JPH05142813A

JPH05142813A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH05142813A
Application number: JP33261991A
Authority: JP
Inventors: Ryuichi Takahashi; 隆一高橋; Hiroshi Yamamoto; 宏山本; Kazuyo Yamamoto; 和代山本
Original assignee: NIPPON CHIBAGAIGII KK; Ciba Geigy Japan Ltd
Current assignee: NIPPON CHIBAGAIGII KK; Ciba Geigy Japan Ltd
Priority date: 1991-11-21
Filing date: 1991-11-21
Publication date: 1993-06-11

Abstract

(57)【要約】【目的】電子写真感光体が８００ｎｍ程度の長波長領
域に高感度を示すようにし、且つ耐久性を高める。【構成】導電性支持体上に少なくとも電荷発生剤と電
荷輸送剤を含む感光層を有する有機電子写真感光体にお
いて、該感光層中に下記一般式（Ｉ）で表わされるピロ
ロピロール化合物と電子受容性化合物とを含有させる。（式中、Ｒ¹およびＲ²は同一又は異なって置換基を有
していてもよいアリール基又はアラルキル基、複素環基
を表し、Ｒ³およびＲ⁴は同一又は異なって水素原子、
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を表
し、Ｘ¹およびＸ²は同一又は異なって酸素原子又は硫
黄原子を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真に使用する感
光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真感光体としては、セレ
ン、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を
主成分とする感光体が広く使用されてきた。しかしなが
ら、このような無機感光体は、電子写真感光体として要
求される諸性能、例えば光感度、熱安定性、耐湿性、耐
久性等の特性を必ずしも満足するものではなかった。近
年、これら無機光導伝物質を用いた感光体の欠点を改良
するために、有機物質を用いた電子写真感光体が研究、
開発され、一部実用に供されている。

【０００３】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂、Ｐ
ＶＫ−ＴＮＦ（２、４、７−トリニトロフルオレノン）
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バイン
ダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送
物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが
知られている。中でも機能分離型の感光体は、材料の選
択範囲を広げ、それに伴い、光感度、耐久性の向上を可
能にし、また電子写真感光体を製造する際、製造上好都
合な物質を広い範囲から選択できる長所を有している点
で特に注目されている。このような機能分離型の電荷発
生層に用いられる有機電荷発生物質として、例えば、各
種構造のアゾ化合物、ペリレン化合物、多環キノン化合
物、キナクリドン化合物等の各種の有機染料・有機顔料
が使用されている。

【０００４】しかしながら、これらの有機染料・有機顔
料からなる有機電荷発生物質は、短波長もしくは中波長
領域の光に対しては比較的良好な感度を示すが長波長領
域での感度が低いため、高速化、高画質化、コンパクト
化を目指した近年進展の著しい半導体レーザーを光源と
するレーザービームプリンター等に用いることは困難で
あった。半導体レーザー光源の波長は７８０〜８３０ｎ
ｍ程度であることから、レーザービームプリンターは、
８００ｎｍ前後の長波長光に対して高感度な特性を有す
る感光体を必要とする。

【０００５】この要求を満たす感光体のための有機電荷
発生剤としては、スクアリウム化合物、アズレニウム化
合物、フタロシアニン化合物、ピロロピロール化合物
（例えば特開昭６１−１６２５５５号公報参照）が知ら
れている。これらの有機電荷発生剤は、前述の有機染料
・有機顔料に比較し、感度域が長波長側に拡大してい
る。特にフタロシアニン化合物のうち金属フタロシアニ
ン化合物は中心金属を選択することによって、また、ピ
ロロピロール化合物は結晶型を制御することによって感
度ピークを長波長域にシフトさせることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、長波長
光に感度を有するこれらの電荷発生剤を用いた感光体
は、実用的な感光体としての感度、耐久性等の電子写真
特性が未だ十分ではなかった。本発明の目的は、高感
度、特に半導体レーザー等の長波長の光に十分な感度を
有し、かつ繰り返し使用において電位安定性が高く残留
電位が小さい、耐久性の高い電子写真感光体を提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に、少な
くとも電荷発生剤と電荷輸送剤を含む感光層を有する有
機電子写真感光体において、該感光層中に下記一般式
（Ｉ）（式中、Ｒ¹およびＲ²は同一または異なって置換基を
有していてもよいアリール基またはアラルキル基、複素
環基を表し、Ｒ³およびＲ⁴は同一または異なって水素
原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基を表し、Ｘ¹およびＸ²は同一または異なって酸素原
子または硫黄原子を表す。）で表されるピロロピロール
化合物と電子受容性化合物とを含有させたことを特徴と
する。

