JPH05189964A - Dramコントロール回路及び半導体装置のコントロール回路 - Google Patents

Dramコントロール回路及び半導体装置のコントロール回路

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JPH05189964A
JPH05189964A JP4005356A JP535692A JPH05189964A JP H05189964 A JPH05189964 A JP H05189964A JP 4005356 A JP4005356 A JP 4005356A JP 535692 A JP535692 A JP 535692A JP H05189964 A JPH05189964 A JP H05189964A
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temperature
dram
refresh
control circuit
semiconductor device
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JP4005356A
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Masaharu Taniguchi
正治 谷口
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 DRAMコントロール回路が各温度毎に異な
るDRAMの特性に応じた制御を行うことにより、リフ
レッシュ時の消費電力を削減することを目的とする。 【構成】 温度検出回路1がDRAM5を含む装置の温
度を検出する。リフレッシュ・タイマ部2は、温度検出
回路1の検出結果に基づいてその時々のDRAM5の温
度に適したリフレッシュの間隔でリフレッシュリクエス
ト信号を出力する。タイミング・ジェネレータ部4は、
入力した各温度によって異なるリフレッシュの間隔を有
するリフレッシュリクエスト信号にしたがって、DRA
M5が要求するタイミングを満足するように信号/RA
S,/CAS等を出力する。 【効果】 各温度のDRAMのリフレッシュ時間に合わ
せてリフレッシュを行わせることができ、従来に比べて
リフレッシュ時の消費電力を削減できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、DRAMのリフレッ
シュ及びリード・ライトアクセスを制御するDRAMコ
ントロール回路及び温度により動作速度の異なる半導体
装置のコントロール回路に関し、特にDRAM及び半導
体装置の温度特性を考慮したDRAMコントロール回路
及び半導体装置のコントロール回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体装置のコントロール回路の
一例としてDRAMコントロール回路について図7乃至
図9を用いて説明する。図7は従来のDRAMコントロ
ール回路の構成を示すブロック図である。図において、
20はDRAMコントロール回路であり、アドレス・マ
ルチプレクス部21とリフレッシュ・タイマ部22とリ
フレッシュ・アドレス・カウンタ部23とアービタ部2
4とタイミング・ジェネレータ部25の5つのブロック
より構成されている。また、30はDRAMコントロー
ル回路20により制御されるDRAM、31はDRAM
コントロール回路20等を制御するマイクロ・プロセッ
サ・ユニット(以下MPUという)、32はデータ・バ
ス27を通して行われるMPU31とDRAM30のデ
ータの入出力の仲介をするデータ・バッファである。
【0003】次に、DRAMコントロール回路20を構
成している各ブロックの動作について説明する。DRA
M30では、ロウアドレスとカラムアドレスを時分割で
入力するので、MPU31からのメモリ・アドレスをロ
ウアドレスとカラムアドレスに切り替えるアドレス・マ
ルチプレクス機能が必要となる。この機能を有するのが
アドレス・マルチプレクス部21で、MPU31からア
ドレス・バス26を通して入力するメモリ・アドレスを
ロウアドレスとカラムアドレスに切り替えてDRAM3
0に対して出力する。次に、リフレッシュ・タイマ部2
2は、DRAM30を一定間隔でリフレッシュするため
のタイマ機能を有する部分である。リフレッシュ・タイ
マ部22より出力されたリフレッシュリクエスト信号
は、アービタ部24に入力される。現在、最も多く使用
されている1MビットDRAMでは、8msの間に51
2アドレスをリフレッシュする必要がある。DRAMに
記憶されたデータを保持するためにDRAMをリフレッ
