JPH05128488A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH05128488A JPH05128488A JP31017291A JP31017291A JPH05128488A JP H05128488 A JPH05128488 A JP H05128488A JP 31017291 A JP31017291 A JP 31017291A JP 31017291 A JP31017291 A JP 31017291A JP H05128488 A JPH05128488 A JP H05128488A
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- JP
- Japan
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- layer
- magnetic
- recording medium
- polyethylene terephthalate
- polyethylene naphthalate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁性層の酸化による特性劣化が防止されると
ともに、テープ切れが生じ難い磁気記録媒体を提供す
る。 【構成】 非磁性支持体上に磁性塗料の塗膜、或いは真
空薄膜形成技術により成膜される金属磁性薄膜からなる
磁性層３が形成されてなる磁気記録媒体において、上記
非磁性支持体をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
層１とポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）層２との積
層構造とし、これらＰＥＴ層１とＰＥＮ層２の膜厚の比
率が２０：１〜１：１となるように設定する。
ともに、テープ切れが生じ難い磁気記録媒体を提供す
る。 【構成】 非磁性支持体上に磁性塗料の塗膜、或いは真
空薄膜形成技術により成膜される金属磁性薄膜からなる
磁性層３が形成されてなる磁気記録媒体において、上記
非磁性支持体をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
層１とポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）層２との積
層構造とし、これらＰＥＴ層１とＰＥＮ層２の膜厚の比
率が２０：１〜１：１となるように設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非磁性支持体としてポ
リエステルフィルムが用いられた磁気記録媒体に関す
る。
リエステルフィルムが用いられた磁気記録媒体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、例えばビデオテープレコーダ（Ｖ
ＴＲ）等においては、高画質化等を図るために、より一
層の高記録密度化が要請されている。この高記録密度化
に伴い、従来より磁性中に鉄又は鉄を主体とする金属磁
性粉末を含有した所謂メタルテープや、金属或いはＣｏ
−Ｎｉ等の合金からなる磁性材料をメッキや真空薄膜形
成技術（真空蒸着法，スパッタリング法．イオンプレー
ティング法等）により直接非磁性支持体上に被着して金
属磁性薄膜を形成した、所謂蒸着テープが使用されてい
る。
ＴＲ）等においては、高画質化等を図るために、より一
層の高記録密度化が要請されている。この高記録密度化
に伴い、従来より磁性中に鉄又は鉄を主体とする金属磁
性粉末を含有した所謂メタルテープや、金属或いはＣｏ
−Ｎｉ等の合金からなる磁性材料をメッキや真空薄膜形
成技術（真空蒸着法，スパッタリング法．イオンプレー
ティング法等）により直接非磁性支持体上に被着して金
属磁性薄膜を形成した、所謂蒸着テープが使用されてい
る。
【０００３】これらメタルテープや蒸着テープにおい
て、上記非磁性支持体としてはポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（ＰＥＴ）が一般に使用されているが、最
近、ポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮ）の採
用も検討されている。ポリエチレンナフタレート樹脂
は、分子鎖中にベンゼン環よりも剛直なナフタレン環を
有しているために、ポリエチレンテレフタレート樹脂に
比べて優れた機械的特性を有している。このため、ポリ
エチレンナフタレートフィルムは、剛性が高い分その肉
厚を薄くすることができ、磁気テープの長尺化に有利で
ある。従って、このポリエチレンナフタレートフィルム
を非磁性支持体として用いることにより、長時間化に好
適な磁気記録媒体を得ることが可能となる。
て、上記非磁性支持体としてはポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（ＰＥＴ）が一般に使用されているが、最
近、ポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮ）の採
用も検討されている。ポリエチレンナフタレート樹脂
は、分子鎖中にベンゼン環よりも剛直なナフタレン環を
有しているために、ポリエチレンテレフタレート樹脂に
比べて優れた機械的特性を有している。このため、ポリ
エチレンナフタレートフィルムは、剛性が高い分その肉
厚を薄くすることができ、磁気テープの長尺化に有利で
ある。従って、このポリエチレンナフタレートフィルム
を非磁性支持体として用いることにより、長時間化に好
適な磁気記録媒体を得ることが可能となる。
【０００４】また、上記ポリエチレンナフタレートフィ
ルムは、低酸素透過性，低水蒸気透過性を有している。
従って、このポリエチレンナフタレートフィルム上に磁
性層を形成した場合には、この磁性層への酸素や水蒸気
の侵入が抑えられ、磁性層の酸化による飽和磁化等の磁