【０００８】以下に、本発明を詳細に説明する。本発明
の電子写真感光体は、導電性支持体（基板）上に少なく
とも電荷発生剤と電荷輸送剤からなる感光層を有し、感
光層は、前述のピロロピロール化合物と電子受容性化合
物とを含有している。

【０００９】上記導電性支持体は、シート状やドラム状
のいずれであってもよく、支持体自体が導電性を有する
か、支持体の表面が導電性を有し、使用に際し十分な機
械的強度を有するものが好ましい。上記導電性支持体と
しては、導電性を有する種々の材料が使用でき、例え
ば、アルミニウム、銅、錫、白金、金、銀、バナジウ
ム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケ
ル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼、真鍮など
の金属単体や、上記金属が蒸着または積層されたプラス
チック材料、ヨウ化アルミニウム、酸化錫、酸化インジ
ウム等で被覆されたガラス等が例示される。上記導電性
支持体のうち、アルミニウム、特に表面にアルミニウム
結晶粒が存在しないアルミニウムが好ましく、更には複
写画像等において黒点やピンホール等が発生するのを防
止すると共に感光層と支持体との密着性をよくするため
にアルマイト処理されたアルミニウム、中でもアルマイ
ト処理層の膜厚が５〜１２μｍであり、表面粗さが１．
５Ｓ以下のアルマイト処理されたアルミニウムが好まし
い。

【００１０】上記感光層に含有される一般式（Ｉ）で表
されるピロロピロール系化合物において、Ｒ¹およびＲ
²のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アント
リル、フェナントリル、フルオレニル、１−ピレニル基
などが例示され、フェニル基、ナフチル基、中でもフェ
ニル基が好ましい。Ｒ¹およびＲ²のアラルキル基とし
ては、ベンジル、フェニルエチル、ナフチルメチル基な
どが例示される。

【００１１】Ｒ¹およびＲ²の「置換基を有していても
よいアリール基またはアラルキル基」における置換基と
しては、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有する低級アル
キル基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ジアル
キルアミノ基からなる群から選ばれた置換基などが例示
される。上記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が例示され、塩素または臭素原子が好まし
い。また、ハロゲン原子を有する低級アルキル基として
は、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、２−クロロエチル、２，２−ジクロロエチル、２，
２，２−トリクロロエチル、トリフルオロメチル基など
が例示される。アルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、 tert-
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ステアリル基等
の炭素数１〜１８のアルキル基が例示される。上記アル
キル基のうち、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖状ア
ルキル基、特に、炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状ア
ルキル基、中でも炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状ア
ルキル基が好ましい。アルコキシ基としては、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、プトキ
シ、イソブトキシ、 tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノ
ニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシ
ルオキシ、ステアリルオキシ基などが例示される。上記
アルコキシ基のうち、炭素数１〜１２の直鎖または分岐
鎖状アルコキシ基、特に、炭素数１〜６の直鎖または分
岐鎖状アルコキシ基、中でも炭素数１〜４の直鎖または
分岐鎖状アルコキシ基が好ましい。ジアルキルアミノ基
としては、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエ
チルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミ
ノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルアミノ、ジ-tert-ブ
チルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ基な
どのアルキル部分の炭素数が１〜６のジアルキルアミノ
基が例示される。

【００１２】Ｒ¹およびＲ²の複素環基としては、チエ
ニル、チアントレニル、フリル、ピラニル、イソベンゾ
フラニル、クマリニル、キサンテニル、フェノキサチイ
ニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソチア
ゾリル、イソオキサゾリル、インドリジニル、イソイン
ドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、ピリジ
ル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、キノリ
ジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフ
チリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリ
ニル、プテリジニル、カルバゾリル、カルボリニル、フ
ェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェ
ナントロリニル、フェナジニル、フェナルサジニル、フ
ェノチアジニル、フラザニル、フェノキサジニル、イソ
クロマニル、クロマニル、ピロリジニル、ピロリニル、
イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、
ピラゾリニル、ピペリジル、ピペリジノ、ピペラジニ
ル、インドリニル、イソインドリニル、キヌクリジニ
ル、モルホリニル、モルホリノ基、または上記複素環基
を有する化合物とアリール化合物とがオルソまたはペリ
縮合した縮合複素環系化合物の縮合複素環基などが例示
される。

