JPH05139862A - 透光性セラミツクスの製造方法 - Google Patents
透光性セラミツクスの製造方法Info
- Publication number
- JPH05139862A JPH05139862A JP3334446A JP33444691A JPH05139862A JP H05139862 A JPH05139862 A JP H05139862A JP 3334446 A JP3334446 A JP 3334446A JP 33444691 A JP33444691 A JP 33444691A JP H05139862 A JPH05139862 A JP H05139862A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- light transmitting
- binder
- composition
- ceramics
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 製造が容易で比較的低コストで、透光性が高
くて均一な透光性のセラミックスを製造する方法を提供
することを目的とする。 【構成】 Ｐｂ1-x Ｌａx （Ｚｒy Ｔｉz ）Ｏ3 で表さ
れる組成の化合物の粉体を水熱合成により合成し、該粉
体にバインダーを加えて成形し、所定の形状とすること
を特徴とする。
くて均一な透光性のセラミックスを製造する方法を提供
することを目的とする。 【構成】 Ｐｂ1-x Ｌａx （Ｚｒy Ｔｉz ）Ｏ3 で表さ
れる組成の化合物の粉体を水熱合成により合成し、該粉
体にバインダーを加えて成形し、所定の形状とすること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、センサー、光シャッタ
等に用いる透明なセラミックスの製造方法に関し、例え
ば、透光性をよくしたＰＬＺＴ系粉末からなる透光性セ
ラミックスの製造方法に関する。
等に用いる透明なセラミックスの製造方法に関し、例え
ば、透光性をよくしたＰＬＺＴ系粉末からなる透光性セ
ラミックスの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、透光性のセラミックスの製造
方法としては、各種の製造方法が用いられている。例え
ば、（Ｐｂ1-x Ｌａx ）（Ｚｒy Ｔｉz ）Ｏ3 （ＰＬＺ
Ｔx/y/z ）の組成で表される透光性セラミックス、例え
ば、ＰＬＺＴ12/70/30、ＰＬＺＴ12/40/60、ＰＬＺＴ
8/65/35等の組成になるように、ＰｂＯ2 ，ＴｉＯ2 ，
Ｚｒ2 Ｏ3 ，Ｌａ2 Ｏ3 の粉末を秤量して混合し、８０
０〜１１００℃で仮焼し、粗粉砕して仮焼粉末を得、こ
の仮焼粉末を湿式微粉砕する。次いで、この微粉にバイ
ンダを加えて造粒し、加圧成形してユニットを形成し、
このユニットを酸素雰囲気中で１１００〜１３００℃で
焼成し、さらに必要に応じて所要の加工をして透光性の
ＰＬＺＴ系セラミックスを製造する方法がある。また、
共沈法やアルコキシド法等の化学合成法で上記の組成で
表される組成の粉末等、所定の組成の合成粉末を生成
し、この合成粉末を８００〜１１００℃で仮焼し、上記
微粉の造粒成形と同様に、仮焼粉末にバインダを加えて
造粒し、加圧成形してユニットを形成し、このユニット
を１１００〜１３００℃で焼成し、さらに必要に応じて
所要の加工をして透光性のセラミックスを製造する方法
がある。また、上記のようにして仮焼して得た仮焼粉
末、又は合成粉末をホットプレスで成形焼成する成形及
び焼成法からなる透光性のセラミックスを製造する方法
がある。
方法としては、各種の製造方法が用いられている。例え
ば、（Ｐｂ1-x Ｌａx ）（Ｚｒy Ｔｉz ）Ｏ3 （ＰＬＺ
Ｔx/y/z ）の組成で表される透光性セラミックス、例え
ば、ＰＬＺＴ12/70/30、ＰＬＺＴ12/40/60、ＰＬＺＴ
8/65/35等の組成になるように、ＰｂＯ2 ，ＴｉＯ2 ，
Ｚｒ2 Ｏ3 ，Ｌａ2 Ｏ3 の粉末を秤量して混合し、８０
０〜１１００℃で仮焼し、粗粉砕して仮焼粉末を得、こ
の仮焼粉末を湿式微粉砕する。次いで、この微粉にバイ
ンダを加えて造粒し、加圧成形してユニットを形成し、
このユニットを酸素雰囲気中で１１００〜１３００℃で
焼成し、さらに必要に応じて所要の加工をして透光性の
ＰＬＺＴ系セラミックスを製造する方法がある。また、
共沈法やアルコキシド法等の化学合成法で上記の組成で
表される組成の粉末等、所定の組成の合成粉末を生成
し、この合成粉末を８００〜１１００℃で仮焼し、上記
微粉の造粒成形と同様に、仮焼粉末にバインダを加えて
