って従来のCCDの出力信号か
ら重心位置を算出するような複雑な計算をしないでも、
図2で説明した単純な演算により短時間で受光強度の重
心位置を示す受光位置K及びK′を求めることができ
る。
【0035】図6は本発明の第2実施例に係る光学式形
状計の概略構成図であり、図7は図6の被計測物が傾斜
した場合の説明図、図8は図7の光学系を説明するため
の斜視図である。図6〜図8において、1〜3、8、
9、1〜13は図1と同一のものであり、7a及び7b
はそれぞれハーフミラーである。また図6〜図8におけ
る第2実施例は、表面が鏡面または鏡面に近い被計測物
11の表面傾斜角を測定するものである。
【0036】図6の動作を最初に説明する。同図の被計
測物11及び光学系は計測前の較正状態を示していると
考えることができる。計測前の初期較正時には、まず鏡
面または鏡面に近い被計測物11の表面を基準水平面と
平行な水平面になるように調整する。次にセンサボック
ス1内の発光部2から出射された光(例えばレーザ光)
を投光レンズ3により微小なスポット径に集光し、ハー
フミラー7aを介した反射光を前記水平に調整された被
計測物11の表面上の入射点Qに垂直に照射する。被計
測物11の表面は鏡面であるため光の正反射が生じ、こ
の場合入射点Qにおける入射角βと反射角β′とは等し
く0度となり、反射光は入射光と同一光路を経てハーフ
ミラー7aに再入射し、これを透過する透過光を生じ
る。そしてハーフミラー7aからの透過光はさらにハー
フミラー7bにより透過光と反射光とに分離され、ハー
フミラー7bからの透過光は1次受光センサ8上の受光
位置Aで受光され、同様にハーフミラー7bからの反射
光は2次受光センサ9上の受光位置Bで受光される。
【0037】前記2つの受光位置A及びBは、それぞれ
座標位置算出器12−1及び12−2により2次元座標
上の位置データとして算出され演算器13に入力される
が、この較正時には、2つの受光位置データが等しい値
になるように各受光センサ8及び9の取付位置が調整さ
れるようにしている。この図6における、被計測物11
の表面の入射及び反射点Qからハーフミラー7a及びハ
ーフミラー7bを通過して1次受光センサ8上の受光位
置A点に至る光路が、この光学系の基準垂直線であり
(または基準鉛直線としてもよい)、後述する3次元座
標系のZ軸となる。またもしも、前記2つの受光位置A
及びBの位置データが等しい値に調整されない場合に
は、受光位置Aを基準位置とした受光位置Bのオフセッ
ト値を初期較正時におけるオフセットデータとしてこれ
を記憶するようにしておく。
【0038】図7は被計測物11の表面が傾斜した場合
であり、初期較正終了後の計測状態を示していると考え
ることができる。図7においては、被計測物11が光の
入射点Qにおいてdβ/2だけ傾斜しているため、入射
角βと反射角β′との間には角度差dβが生じる。即ち
前記基準垂直線上を入射する入射光に対して、反射光は
dβの角度差をもってハーフミラー7aを透過し、さら
にハーフミラー7bを介した透過光と反射光は、それぞ
れ1次受光センサ8上の受光位置A′と2次受光センサ
9上の受光位置B′において受光される。いまハーフミ
ラー7bへの入射光の延長線上の等価位置に2次受光セ
ンサ9を移動したと仮定し、これを等価2次受光センサ
9′とする。この等価2次受光センサ9′上の等価受光
位置をBe′とすると、この等価受光位置Be′、受光
位置A′及び反射点Qは前記角度差dβを有する同一反
射光路(同一直線)上に存在する。
【0039】図8は図7の立体的光学系を説明するため
の斜視図である。即ち1次受光センサ8及び2次受光セ
ンサ9はそれぞれ2次元PSDであり、受光ビームの受
光強度の重心位置を図8のようにそれぞれ2次元座標上
の受光位置として検出する。そして図7における、受光
位置のAからA′の方向及び受光位置のBeからBe′
の方向をそれぞれX軸方向とし、前記反射点Qから受光
位置A及びBeへの基準垂直線をZ軸方向とすると、図
8の3次元座標光学系を前記X・Z平面に投影したもの
が図7の光学系となる。
【0040】図9は本発明の第2実施例に係る傾斜角算
出式の説明図である。同図において、2、7a、7b、
8、9、9′及び11は図7と同一のものであり、図9
は図7と同様に図8の3次元光学系を前記X・Z平面に
投影したもである。図9において、1次受光センサ8上
の受光位置AとA′間の距離をa、等価2次受光センサ
9′上の等価受光位置BeとBe′間の距離をb、前記
受光位置Aと等価受光位置Be間の距離をd、また被計
測物11の点Qにおける傾斜角をdβ/2とすると、d
β/2は次の(3)式により算出することができる。
【0041】
【数3】
【0042】演算器13は座標位置検出器12−1及び
12−2から供給される前記受光位置A′及び等価受光
位置Be′から前記X軸上の移動距離a及びbを算出
し、また前記距離dは既知であるので、(3)式を用い
て前記傾斜角dβ/2を算出することができる。
【0043】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、光照射手
段により被計測物に対して集光された光を所定の入射角
により照射し、第1の光検出手段により前記被計測物の
表面からの反射光よりハーフミラーを介して透過光と反
射光とに分離し、この分離した透過光を2次元の受光素
子により受光し、その受光強度の重心位置信号を検出
し、第2の光検出手段により前記ハーフミラーを介して
分離した反射光を2次元の受光素子により受光し、その
受光強度の重心位置信号を検出し、演算手段により前記
第1の光検出手段並びに第2の光検出手段からそれぞれ
検出される受光強度の重心位置信号に基づき、所定の計
測基準位置から被計測物の表面までの距離を算出するよ
うにしたので、被計測物の表面が鏡面、または鏡面に近
い場合に、オンラインで被計測物が傾斜変動したり、ハ
レーションを起こすようなときにも、非接触で被計測物
の形状、変位または厚さを安定して連続計測することが
できる。