【００１３】なお、上記一般式（Ｉ）で表されるピロロ
ピロール系化合物において、Ｒ³およびＲ⁴のアルキル
基としては、前記置換基Ｒ¹およびＲ²における炭素数
１〜６の低級アルキル基が例示される。上記アルキル基
のうち、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。また、
Ｒ³およびＲ⁴の置換基を有していてもよいアリール基
としては、フェニル環上に置換基を有していてもよいフ
ェニル基が好ましく、該フェニル基の置換基としてはハ
ロゲン原子、ハロゲン原子を有する低級アルキル基、ア
ルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ニトロ基か
らなる群から選ばれた置換基が好ましい。上記ハロゲン
原子、ハロゲン原子を有する低級アルキル基、アルキル
基、アルコキシ基としては、前記置換基Ｒ¹およびＲ²
と同様の置換基が例示される。アルキルチオ基として
は、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロ
ピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、 tert-ブチル
チオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オ
クチルチオ、ノニルチオ、デシルチオ、ウンデシルチ
オ、ドデシルチオ、ステアリルチオ基などが例示され
る。上記アルキルチオ基のうち、炭素数１〜１２の直鎖
または分岐鎖状アルキルチオ基、特に、炭素数１〜６の
直鎖または分岐鎖状アルキルチオ基、中でも炭素数１〜
４の直鎖または分岐鎖状アルキルチオ基が好ましい。な
お、上記置換基Ｒ³およびＲ⁴は水素原子であるのが特
に好ましい。

【００１４】また、上記一般式（Ｉ）で表されるピロロ
ピロール系化合物は、感光特性等を阻害しない範囲で種
々の電荷発生剤と組合せて使用してもよい。該電荷発生
剤としては、例えば、セレン、セレン−テルル、アモル
ファスシリコン、ピリリウム塩、アゾ系化合物、ジスア
ゾ系化合物、フタロシアニン系化合物、アンサンスロン
系化合物、ペリレン系化合物、インジゴ系化合物、トリ
フェニルメタン系化合物、スレン系化合物、トルイジン
系化合物、ピラゾリン系化合物、キナクリドン系化合物
等が例示される。上記電荷発生剤は、適宜選択して一種
または二種以上使用することができる。

【００１５】本発明において使用される電子受容性化合
物としては、電子吸引性基を有する広範囲の化合物を挙
げることができる。以下に、その例を示すが、本発明に
おいて使用できる電子受容性化合物は下記化合物に限ら
れるものではない。〔式１〜９中、ＸおよびＹは同一または異なって酸素原
子，硫黄原子，シアノイミノ基またはジシアノメチレン
基を表し、Ｒ₁〜Ｒ₈は同一または異なって水素原子，
メチル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素
原子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，シアノ基，フェ
ニル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基
またはエトキシカルボニル基を表す。〕〔式10中、Ａｒは置換されてもよい芳香族環または複素
環を、ｎは０または１を、ｍは１または２を、そしてＲ
₁およびＲ₂は同一または異なって水素原子，メチル
基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原子，
臭素原子または沃素原子を表す。〕〔式11中、Ｒ₁，Ｒ₂およびＲ₃は同一または異なって
水素原子，メチル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素
原子，塩素原子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，シア
ノ基，フェニル基，トリフルオロメチル基，メトキシカ
ルボニル基またはエトキシカルボニル基を表し、Ｘは酸
素原子，シアノイミノ基またはジシアノメチレン基を表
す。〕〔式12〜14中、Ｒ₁，Ｒ₂およびＲ₃は同一または異な
って水素原子，メチル基，エチル基，tert- ブチル基，
弗素原子，塩素原子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，
シアノ基，フェニル基，トリフルオロメチル基，メトキ
シカルボニル基またはエトキシカルボニル基を表し、Ｘ
およびＹは同一または異なって酸素原子，シアノイミノ
基またはジシアノメチレン基を表し、Ａは酸素原子、硫
黄原子またはセレン原子を表す。〕