造粒し、加圧成形してユニットを形成し、このユニット
を１１００〜１３００℃で焼成し、さらに必要に応じて
所要の加工をして透光性のセラミックスを製造する方法
がある。また、上記のようにして仮焼して得た仮焼粉
末、又は合成粉末をホットプレスで成形焼成する成形及
び焼成法からなる透光性のセラミックスを製造する方法
がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の透光性のセ
ラミックス粉の製造方法による粉末は、原料の均一度が
悪く、又原料の比表面積が大きく、成形に多量のバイン
ダーを使用するため、焼成した成形品に気孔が多く残
り、透光性が低く、製品の透光性の均一度が悪く、使用
上光源を強くしなければならなかった。また、焼成方法
においても、前者のような雰囲気焼成では、長時間焼成
と微妙な雰囲気の調整が必要で、均一な透光性セラミッ
クスの製品を得るのが困難であった。また、後者のよう
なホットプレス法で成形焼成する方法では、得られる透
光性のセラミックスの形状が限られるとともに大量生産
に限界があった。
ラミックス粉の製造方法による粉末は、原料の均一度が
悪く、又原料の比表面積が大きく、成形に多量のバイン
ダーを使用するため、焼成した成形品に気孔が多く残
り、透光性が低く、製品の透光性の均一度が悪く、使用
上光源を強くしなければならなかった。また、焼成方法
においても、前者のような雰囲気焼成では、長時間焼成
と微妙な雰囲気の調整が必要で、均一な透光性セラミッ
クスの製品を得るのが困難であった。また、後者のよう
なホットプレス法で成形焼成する方法では、得られる透
光性のセラミックスの形状が限られるとともに大量生産
に限界があった。
【０００４】本発明は、上記従来技術の有する事情に鑑
みてなされたもので、製造が容易で比較的低コストで、
透光性が高くて均一な透光性のセラミックスを製造する
方法を提供することを目的としている。
みてなされたもので、製造が容易で比較的低コストで、
透光性が高くて均一な透光性のセラミックスを製造する
方法を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明による透光性のセ
ラミックスを製造する方法は、透光性のＰｂ1-x Ｌａx
（Ｚｒy Ｔｉz ）Ｏ3 で表される組成の化合物の粉体を
水熱合成により合成し、該粉体にバインダーを加えて成
形し、所定の形状とすることを特徴とする。前記の透光
性セラミクスの製造方法において、水熱合成により合成
した化合物の粉体を微粉砕し、該微粉砕により得た微粉
にバインダーを加えて成形し、所定の形状とする。さら
に、前記の透光性セラミクスの製造方法において、前記
成形を鋳込み成形により行う。水熱合成に用いるＰｂ，
Ｌａ，Ｚｒ，Ｔｉの原料としては、例えば、ＰｂＯ、Ｌ
ａ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 等の酸化物、水酸化物、
塩化物、アルコキシド等が挙げられ、熱水としては、
水、水溶液が用いられる。透光性セラミクスの組成は、
要求される特性によって変えることができ、ｘ／ｙ／ｚ
は、例えば、１２／３０／７０，１２／４０／６０，１
１／６５／３５，１０／６５／３５，９／６５／３５，
８／４０／６０，８／６５／３４，７／６２／３８及び
その他の組成のＰＬＺＴ系セラミックス又は比表面積が
大きくなると透光性が悪化するアルミナ系セラミックス
等が挙げられる。
ラミックスを製造する方法は、透光性のＰｂ1-x Ｌａx
（Ｚｒy Ｔｉz ）Ｏ3 で表される組成の化合物の粉体を
水熱合成により合成し、該粉体にバインダーを加えて成
形し、所定の形状とすることを特徴とする。前記の透光
性セラミクスの製造方法において、水熱合成により合成
した化合物の粉体を微粉砕し、該微粉砕により得た微粉
にバインダーを加えて成形し、所定の形状とする。さら
に、前記の透光性セラミクスの製造方法において、前記
成形を鋳込み成形により行う。水熱合成に用いるＰｂ，
Ｌａ，Ｚｒ，Ｔｉの原料としては、例えば、ＰｂＯ、Ｌ
ａ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 等の酸化物、水酸化物、
塩化物、アルコキシド等が挙げられ、熱水としては、
水、水溶液が用いられる。透光性セラミクスの組成は、
要求される特性によって変えることができ、ｘ／ｙ／ｚ
は、例えば、１２／３０／７０，１２／４０／６０，１
１／６５／３５，１０／６５／３５，９／６５／３５，
８／４０／６０，８／６５／３４，７／６２／３８及び
その他の組成のＰＬＺＴ系セラミックス又は比表面積が