シュしなければならない時間間隔をリフレッシュ・サイ
クル時間という。また、リフレッシュ・アドレス・カウ
ンタ部22は、リフレッシュ・アドレスを与えるための
カウンタ機能を有する部分である。通常、1MビットD
RAMでは512アドレス必要であり、9ビットのカウ
ンタ構成になる。/RASオンリ・リフレッシュは、リ
フレッシュするアドレスを外部から与える必要があるの
で、このリフレッシュ・アドレス・カウンタ部22が必
要になる。しかし、256Kビット以上のDRAMに
は、このリフレッシュ・アドレス・カウンタが内蔵され
ており、DRAM内蔵のこのカウンタを使用することこ
ともできる。この場合には、/CASビフォア/RAS
リフレッシュを行う。この方式のリフレッシュを使う
と、DRAMコントロール回路20にはリフレッシュ・
アドレス・カウンタ部23が必要ではなくなる。
【0004】次に、アービタ部24は、MPU31から
のメモリ・アクセス要求と、リフレッシュタイマ部22
からのリフレッシュ要求が競合した場合に、どちらの要
求を優先させるかの裁定を行う機能を有する部分であ
る。そして、タイミング・ジェネレータ部25は、メモ
リ・アクセス時或いはリフレッシュ時にDRAM30が
要求するタイミングを満足するようにロウアドレススト
ローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/
CAS、ライト信号/Wを作りだす機能を有する部分で
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来のDRAMコント
ロール回路は以上のように構成されており、DRAMの
周囲の温度が高温、常温または低温のいずれの場合にお
いても、区別なく同じ動作を行うように設定されてい
る。
【0006】まず、DRAMの温度特性に関する問題点
について図8を用いて説明する。図8は、DRAMコン
トロール回路におけるリフレッシュ・タイマ部22の設
定を示す図である。図に示すように、DRAMの温度T
aが高温Hot、常温Room及び低温Coolのいず
れの場合にもリフレッシュ・タイマ部22は同じ動作を
して、ほぼ同じ間隔でリフレッシュリクエスト信号を出
力する。DRAMコントロール回路がこのリフレッシュ
リクエスト信号を出力するリフレッシュの間隔は、例え
ば1MビットDRAMではリフレッシュ・サイクル時間
が512サイクル/8msという値で規定されており、
1サイクルの間隔は約15.6μsになる。従って、リ
フレッシュは15.6μs以内に1サイクル行わなけれ
ばならない。このDRAMのリフレッシュ・サイクル時
間は低温Cool時より高温Hot時のほうが特性が悪
く、512サイクル/8msという規格値は高温状態を
基にした値である。
【0007】ところが、常温Room時、低温Cool
時のDRAMのリフレッシュ・サイクル時間は高温Ho
t時に比べて10°C毎に2倍になるというように指数
関数的に長くなる。従って、現状のDRAMコントロー
ル回路20においては、常温時及び低温時には、DRA
Mがまだデータの保持能力があるにもかかわらず、余分
なリフレッシュを行うこととなる。また、リフレッシュ
時にはDRAM全体を同時にリフレッシュするため、リ
フレッシュによる消費電力は大きなものとなる。そのた
め、常温時及び低温時においては余分なリフレッシュを
行い、それにより無駄な電力を消費してしまうという問
題点があった。特に、バッテリーバックアップのシステ
ムにおいては、これが非常に重要な問題点である。
【0008】次に、半導体装置の一例としてのDRAM
の温度特性による問題点について図9を用いて説明す
る。図9はDRAMコントロール回路を用いたDRAM
のリードアクセスを示すタイミング波形図である。DR
AM30ではリード時において、/RASアクセスタイ
ムと/CASアクセスタイムの遅い方で出力データが確
定する。図に示すように、DRAM自身の特性として/
RASアクセスタイムと/CASアクセスタイムは、D
RAM30の温度Taが低温Cool時より高温Hot
時のほうが遅くなる。従って、/RASアクセスタイム
と/CASアクセスタイムの保証される値は高温Hot
時の特性を基にしたものである。そこで、システム設計
を行う場合には、DRAM30が保証する/RASアク
セスタイムと/CASアクセスタイムの値としてそれぞ
れの高温Hot時における値を用いることとなる。従っ
て、DRAMを含む装置の高速化を考えた場合、回路動
作が高温Hot時、常温Room時及び低温Cool時
に同じ動作をするとアクセスタイムは高温Hot時に合
わせて装置を構成することとなり常温Room時及び低