【００１６】なお、上記の電子受容性化合物は一種また
は二種以上混合して用いてもよい。本発明の感光体は、
図１および図２に示すように導電性支持体１上に電荷発
生剤を主成分とする電荷発生層２と電荷輸送剤を主成分
とする電荷輸送層３との積層感光体であってもよい。ま
た、図３に示すように電荷輸送剤を主成分とする層６中
に微粒子状の電荷発生剤５を分散してなる単層感光体で
あってもよい。上記の電子受容性化合物は、積層感光体
においては電荷発生層２に加えても、電荷輸送層３に加
えてもよい。また、単層感光体においては、感光層６中
に加えることができる。電荷発生層２中に電子受容性化
合物を加える場合、電荷受容性化合物はピロロピロール
化合物１重量部に対して０．０１〜１２０重量部用いる
のが好ましく、０．１〜８０重量部用いるのがさらに好
ましい。電荷輸送層３中に電子受容性化合物を加える場
合、電荷受容性化合物は、電荷輸送層３中に、０．０５
〜３０重量％用いるのが好ましく、１〜１０重量％用い
るのがさらに好ましい。単層感光体の感光層６に電荷受
容性化合物を加える場合、電荷受容性化合物は、感光層
６中に、０．０５〜３０重量％用いるのが好ましく、１
〜１０重量％用いるのがさらに好ましい。

【００１７】電荷発生層は、ピロロピロール化合物を結
着樹脂と共に適当な溶媒と混合し、ボールミル、アトラ
イター、サンドミルなどにより分散し、分散液を適度に
希釈して塗布することにより形成してもよい。塗布は、
浸漬塗工法やスプレーコート法、ビードコート法、ワイ
ヤーバーコート法などを用いて行なうことができる。そ
の際の溶媒として、テトラヒドロフラン、シクロヘキサ
ノン、ジオキサン、ジクロロエタン、アセトン、トルエ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸メチ
ル、メチレンクロライド、クロロホルム、キシレン、ま
たはこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。結着樹
脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹
脂、ポリケトン、ポリエステル、ポリカーボネート、シ
リコーン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−
ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが用いら
れる。結着樹脂は、電荷発生物質１重量部に対して０〜
５重量部用いるのが適当であり、好ましくは０〜３重量
部である。電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度
であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。

【００１８】また、導電性支持体と電荷発生層との間に
更に下引層を設けてもよい。この下引層は、積層感光体
の帯電時において、導電性支持体から感光層への電荷の
注入を阻止すると共に、一体的に接着保持させる接着層
としての作用、あるいは、場合によっては、導電性支持
体の光の反射防止作用などを示す。この下引層に用いる
結着樹脂は、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン、ポリイミド樹脂、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセ
タール樹脂、ポリビニルアルコール、水溶性ポリエステ
ル、ニトロセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドンなどの公知の樹脂を用いることができる。
また、下引層の膜厚は、０．０１〜１０μｍ程度であ
り、好ましくは０．０５〜３μｍが適当である。さらに
下引層を塗布する場合は、ブレードコート法、ワイヤー
バーコート法、スプレーコート法、浸漬塗工法、ビード
コート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法な
どの通常の方法を用いることができる。

【００１９】本発明の電荷輸送層は、電荷輸送剤を適当
な結着樹脂中に含有させて形成される。電荷輸送剤とし
ては、通常電子供与化合物として知られている化合物が
挙げられ、ヒドラゾン誘導体（特開平３−１０１７４０
号公報）、ベンジジン誘導体（特公昭５８−３２３７２
号公報，米国特許第４９２５７５９号明細書）、スチル
ベン誘導体（特願平３−１６５０６０号公報）、エナミ
ン誘導体（特開昭６２−２３７４５８および同６３−９
５４５７号公報）が用いられ得るが、これらに限定され
るものではない。更に電荷輸送層用の結着樹脂として
は、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレー
ト、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン、ポリビニルアセタ
ール、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン
−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレンアルキッド
樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、酢酸ビニル樹
脂、フェノキシ樹脂、酢酸セルロース樹脂、エチルセル
ロース、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルトルエン、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂などの公知の樹脂を用いることができ
るが、これらに限定されるものではない。また、これら
の結着樹脂は単独あるいは２種類以上混合して用いるこ
とができる。