気特性の経時的劣化が防止されて、良好な耐蝕性を得る
ことができる。
ルムは、低酸素透過性，低水蒸気透過性を有している。
従って、このポリエチレンナフタレートフィルム上に磁
性層を形成した場合には、この磁性層への酸素や水蒸気
の侵入が抑えられ、磁性層の酸化による飽和磁化等の磁
気特性の経時的劣化が防止されて、良好な耐蝕性を得る
ことができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
にポリエチレンナフタレートフィルムを非磁性支持体材
料として用いた場合、ヤング率は向上するものの、テー
プ端面にキズ等が存在していると、従来のポリエチレン
テレフタレートフィルムよりもテープ切れが生じ易いと
いう欠点がある。
にポリエチレンナフタレートフィルムを非磁性支持体材
料として用いた場合、ヤング率は向上するものの、テー
プ端面にキズ等が存在していると、従来のポリエチレン
テレフタレートフィルムよりもテープ切れが生じ易いと
いう欠点がある。
【０００６】そこで、本発明はこのような実情に鑑みて
提案されたものであって、磁性層の酸化による特性劣化
を防止しつつ、十分な実用性を得ることが可能な磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
提案されたものであって、磁性層の酸化による特性劣化
を防止しつつ、十分な実用性を得ることが可能な磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上述の目
的を達成せんものと鋭意研究の結果、非磁性支持体材料
としてポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナフ
タレートとを組み合わせて用いることにより、これら両
者の特性をいかして良好な耐蝕性を有し、且つテープ切
れが起こりにくい磁気記録媒体を得ることができること
を見出し、本発明を完成するに至ったものである。
的を達成せんものと鋭意研究の結果、非磁性支持体材料
としてポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナフ
タレートとを組み合わせて用いることにより、これら両
者の特性をいかして良好な耐蝕性を有し、且つテープ切
れが起こりにくい磁気記録媒体を得ることができること
を見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【０００８】即ち、本発明は非磁性支持体上に金属磁性
粉末と結合剤とを主体とする磁性層が形成されてなる磁
気記録媒体において、前記非磁性支持体がポリエチレン
テレフタレート層とポリエチレンナフタレート層から構
成され、上記ポリエチレンテレフタレート層の膜厚と上
記ポリエチレンナフタレート層の膜厚の比率が２０：１
〜１：１とされてなることを特徴とするものである。
粉末と結合剤とを主体とする磁性層が形成されてなる磁
気記録媒体において、前記非磁性支持体がポリエチレン
テレフタレート層とポリエチレンナフタレート層から構
成され、上記ポリエチレンテレフタレート層の膜厚と上
記ポリエチレンナフタレート層の膜厚の比率が２０：１
〜１：１とされてなることを特徴とするものである。
【０００９】また、本発明は上記非磁性支持体を磁性層
が真空薄膜形成技術により形成されてなる磁気記録媒体
においても同様に用いたことを特徴とするものである。
が真空薄膜形成技術により形成されてなる磁気記録媒体
においても同様に用いたことを特徴とするものである。
【００１０】本発明は、磁性材料として磁性層中に金属
磁性粉末を含んだ塗布型の磁気記録媒体に適用されても
良く、真空薄膜形成技術により磁性層とされる金属磁性
薄膜が形成されてなる蒸着型の磁気記録媒体に適用され
ても良い。上記塗布型の磁気記録媒体において、使用さ
れる金属磁性粉末としては、従来より公知のものがいず
れも使用可能であって、例示するならば、Ｆｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃ
ｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂ，Ｍ
ｎ−Ｂｉ，Ｍｎ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ等であり、更
に、これらの種々の特性を改善する目的でＡｌ，Ｓｉ，
Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｍｇ，Ｐ等の元素が添
加されたものであっても良い。
磁性粉末を含んだ塗布型の磁気記録媒体に適用されても
良く、真空薄膜形成技術により磁性層とされる金属磁性
薄膜が形成されてなる蒸着型の磁気記録媒体に適用され
ても良い。上記塗布型の磁気記録媒体において、使用さ
れる金属磁性粉末としては、従来より公知のものがいず
れも使用可能であって、例示するならば、Ｆｅ，Ｃｏ，
Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃ
ｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂ，Ｍ
ｎ−Ｂｉ，Ｍｎ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ等であり、更
に、これらの種々の特性を改善する目的でＡｌ，Ｓｉ，
Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｍｇ，Ｐ等の元素が添
加されたものであっても良い。
【００１１】このような金属磁性粉末の比表面積は、高
密度記録、短波長記録等を考慮して４０ｍ2 ／ｇ以上で
あることが好ましい。
密度記録、短波長記録等を考慮して４０ｍ2 ／ｇ以上で
あることが好ましい。
【００１２】また、結合剤としては、通常磁気記録媒体
の結合剤として使用されるのものであればよく、例えば
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