大きくなると透光性が悪化するアルミナ系セラミックス
等が挙げられる。
【０００６】
【作用】本発明は、Ｐｂ1-x Ｌａx （Ｚｒy Ｔｉz ）Ｏ
3 で表される組成の化合物の粉体を水熱合成により合成
し、この粉体を成形するので、製造工程が簡単であり、
原料の組成が均一になり透光性が高くなるとともに原料
の比表面積が小さくなり、成形に多量のバインダーを使
用しなくてよくなり、焼成した成形品の気孔が少なくな
り、製品の均一度もよく透光性が高くなる。
3 で表される組成の化合物の粉体を水熱合成により合成
し、この粉体を成形するので、製造工程が簡単であり、
原料の組成が均一になり透光性が高くなるとともに原料
の比表面積が小さくなり、成形に多量のバインダーを使
用しなくてよくなり、焼成した成形品の気孔が少なくな
り、製品の均一度もよく透光性が高くなる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。先ず、Ｐ
ｂ0.88Ｌａ0.12（Ｚｒ0.70Ｔｉ0.30）0.97Ｏ3 で表され
る組成となるように、ＰｂにＰｂ（ＮＯ3 ）2 、Ｌａに
Ｌａ（ＮＯ3 ）3 ・６Ｈ2Ｏ、ＺｒにＺｒＯＣｌ2 ・８
Ｈ2 Ｏ、ＴｉにＴｉＣｌ4 をそれぞれ用い、所定のＰＬ
ＺＴ組成となるように調整する。ＮａＯＨ５規定、上記
ＰＬＺＴ１規定の溶液を作り、オートクレーブ中に入
れ、１００℃〜２００℃に加熱する。圧力はそのときの
飽和蒸気圧である。２〜５時間反応させることで、０．
５μｍ〜１μｍ角の水熱合成原料が得られる。続いて、
この粉体に０．５wt％のアクリル系のバインダー、０．
５wt％のカルボン酸アンモニウム系の分散剤、４０wt％
の水を加え、スラリーを作り、図１に示すように、鋳込
み成形を行った。この鋳込み成形の鋳型１は、多孔質樹
脂の台２と、この台２の表面に拡げられたろ布３と、こ
のろ布３の表面の周囲を囲った抜き型４とから構成して
いる。そして、ろ布３上にスラリーを供給し、脱水して
成形体を形成した。成形後、アルミナの匣の中にこの成
形体を入れ、脱バインダーを行った後、大気雰囲気中で
１１００〜１２５０℃で２０〜１００時間保持すること
で焼成し、直径２cm×厚み2mm の円板を得た。この円板
を両面鏡面研磨して透光性セラミックス板を得、透光性
の測定を行った。
ｂ0.88Ｌａ0.12（Ｚｒ0.70Ｔｉ0.30）0.97Ｏ3 で表され
る組成となるように、ＰｂにＰｂ（ＮＯ3 ）2 、Ｌａに
Ｌａ（ＮＯ3 ）3 ・６Ｈ2Ｏ、ＺｒにＺｒＯＣｌ2 ・８
Ｈ2 Ｏ、ＴｉにＴｉＣｌ4 をそれぞれ用い、所定のＰＬ
ＺＴ組成となるように調整する。ＮａＯＨ５規定、上記
ＰＬＺＴ１規定の溶液を作り、オートクレーブ中に入
れ、１００℃〜２００℃に加熱する。圧力はそのときの
飽和蒸気圧である。２〜５時間反応させることで、０．
５μｍ〜１μｍ角の水熱合成原料が得られる。続いて、
この粉体に０．５wt％のアクリル系のバインダー、０．
５wt％のカルボン酸アンモニウム系の分散剤、４０wt％
の水を加え、スラリーを作り、図１に示すように、鋳込
み成形を行った。この鋳込み成形の鋳型１は、多孔質樹
脂の台２と、この台２の表面に拡げられたろ布３と、こ
のろ布３の表面の周囲を囲った抜き型４とから構成して
いる。そして、ろ布３上にスラリーを供給し、脱水して
成形体を形成した。成形後、アルミナの匣の中にこの成
形体を入れ、脱バインダーを行った後、大気雰囲気中で
１１００〜１２５０℃で２０〜１００時間保持すること
で焼成し、直径２cm×厚み2mm の円板を得た。この円板
を両面鏡面研磨して透光性セラミックス板を得、透光性
の測定を行った。
【０００８】比較のため酸化物原料を出発原料として通
常の湿式混合、粉砕、仮焼（９００℃ ２時間）した
後、粉砕して得た粉末を用いて鋳込み成形を行い、円板
を得た。この円板を上記条件で焼成して両面鏡面研磨し
て透光性の測定を行った。その結果は、次に示すように
なった。
常の湿式混合、粉砕、仮焼（９００℃ ２時間）した
後、粉砕して得た粉末を用いて鋳込み成形を行い、円板
を得た。この円板を上記条件で焼成して両面鏡面研磨し
て透光性の測定を行った。その結果は、次に示すように
なった。
【０００９】また、上記スラリーの作成において、水熱
合成により得た粉体を９００℃で２時間仮焼した後、粉
砕して得た粉末では、バインダーが０．５wt％、分散剤
が０．５wt％の添加に対して、水が１５wt％で良好なス
ラリーとなった。これを前記本実施例による粉末原料と
同様にして鋳込み成形し、焼成して透光性を調べたが、
透光度が６００nmの波長の光に対して６９％となり、上
記の実施例の結果の７０％と大差なかった。