【００２０】電荷輸送剤と結着樹脂との混合比は、電荷
輸送剤１重量部に対して結着樹脂０．１〜１０．０重量
部が好ましい。電荷輸送層を設ける際に使用する溶剤と
して、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン
等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、塩化エチレン等のハロゲン化低脂肪族炭化水素
類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン
等の環状または直鎖状のエーテル類などの通常の有機溶
媒を単独あるいは２種類以上混合して用いることができ
る。電荷輸送層を形成するために混合材料を塗布する場
合は、ブレードコート法、ワイヤーバーコート法、スプ
レーコート法、浸漬塗工法、ビードコート法、エアーナ
イフコート法、カーテンコート法などの通常の方法を用
いることができる。本発明の感光体における電荷輸送層
の膜厚は、一般には５〜５０μｍ，好ましくは８〜３０
μｍの範囲に限定される。

【００２１】本発明において、表面保護の目的で電荷輸
送層の上に保護層を設けてもよい。これに使用される材
料としては、ＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、オレフィン−ビ
ニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル、アリル樹
脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポ
リアミドイミド、ポリアクリレート、ポリアリルスルホ
ン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、アクリル樹
脂、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニ
レンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン、スチレン
−ブタジエン共重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げ
られる。なお、保護層の膜厚は０．５〜２０μｍ程度が
適当である。また、感光層は、ターフェニル、ハロナフ
トキノン類、アセナフチレン等、従来公知の増感剤、可
塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの種々の添加剤を
好ましい範囲で含有していてもよい。

【００２２】

【作用】本発明の上記構成により、感光体の長波長光に
対する感度が高くなり且つ耐久性が増す理由は、現時点
では必ずしも明らかではないが、電荷発生層から電荷輸
送層への電荷の注入が電荷受容性化合物の存在によって
促進されることに起因するものと考えられる。つまり、
一般的に光照射によって生成した電荷のうち、正孔は電
荷輸送層へ注入されるが、電荷発生層中に残った電子は
正孔の再結合中心になり、それが後続の電荷の生成や注
入を阻害すると仮定すると、本発明による電子写真感光
体では電子受容性化合物が存在することによって、感光
層中の電子が速やかに導電性基板へ注入され、電荷の生
成や注入が効率よく行われるものと考えられる。

【００２３】

【実施例】以下に、電荷発生層中にピロロピロール化合
物と電子受容性化合物を含んだ実施例と電子受容性化合
物を含まない比較例により本発明の効果を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００２４】実施例１電荷発生層用組成物（１）の調製ガラスマヨネーズ瓶（７０ｍｌ）中に、下記式Ｐ−１の
ピロロピロール化合物１．０ｇ、下記Ａ−１の電子受容
性化合物０．１ｇおよび分散剤としてＡＢ１０１０（Ｄ
ｕｐｏｎｔ社製）０．１７ｇ、更にトルエン７．８３ｇ
とガラスビーズ（ＧＢ６０３Ｍ、東芝バロディーニ社
製）３０ｇを加え、振とう機（ＳＡ−３１、ヤマト科学
社製）にて２０時間分散させ、更にポリビニルブチラー
ル（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）の１０重量
％トルエン溶液を１．０ｇ加え、更に１時間分散させる
ことにより電荷発生層用組成物（１）を調製した。電子写真感光体（１）の作製アルミニウム基板上にワイヤーバー（RK Print-Coat
Instrument Ltd.製 KCC Bar No.１）を用いて上記電
荷発生層用組成物（１）を塗布し、５０℃にて３０分間
乾燥を行ない電荷発生層（１）を形成させた。更に、こ
の電荷発生層（１）の上に、電荷輸送剤Ｔ−１：Ｎ，
Ｎ′−（ジフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′
−ジアミン１．０ｇ、ポリカーボネート（Ｚ−２００、
三菱瓦斯社製）１．０ｇおよびトルエン８．０ｇからな
る電荷輸送層用組成物（１）をワイヤーバー（RK Prin
t-Coat Instrument Ltd.製 KCC Bar No.８）を用
いて塗布し、５０℃にて３０分間乾燥させて電子写真感
光体（１）を作製した。