温Cool時の動作が遅くなるという問題点があった。
【0009】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、DRAMの動作時の温度に合わ
せて、余分なリフレッシュによる無駄な電力消費を防止
するために各温度においてDRAMを最適に動作させる
とができるDRAMコントロール回路を得ることを目的
としている。
【0010】また、半導体装置の温度に合わせて、半導
体装置の動作を高速化するために各温度において半導体
装置を最適に動作させるとができる半導体装置のコント
ロール回路を得ることを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】第1の発明に係るDRA
Mコントロール回路は、DRAMのリフレッシュを制御
するDRAMコントロール回路であって、前記DRAM
の周囲の温度を検出する温度検出回路と、前記温度検出
回路に接続し、前記温度検出回路の検出結果に基づいて
リフレッシュの間隔を変化させる手段とを備えて構成さ
れている。
【0012】また、第2の発明に係る半導体装置のコン
トロール回路は、半導体装置の周囲の温度を検出する温
度検出回路と、前記温度検出回路に接続し、前記温度検
出回路の検出結果に基づいて前記半導体装置の動作タイ
ミングを制御する制御手段とを備えて構成されている。
【0013】
【作用】第1の発明における温度検出回路は、DRAM
の温度を検出して、その検出結果をリフレッシュの間隔
を変化させる手段に対して出力する。前記手段は、前記
温度検出回路の検出結果に基づいて、その温度における
前記DRAMのリフレッシュ・サイクル時間に合わせて
リフレッシュの間隔を変化させる。従って、従来のよう
に最もリフレッシュ時間に関する特性の悪い温度におけ
る最も短いリフレッシュの間隔に固定することによる余
分なリフレッシュを行うことを防止することができる。
【0014】また、第2の発明における温度検出回路
は、半導体装置の周囲の温度を検出して、その検出結果
を制御手段に対して出力する。前記制御手段は、前記温
度検出回路の検出結果に基づいて前記半導体装置の動作
タイミングを制御する。従って、例えば半導体装置がD
RAMである場合、その温度における前記DRAMのア
クセスタイムに合わせて、少なくともロウアドレススト
ローブ信号若しくはカラムアドレスストローブ信号の発
生タイミングのうち一方を変化させることができる。こ
のことにより、温度によって変化する前記DRAMのア
クセスタイムに適した動作タイミングの制御が行え、温
度変化による前記DRAMの動作タイミングのズレを補
償して前記半導体装置の高速動作を可能にする。
【0015】
【実施例】以下、この発明の一実施例について図1乃至
図4を用いて説明する。図1はこの発明の一実施例によ
るDRAMコントロール回路を示すブロック図である。
図において、1はDRAMの温度を検出する温度検出回
路、2は温度検出回路1に接続し、温度検出回路1が検
出したDRAMの温度を伝達する信号SH ,SR ,SC
を入力して、それぞれのDRAMの温度に適したリフレ
ッシュの間隔を設定してリフレッシュリクエスト信号を
出力するリフレッシュ・タイマ部、3はアービタ部、4
はリフレッシュ・タイマ部2から出力されたリフレッシ
ュリクエスト信号に基づいてDRAM5が要求するタイ
ミングを満たすローアドレスストローブ信号/RASや
カラムアドレスストローブ信号/CAS等を出力するタ
イミング・ジェネレータ部である。図に示していないア
ドレス・マルチ・プレクス部等は図7に示した従来のD
RAMコントロール回路20と同一の構成である。
【0016】図2は、図1に示したリフレッシュ・タイ
マ部2が各温度において出力するリフレッシュリクエス
ト信号を示す図である。温度検出回路1により装置が高
温、常温または低温のいずれの状態にあるかを検出し、
各温度でのDRAM5のリフレッシュ・サイクル時間に
見合ったリフレッシュの間隔をリフレッシュ・タイマ部
2に設定する。すなわち、図2に示すように装置温度T
aが高温Hotより常温Room、常温Roomより低
温Coolの方がよりリフレッシュの間隔を長くするよ
うに、リフレッシュ・タイマ部2を設定する。このこと
により、常温Room時及び低温Cool時には余分な
リフレッシュを行う必要がなく、従来に比べて消費電力
を削減することができる。リフレッシュ・タイマ部2の
各温度におけるリフレッシュの間隔の設定方法として
は、図10に示すように、例えばリフレッシュ・タイマ
部2が基準クロックをカウンタ41〜43により分周し
てリフレッシュリクエスト信号を発生している場合、カ
ウンタ41〜43で異なるカウント数により複数のリフ