【0044】また本発明によれば、光照射手段により被
計測物に対して集光され第1のハーフミラーを介した反
射光を垂直に照射し、第1の光検出手段により前記被計
測物の表面からの反射光の前記第1のハーフミラーを介
した透過光を第2のハーフミラーを介して透過光と反射
光とに分離し、該分離された透過光を2次元の受光素子
により受光し、その受光強度の重心位置信号を検出し、
第2の光検出手段により前記第2のハーフミラーを介し
て分離された反射光を2次元の受光素子により受光し、
その受光強度の重心位置信号を検出し、演算手段により
前記第1の光検出手段から検出される受光強度の重心位
置信号、並びに前記第2の光検出手段から検出される受
光強度の受信位置信号に基づき、所定の計測基準垂直線
に対する被計測物表面の傾斜角を算出するようにしたの
で、被計測物の表面が鏡面もしくは鏡面に近い場合、ま
たはハレーションを起こすようなときにも、オンライン
で非接触で被計測物の傾斜角を安定して連続計測するこ
とができる。
【0045】また本発明によれば、前記第1の光検出手
段及び第2の光検出手段に含まれたリニアライズ装置
は、それぞれ2次元受光素子から検出する座標位置信号
の直線化補正を行なうようにしたので、この補正後の高
精度の座標位置信号に基づき算出する被計測物までの距
離または表面傾斜角についての計測精度も同様に向上さ
せることができる。従って従来は困難とされていた表面
が鏡面、または鏡面に近い被計測物の形状の高精度計測
が可能となり、各種ラインで安定した操業と、歩留の向
上、並びに高品質の製品の生産ができるという効果が得
られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る光学式形状計の概略
構成図である。
【図2】2次元PSDによる2次元位置計測の説明図で
ある。
【図3】図2の2次元PSDの出力特性及びリニアライ
ザの説明図である。
【図4】本発明の第1実施例に係る距離算出式の説明図
である。
【図5】本発明の第1実施例に係る受光センサへの入射
光の不規則分布例を示す図である。
【図6】本発明の第2実施例に係る光学式形状計の概略
構成図である。
【図7】図6の被計測物が傾斜した場合の説明図であ
る。
【図8】図7の光学系を説明するための斜視図である。
【図9】本発明の第2実施例に係る傾斜角算出式の説明
図である。
【図10】従来の光学式形状計の計測誤差を説明する図
である。
【符号の説明】
1 センサボックス 2 発光部 3 投光レンズ 7a、7b ハーフミラー 8 1次受光センサ 9 2次受光センサ 11 被計測物 12−1、12−2 座標位置算出器 13 演算器 20 回転ミラー 21 同期モータ 30 2次元PSD素子 31A〜31D 前置増幅器 32A、32B 加算器 33A、33B 減算器 34A、34B 除算器 35 リニアライザ 36A、36B A/D変換器 37 テーブルメモリ 38A、38B データバッファ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牧 宏 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 竹腰 篤尚 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 稲葉 護 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被計測物に対して集光された光を所定の
    入射角により照射する光照射手段と、前記被計測物の表
    面からの反射光をハーフミラーを介して透過光と反射光
    とに分離し、該分離された透過光を2次元の受光素子に
    より受光し、その受光強度の重心位置信号を検出する第
    1の光検出手段と、前記ハーフミラーを介して分離され
    た反射光を2次元の受光素子により受光し、その受光強
    度の重心位置信号を検出する第2の光検出手段と、前記
    第1の光検出手段から検出される受光強度の重心位置信
    号及び前記第2の光検出手段から検出される受光強度の
    重心位置信号に基づき、所定の計測基準位置から被計測
    物の表面までの距離を算出する演算手段とを備えたこと
    を特徴とする光学式形状計。
  2. 【請求項2】 被計測物に対して集光され、第1のハー
    フミラーを介した反射光を垂直に照射する光照射手段
    と、前記被計測物の表面からの反射光の前記第1のハー
    フミラーを介した透過光を第2のハーフミラーを介して
    透過光と反射光とに分離し、該分離された透過光を2次
    元の受光素子により受光し、その受光強度の重心位置信
    号を検出する第1の光検出手段と、前記第2のハーフミ
    ラーを介して分離された反射光を2次元の受光素子によ
    り受光し、その受光強度の重心位置信号を検出する第2
    の光検出手段と、前記第1の光検出手段から検出される
    受光強度の重心位置信号、並びに前記第2の光検出手段
    から検出される受光強度の重心位置信号に基づき、所定
    の計測基準垂直線に対する被計測物表面の傾斜角を算出
    する演算手段とを備えたことを特徴とする光学式形状
    計。
  3. 【請求項3】 前記第1の光検出手段及び第2の光検出
    手段は、それぞれ2次元受光素子から検出する座標位置
    信号を直線化するリニアライズ装置を有することを特徴
    とする請求項1または請求項2記載の光学式形状計。
JP30625091A 1990-11-27 1991-11-21 光学式形状計 Pending JPH051904A (ja)

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JP32069590 1990-11-27
JP2-320695 1990-11-27

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