【００２５】実施例２電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−２）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１
と同様にして電荷発生層用組成物（２）を調製し、それ
を用いて電子写真感光体（２）を製造した。

【００２６】実施例３電荷発生層用組成物の調製において、電子受容性物質と
して上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合物（Ａ
−３）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様
にして電荷発生層用組成物（３）を調製し、それを用い
て電子写真感光体（３）を製造した。

【００２７】実施例４電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−４）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１
と同様にして電荷発生層用組成物（４）を調製し、それ
を用いて電子写真感光体（４）を製造した。

【００２８】実施例５電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりに下記のピロロピロール化合
物Ｐ−２を１．０ｇ使用したこと以外は、実施例１と同
様にして電荷発生層用組成物（５）を調製し、それを用
いて電子写真感光体（５）を製造した。

【００２９】実施例６電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりに下記のピロロピロール化合
物Ｐ−３を１．０ｇ使用したこと以外は、実施例１と同
様にして電荷発生層用組成物（６）を調製し、それを用
いて電子写真感光体（６）を製造した。

【００３０】実施例７電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−５）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１
と同様にして電荷発生層用組成物（７）を調製し、それ
を用いて電子写真感光体（７）を製造した。

【００３１】実施例８電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−６）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１
と同様にして電荷発生層用組成物（８）を調製し、それ
を用いて電子写真感光体（８）を製造した。

【００３２】実施例９電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−７）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１
と同様にして電荷発生層用組成物（９）を調製し、それ
を用いて電子写真感光体（９）を製造した。

【００３３】実施例１０電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−８）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１
と同様にして電荷発生層用組成物（１０）を調製し、そ
れを用いて電子写真感光体（１０）を製造した。

【００３４】実施例１１電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりにピロロピロール化合物Ｐ−
２を１．０ｇ使用し、電子受容性物質として化合物Ａ−
１の代わりに化合物Ａ−７を０．１ｇ使用したこと以外
は、実施例１と同様にして電荷発生層用組成物（１１）
を調製し、それを用いて電子写真感光体（１１）を製造
した。

【００３５】実施例１２電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりにピロロピロール化合物Ｐ−
２を１．０ｇ使用し、電子受容性物質として化合物Ａ−
１の代わりに化合物Ａ−８を０．１ｇ使用したこと以外
は、実施例１と同様にして電荷発生層用組成物（１２）
を調製し、それを用いて電子写真感光体（１２）を製造
した。

【００３６】実施例１３電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりにピロロピロール化合物Ｐ−
３を１．０ｇ使用し、電子受容性物質として化合物Ａ−
１の代わりに化合物Ａ−５を０．１ｇ使用したこと以外
は、実施例１と同様にして電荷発生層用組成物（１２）
を調製し、それを用いて電子写真感光体（１２）を製造
した。

【００３７】実施例１４電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−９）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例１
と同様にして電荷発生層用組成物（１４）を調製し、そ
れを用いて電子写真感光体（１４）を製造した。

【００３８】実施例１５電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−１０）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例
１と同様にして電荷発生層用組成物（１５）を調製し、
それを用いて電子写真感光体（１５）を製造した。

【００３９】実施例１６電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−１１）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例
１と同様にして電荷発生層用組成物（１６）を調製し、
それを用いて電子写真感光体（１６）を製造した。

【００４０】実施例１７電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−１２）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例
１と同様にして電荷発生層用組成物（１７）を調製し、
それを用いて電子写真感光体（１７）を製造した。

【００４１】実施例１８電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりにピロロピロール化合物Ｐ−
２を１．０ｇ使用し、電子受容性物質として化合物Ａ−
１の代わりに下記式の化合物（Ａ−１３）を０．１ｇ使
用したこと以外は、実施例１と同様にして電荷発生層用
組成物（１８）を調製し、それを用いて電子写真感光体
（１８）を製造した。