レッシュリクエスト信号を発生してセレクタ44に入力
し、温度検出回路1より出力された信号SH ,SR ,S
C に基づいてセレクタ44を切り替えることにより、所
望のリフレッシュの間隔を有するリフレッシュリクエス
ト信号を出力することができる。
【0017】図3は、図1に示した温度検出回路のブロ
ック図である。図において、5は定電圧源、6は定電圧
源5に接続した抵抗、7は抵抗6の一方端に接続した定
電流源、8は抵抗6と定電流源7の接続点の電圧と設定
電圧VCoolとを比較して該接続点の電圧が設定電圧V
Coolより高ければ“H”を出力するコンパレータ、9は
前記接続点の電圧と設定電圧VRoomとを比較して該接続
点の電圧が設定電圧VRoomより高ければ“H”を出力す
るコンパレータ、10は前記接続点の電圧と設定電圧V
Hot とを比較して該接続点の電圧が設定電圧VHot より
高ければ“H”を出力するコンパレータである。
【0018】図3(a)の定電流源7は、図3(b)及
び図3(c)に示すトランジスタ13あるいはダイオー
ド12などの能動素子を用いて構成する。図3(b)の
トランジスタ13は、P型MOSトランジスタあるいは
N型MOSトランジスタであり、P型MOSトランジス
タの場合には抵抗6の一方端にソースを接続し、ドレイ
ンを接地してゲートをドレインに接続する。また、N型
MOSトランジスタの場合には抵抗6の一方端にドレイ
ンを接続し、ソースを接地してゲートをドレインに接続
する。図3(c)に示したダイオード12の場合には、
アノードを抵抗6の一方端に接続し、カソードを接地し
て順方向に接続する。そして、トランジスタあるいはダ
イオードなどの能動素子に流れる電流の温度特性(図3
(b)に示したトランジスタ13では低温→常温→高温
の順に流れる電流が減少し、図3(c)に示したダイオ
ード12では高温→常温→低温の順に流れる電流が減少
する。)を用いて、装置の温度Taが高温Hot、常温
Roomまたは低温Coolのいずれの状態かを検出す
ることができる。図4は図3(b)のトランジスタ13
の電圧‐電流特性の温度依存性を示す図である。なお、
検出しなければならないのはDRAM5の温度である
が、通常、DRAMコントロール回路とDRAMは、各
々別のデバイスとして形成されても同一基板上に構成さ
れるなど、ほぼ同一温度となっているため、定電流源7
等の温度検出部分をDRAM内に設ける必要はない。し
かし、DRAMコントロール回路とDRAMの温度が異
なる場合、温度検出部分をDRAM内に設けるか、また
は、温度検出部分をDRAM内に設けないときには、温
度検出回路1で温度差を補正してもよい。
【0019】次に、この発明の他の実施例について図5
及び図6を用いて説明する。図5はこの発明の他の実施
例による半導体装置のコントロール回路の一例としての
DRAMコントロール回路を示すブロック図である。図
において、16はDRAMの温度を検出する温度検出回
路、14は温度検出回路16に接続し、温度検出回路1
6が検出した装置温度を伝達する信号SH ,SR ,SC
を入力して、それぞれの装置温度に適したタイミング
で、かつDRAM15が要求するタイミングを満たすロ
ーアドレスストローブ信号/RASとカラムアドレスス
トローブ信号/CAS等を出力するタイミング・ジェネ
レータ部である。15はDRAMを示す。図に示してい
ないアドレス・マルチ・プレクス部等は図7に示した従
来のDRAMコントロール回路20と同一の構成であ
る。また、温度検出回路16は、図1に示した温度検出
回路1と同様の構成を有する。
【0020】図6は、リードアクセス時における図5の
DRAMコントロール回路及びDRAMの動作を示すタ
イミング図である。図6には、/RASアクセスタイム
より/CASアクセスタイムの方が遅く、出力データの
確定が/CASアクセスタイムで決まる場合を示してい
る。図6に示すように、データ出力を各温度において一
定にするためには、DRAM15の温度が高温になるほ
ど/CASアクセスタイムが長くなるため、高温になる
ほどカラムアドレスストローブ信号/CASの立ち下が
りを早めることが必要になる。図5に示す温度検出回路
16により検出されたDRAM15の温度に基づいて装
置温度が高くなるほどリードアクセス時におけるカラム
アドレスストローブ信号/CASの立ち下がりのタイミ
ングを早くするようにタイミング・ジェネレータ部14
を設定する。このように、リードアクセス時における高
温時のDRAM15のデータ確定時を従来に比べて早め
ることができ、DRAM15を含む装置の高速化を図る
ことができる。
【0021】図11は図5に示したタイミング・ジェネ
レータ部14の構成の一部を示すブロック図である。図