合成により得た粉体を９００℃で２時間仮焼した後、粉
砕して得た粉末では、バインダーが０．５wt％、分散剤
が０．５wt％の添加に対して、水が１５wt％で良好なス
ラリーとなった。これを前記本実施例による粉末原料と
同様にして鋳込み成形し、焼成して透光性を調べたが、
透光度が６００nmの波長の光に対して６９％となり、上
記の実施例の結果の７０％と大差なかった。
【００１０】上記実施例のように、水熱合成法により得
たＰＬＺＴ系の微細な、均一な粉体を量産可能な鋳型込
み成形により成形し、大気中雰囲気で焼成しても透光性
の高い均一な透光性セラミックスが得られた。なお、上
記実施例において、ＰＬＺＴ12/70/30を酸化物から合成
する例について説明したが、他の組成についても同様で
ある。また、鋳込み成形についても、必要とする透光性
セラミックスの形状により異なる形状の鋳型を用いて鋳
込み成形することはもちろんである。その他、本発明
は、上記実施例に限定されずその要旨を変更しない範囲
で、変更、修正して実施することができる。
たＰＬＺＴ系の微細な、均一な粉体を量産可能な鋳型込
み成形により成形し、大気中雰囲気で焼成しても透光性
の高い均一な透光性セラミックスが得られた。なお、上
記実施例において、ＰＬＺＴ12/70/30を酸化物から合成
する例について説明したが、他の組成についても同様で
ある。また、鋳込み成形についても、必要とする透光性
セラミックスの形状により異なる形状の鋳型を用いて鋳
込み成形することはもちろんである。その他、本発明
は、上記実施例に限定されずその要旨を変更しない範囲
で、変更、修正して実施することができる。
【００１１】
【発明の効果】本発明の透光性セラミクスの製造方法よ
れば、水熱合成法により粉体原料を合成し、この粉体原
料を成形するので、製造工程が簡単である。原料粉は微
細で組成が均一であり、透光性が高くなるとともに比表
面積が小さくなって均一度がよく、成形に多量のバイン
ダーを使用しなくてよくなり、焼成した成形品の気孔が
少なくなり、透光性が高くて均一度のよい透光性セラミ
クスの製品が得られる。
れば、水熱合成法により粉体原料を合成し、この粉体原
料を成形するので、製造工程が簡単である。原料粉は微
細で組成が均一であり、透光性が高くなるとともに比表
面積が小さくなって均一度がよく、成形に多量のバイン
ダーを使用しなくてよくなり、焼成した成形品の気孔が
少なくなり、透光性が高くて均一度のよい透光性セラミ
クスの製品が得られる。
【図１】本発明に係る透光性セラミックスの製造工程の
うち鋳込み成形を説明する図である。
うち鋳込み成形を説明する図である。
１ 鋳型 ３ ろ布
Claims (3)
- 【請求項１】 透光性のＰｂ1-x Ｌａx （Ｚｒy Ｔ
ｉz ）Ｏ3 で表される組成の化合物の粉体を水熱合成に
より合成し、該粉体にバインダーを加えて成形し、所定
の形状とすることを特徴とする透光性セラミックスの製
造方法。 - 【請求項２】 前記請求項１の透光性セラミックスの製
造方法において、水熱合成により合成した化合物の粉体
を微粉砕し、該微粉砕により得た微粉にバインダーを加
えて成形し、所定の形状とすることを特徴とする透光性
セラミックスの製造方法。 - 【請求項３】 前記請求項１又は請求項２の透光性セラ
ミックスの製造方法において、前記成形を鋳込み成形に
より行うことを特徴とする透光性セラミックスの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3334446A JPH05139862A (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 透光性セラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3334446A JPH05139862A (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 透光性セラミツクスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05139862A true JPH05139862A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=18277479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3334446A Pending JPH05139862A (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 