【００４２】実施例１９電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりにピロロピロール化合物Ｐ−
３を１．０ｇ使用し、電子受容性物質として化合物Ａ−
１の代わりに下記式の化合物（Ａ−１４）を０．１ｇ使
用したこと以外は、実施例１と同様にして電荷発生層用
組成物（１９）を調製し、それを用いて電子写真感光体
（１９）を製造した。

【００４３】実施例２０電荷発生層用組成物（１）の調製において、ピロロピロ
ール化合物Ｐ−１の代わりにピロロピロール化合物Ｐ−
２を１．０ｇ使用し、電子受容性物質として化合物Ａ−
１の代わりに下記式の化合物（Ａ−１５）を０．１ｇ使
用したこと以外は、実施例１と同様にして電荷発生層用
組成物（２０）を調製し、それを用いて電子写真感光体
（２０）を製造した。

【００４４】実施例２１電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−１６）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例
１と同様にして電荷発生層用組成物（２１）を調製し、
それを用いて電子写真感光体（２１）を製造した。

【００４５】実施例２２電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−１７）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例
１と同様にして電荷発生層用組成物（２２）を調製し、
それを用いて電子写真感光体（２２）を製造した。

【００４６】実施例２３電荷発生層用組成物（１）の調製において、電子受容性
物質として上記Ａ−１の化合物の代わりに下記式の化合
物（Ａ−１８）を０．１ｇ使用したこと以外は、実施例
１と同様にして電荷発生層用組成物（２３）を調製し、
それを用いて電子写真感光体（２３）を製造した。

【００４７】比較例Ａ実施例１の電荷発生層用組成物（１）の調製において、
電荷受容性物質Ａ−１を用いなかったこと以外は、実施
例１と同様にして比較用の電荷発生層用組成物（Ａ）を
調製し、比較用の電子写真感光体（Ａ）を製造した。

【００４８】比較例Ｂ実施例５の電荷発生層用組成物（５）の調製において、
電荷受容性物質Ａ−１を用いなかったこと以外は、実施
例５と同様にして比較用の電荷発生層用組成物（Ｂ）を
調製し、比較用の電子写真感光体（Ｂ）を製造した。

【００４９】比較例Ｃ実施例６の電荷発生層用組成物（６）の調製において、
電荷受容性物質Ａ−１を用いなかったこと以外は、実施
例６と同様にして比較用の電荷発生層用組成物（Ｃ）を
調製し、比較用の電子写真感光体（Ｃ）を製造した。

【００５０】

【発明の効果】このようにして得られた電子写真感光体
の電子写真特性を調べるために、静電複写紙試験装置
（ＥＰＡ−８１００、川口電機社製）を用いて、−６．
０ｋＶのコロナ放電を行なうことにより、上記の方法で
作製した電子写真感光体を負に帯電させた。各感光体の
初期表面電位Ｖｓ．ｐ．（Ｖ）を測定するとともに波長
８００ｎｍ（光強度５μＷ／ｃｍ²）の光を照射し、上
記Ｖｓ．ｐ．が１／２になるまでの時間を求め、半減露
光量Ｅ１／２（μＪ／ｃｍ²）を算出した。さらには、
６．０秒露光後の表面電位を残留電位Ｖｒ．ｐ．（Ｖ）
とした。以上の結果を表１に示す。

【表１】表１の結果からわかるように、電子受容性化合物を有す
る電荷発生層からなる本発明の電子写真感光体は、感度
の優れた良好な電子写真特性を示した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電子写真感光体の一例を示す断面模式
図である。