において、50は基準クロックを入力して3ビットの信
号を出力するカウンタ、51は温度検出回路16からの
信号SH ,SR ,SC を入力して、信号SH ,SR ,S
C に基づいてカウンタから入力する3ビットの信号によ
り規定される種々の発生タイミングを選択することによ
り、検出した温度に応じてタイミングを変化させたロウ
アドレスストローブ信号/RASとカラムアドレススト
ローブ信号/CASを出力するランダムロジックであ
る。
【0022】なお、上記各実施例において、温度検出回
路の温度検出ポイントを高温(Hot)、常温(Roo
m)及び低温(Cool)の3ポイントにしたが、温度
を検出するポイントを増やすことにより更に精度の高い
DRAMコントロール回路を作成することができる。
【0023】また、上記実施例では、半導体装置の例と
してDRAMを示したが、この発明の適用される半導体
装置は、その半導体装置の動作タイミングを制御する回
路を有しており、前記コントロール回路からの信号に応
答して動作するとき、温度によって動作速度が変化する
半導体装置であればよく、上記実施例と同様の効果を奏
する。
【0024】
【発明の効果】以上のように、請求項1に係るDRAM
コントロール回路によれば、DRAMの周囲の温度を検
出する温度検出回路と、前記温度検出回路に接続し、前
記温度検出回路の検出結果に基づいてリフレッシュの間
隔を変化させる手段とを備えて構成したので、前記DR
AMの温度領域における最も短いリフレッシュの間隔に
固定することによる余分なリフレッシュを行うことを防
止することができ、従来に比べて消費電力を削減するこ
とができるという効果がある。
【0025】また、請求項2に係る半導体装置のコント
ロール回路によれば、半導体装置の周囲の温度を検出す
る温度検出回路と、前記温度検出回路に接続し、前記温
度検出回路の検出結果に基づいて前記半導体装置の動作
タイミングを制御する制御手段とを備えて構成したの
で、前記半導体装置が例えばDRAMの場合、前記DR
AMの周囲の温度に応じて少なくともロウアドレススト
ローブ信号若しくはカラムアドレスストローブ信号の発
生タイミングのうち一方を変化させて、温度によって変
化する前記DRAMのアクセスタイムに適した制御を行
い、温度変化による前記DRAMの動作タイミングのズ
レを補償して前記DRAMの高速動作を可能にすること
ができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例によるDRAMコントロー
ル回路の構成の一部分を示すブロック図である。
【図2】図1に示したリフレッシュ・タイマ部の出力信
号を示す波形図である。
【図3】図1に示した温度検出回路の構成を示す回路図
である。
【図4】図3に示したトランジスタの動作を示す電圧‐
電流特性図である。
【図5】この発明の他の実施例によるDRAMコントロ
ール回路の構成の一部分を示すブロック図である。
【図6】図5に示したDRAMコントロール回路の動作
を示すタイミング波形図である。
【図7】従来のDRAMコントロール回路の構成を示す
ブロック図である。
【図8】図7に示したリフレッシュ・タイマ部の出力信
号を示す波形図である。
【図9】図7に示したタイミング・ジェネレータ部の動
作を示すタイミング波形図である。
【図10】図1に示したリフレッシュ・タイマ部の構成
を示すブロック図である。
【図11】図5に示したタイミング・ジェネレータ部の
構成の一部を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 温度検出回路 2 リフレッシュ・タイマ部 3 アービタ部 4 タイミング・ジェネレータ部 5 DRAM 14 タイミング・ジェネレータ部 15 DRAM 16 温度検出回路

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 DRAMのリフレッシュを制御するDR
    AMコントロール回路において、 前記DRAMの周囲の温度を検出する温度検出回路と、 前記温度検出回路に接続し、前記温度検出回路の検出結
    果に基づいてリフレッシュの間隔を変化させる手段と、
    を備えたDRAMコントロール回路。
  2. 【請求項2】 半導体装置の周囲の温度を検出する温度
    検出回路と、 前記温度検出回路に接続し、前記温度検出回路の検出結
    果に基づいて前記半導体装置の動作タイミングを制御す
    る制御手段と、を備えた半導体装置のコントロール回
    路。
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