透光性セラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05139862A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740262B2 (en) | 2000-05-09 | 2004-05-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light-transmitting sintered body, light-emitting tube and electric discharge lamp using same |
| US7691765B2 (en) | 2005-03-31 | 2010-04-06 | Fujifilm Corporation | Translucent material and manufacturing method of the same |
-
1991
- 1991-11-21 JP JP3334446A patent/JPH05139862A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740262B2 (en) | 2000-05-09 | 2004-05-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light-transmitting sintered body, light-emitting tube and electric discharge lamp using same |
| US7691765B2 (en) | 2005-03-31 | 2010-04-06 | Fujifilm Corporation | Translucent material and manufacturing method of the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20230129196A (ko) | 투광성 지르코니아 소결체 및 지르코니아 분말, 그리고 그의 용도 | |
| JP2007031219A (ja) | チタン酸ビスマスナトリウム−ジルコニウムチタン酸バリウム系無鉛圧電セラミック及びその製造方法 | |
| JPH0225864B2 (ja) | ||
| JPH05139862A (ja) | 透光性セラミツクスの製造方法 | |
| WO2021215419A1 (ja) | 焼結体及びその製造方法 | |
| JP2003327470A (ja) | ＭｇＯ−ＳｉＯ２系酸化物粉末及びそれを原料とした磁器焼結体 | |
| WO2023145766A1 (ja) | 粉末及びその製造方法 | |
| JPH0818874B2 (ja) | Ｐｌｚｔ透明セラミックスの製造法 | |
| JP2006265055A (ja) | 圧電セラミックスの製造方法 | |
| JPS63103864A (ja) | 部分安定化された酸化ジルコニウムからなる焼結成形体およびその製造法 | |
| JPH06211569A (ja) | 透光性アルミナ質焼結体及びその製造方法 | |
| JP3873621B2 (ja) | ロッドレンズ | |
| JP2000159570A (ja) | 緻密なコーディエライト焼結体の製造方法 | |
| JPS63222064A (ja) | 誘電体磁器組成物の製造方法 | |
| JP2586609B2 (ja) | 微細α−アルミナ粉末の製造方法 | |
| JPH05139825A (ja) | チタン酸鉛系圧電磁器の製造方法 | |
| KR100358048B1 (ko) | 압전 세라믹스 제조방법 | |
| JP2616772B2 (ja) | プロトン導電性セラミックスの製造方法 | |
| JP2841344B2 (ja) | 圧電体セラミックス組成物 | |
| JP2870996B2 (ja) | フェライト研磨粉の再生方法 | |
| JP2581841B2 (ja) | 多孔質ｐｚｔセラミックスの製造方法 | |
| JP2506368B2 (ja) | アルミナ系セラミックスの製造方法 | |
| JPH0818867B2 (ja) | ジルコニウムを含むペロブスカイトセラミツクスの製造方法 | |
| JPH069281A (ja) | 多孔質ｐｚｔセラミックス成形体の製造方法及び水中音響受波器の製造方法 | |
| JPH06116024A (ja) | ビスマス層状化合物の製造方法 |