【図２】本発明の電子写真感光体の他の例を示す断面模
式図である。

【図３】本発明の電子写真感光体の別の例を示す断面模
式図である。

【符号の説明】

１導電性支持体２電荷発生層３電荷輸送層４感光層５電荷発生剤６電荷輸送剤を主成分とする電荷輸送層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に、少なくとも電荷発生
剤と電荷輸送剤を含む感光層を有する有機電子写真感光
体において、該感光層中に下記一般式（Ｉ）で表される
ピロロピロール化合物と電子受容性化合物とを含有して
いることを特徴とする電子写真感光体。（式中、Ｒ¹およびＲ²は同一または異なって置換基を
有していてもよいアリール基またはアラルキル基、複素
環基を表し、Ｒ³およびＲ⁴は同一または異なって水素
原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基を表し、Ｘ¹およびＸ²は同一または異なって酸素原
子または硫黄原子を表す。）
【請求項２】電子受容性化合物が下記一般式（II）で
表されるジフェノキノン化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₅〜Ｒ₈は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、ＸおよびＹは同一ま
たは異なって酸素原子，硫黄原子，シアノイミノ基また
はジシアノメチレン基を表す。）
【請求項３】電子受容性化合物が下記一般式（III ）
で表されるパラキノイド化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₁₃〜Ｒ₁₆は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、ＸおよびＹは同一ま
たは異なって酸素原子，硫黄原子，シアノイミノ基また
はジシアノメチレン基を表す。）
【請求項４】電子受容性化合物が下記一般式（IV）で
表されるシアノエチレン化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、ｎは０または１を表す。）
【請求項５】電子受容性化合物が下記一般式（Ｖ）で
表されるオルソキノイド化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₁₇〜Ｒ₂₀は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表す。）
【請求項６】電子受容性化合物が下記一般式（VI）で
表されるフルオレノイド化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₂₁〜Ｒ₂₄は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、Ｘは酸素原子，シア
ノイミノ基またはジシアノメチレン基を表す。）
【請求項７】電子受容性化合物が下記一般式（ＶII）
で表されるアントラキノイド化合物であることを特徴と
する請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₂₅〜Ｒ₃₂は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、ＸおよびＹは同一ま
たは異なって酸素原子，シアノイミノ基またはジシアノ
メチレン基を表す。）
【請求項８】電子受容性化合物が下記一般式（VIII）
で表されるナフトキノイド化合物であることを特徴とす
る請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₃₃〜Ｒ₃₆は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、ＸおよびＹは同一ま
たは異なって酸素原子，シアノイミノ基またはジシアノ
メチレン基を表す。）
【請求項９】電子受容性化合物が下記一般式（IX）で
表されるベンゾフェノン誘導体であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₃₇〜Ｒ₄₀は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、Ｘは酸素原子，シア
ノイミノ基またはジシアノメチレン基を表す。）
【請求項１０】電子受容性化合物が下記一般式（Ｘ）
で表されるカルボニル化合物であることを特徴とする請
求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、ｎは０または１を表し、ｍは１または２を表
し、Ｒ₉〜Ｒ₁₂は同一または異なって水素原子，メチル
基，エチル基，tert-ブチル基，ニトロ基，シアノ基，
弗素原子，塩素原子，臭素原子または沃素原子を表
す。）
【請求項１１】電子受容性化合物が下記一般式（XI）
で表されるパラフェニレン化合物であることを特徴とす
る請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₄₁〜Ｒ₄₅は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子，ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、Ｘは酸素原子，シア
ノイミノ基またはジシアノメチレン基を表す。）
【請求項１２】電子受容性化合物が下記一般式（ＸI
I）で表されるキノイド化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、ＸおよびＹは同一または異なって酸素原子，シ
アノイミノ基またはジシアノメチレン基を表し、Ａは酸
素原子，硫黄原子またはセレン原子を表す。）
【請求項１３】電子受容性化合物が下記一般式（XII
I）で表されるキノイド化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₄₆〜Ｒ₄₉は同一または異なって水素原子，メ
チル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，塩素原
子，臭素原子，沃素原子ニトロ基，シアノ基，フェニ
ル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニル基ま
たはエトキシカルボニル基を表し、ＸおよびＹは同一ま
たは異なって酸素原子，硫黄原子，シアノイミノ基また
はジシアノメチレン基を表す。）
【請求項１４】電子受容性化合物が下記一般式（XIV
）で表されるキノイド化合物であることを特徴とする
請求項第１項記載の電子写真感光体。（式中、Ｒ₅₀およびＲ₅₁は同一または異なって水素原
子，メチル基，エチル基，tert- ブチル基，弗素原子，
塩素原子，臭素原子，沃素原子ニトロ基，シアノ基，
フェニル基，トリフルオロメチル基，メトキシカルボニ
ル基またはエトキシカルボニル基を表し、ＸおよびＹは
同一または異なって酸素原子，硫黄原子，シアノイミノ
基またはジシアノメチレン基を表し、Ａは酸素原子，硫
黄原子またはセレン原子を表す。）