アクリル酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイ
ン酸−アクリル酸共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース樹脂
等のセルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセ
タール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネ
ートポリウレタン樹脂等がいずれも使用可能である。
の結合剤として使用されるのものであればよく、例えば
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
アクリル酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイ
ン酸−アクリル酸共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース樹脂
等のセルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセ
タール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネ
ートポリウレタン樹脂等がいずれも使用可能である。
【００１３】これら金属磁性粉末や結合剤は、所定の有
機溶剤に溶解されて磁性塗料とされる。そして、この磁
性塗料を非磁性支持体の表面に塗布することで、その塗
膜が磁性層として形成される。また、上記磁性塗料に
は、必要に応じて分散剤，潤滑剤，帯電防止剤，防錆剤
等が加えられてもよい。これらの分散剤，潤滑剤，帯電
防止剤，防錆剤及び前記非磁性支持体としては、従来公
知の材料がいずれも使用可能であり、何ら限定されるも
のではない。
機溶剤に溶解されて磁性塗料とされる。そして、この磁
性塗料を非磁性支持体の表面に塗布することで、その塗
膜が磁性層として形成される。また、上記磁性塗料に
は、必要に応じて分散剤，潤滑剤，帯電防止剤，防錆剤
等が加えられてもよい。これらの分散剤，潤滑剤，帯電
防止剤，防錆剤及び前記非磁性支持体としては、従来公
知の材料がいずれも使用可能であり、何ら限定されるも
のではない。
【００１４】一方、蒸着型の磁気記録媒体において、磁
性層は真空薄膜形成技術により成膜されるが、この真空
薄膜形成技術としては、真空蒸着法，スパッタリング
法．イオンプレーティング法等が挙げられる。本発明で
は、これら磁性層を塗布形成、或いは被着形成ならしめ
るための非磁性支持体の構成材料として、ポリエチレン
テレフタレート層とポリエチレンナフタレート層を組み
合わせて使用する。
性層は真空薄膜形成技術により成膜されるが、この真空
薄膜形成技術としては、真空蒸着法，スパッタリング
法．イオンプレーティング法等が挙げられる。本発明で
は、これら磁性層を塗布形成、或いは被着形成ならしめ
るための非磁性支持体の構成材料として、ポリエチレン
テレフタレート層とポリエチレンナフタレート層を組み
合わせて使用する。
【００１５】ここで、上記ポリエチレンテレフタレート
層とは、層中の７０％以上の成分がポリエチレンテレフ
タレートで占められているものとし、ポリエチレンナフ
タレート層とは、層中の７０％以上の成分がポリエチレ
ン−２，３−ナフタレートで占められているものとす
る。
層とは、層中の７０％以上の成分がポリエチレンテレフ
タレートで占められているものとし、ポリエチレンナフ
タレート層とは、層中の７０％以上の成分がポリエチレ
ン−２，３−ナフタレートで占められているものとす
る。
【００１６】上記ポリエチレンテレフタレート層は、引
裂伝播抵抗値が高く、テープ切れを起こし難い性質を有
する。また、上記ポリエチレンナフタレート層は、酸素
透過性，水蒸気透過性が低く、このポリエチレンナフタ
レート層上に磁性層を形成すれば、上記磁性層への酸素
や水蒸気の侵入が抑えられる。従って、これらポリエチ
レンテレフタレート層とポリエチレンナフタレート層を
積層させて非磁性支持体として使用することにより、こ
れら両者の特性をいかして磁性層の酸化を防止するとと
もに、テープ切れを起こりにくくすることができる。
裂伝播抵抗値が高く、テープ切れを起こし難い性質を有
する。また、上記ポリエチレンナフタレート層は、酸素
透過性，水蒸気透過性が低く、このポリエチレンナフタ
レート層上に磁性層を形成すれば、上記磁性層への酸素
や水蒸気の侵入が抑えられる。従って、これらポリエチ
レンテレフタレート層とポリエチレンナフタレート層を
積層させて非磁性支持体として使用することにより、こ
れら両者の特性をいかして磁性層の酸化を防止するとと
もに、テープ切れを起こりにくくすることができる。
【００１７】これらポリエチレンテレフタレート層とポ
リエチレンナフタレート層を積層形成するに際し、その
積層パターンは特に限定されない。即ち、図１及び図２
に示すように、上記ポリエチレンテレフタレート層１及
びポリエチレンナフタレート層２がともに１層づつ積層
された２層構造であってもよく、図３及び図４に示すよ
うに、各層１，２が交互に配されるように３層以上積層
された多層構造であってもよい。何れの場合において
も、その積層順は問わず、どちらの層が磁性層３側（又
はバックコート層４側）に配されても良い。
リエチレンナフタレート層を積層形成するに際し、その
積層パターンは特に限定されない。即ち、図１及び図２
に示すように、上記ポリエチレンテレフタレート層１及
びポリエチレンナフタレート層２がともに１層づつ積層
された２層構造であってもよく、図３及び図４に示すよ
うに、各層１，２が交互に配されるように３層以上積層
された多層構造であってもよい。何れの場合において
も、その積層順は問わず、どちらの層が磁性層３側（又
はバックコート層４側）に配されても良い。
【００１８】但しこの時、上記ポリエチレンテレフタレ
ート層の膜厚と上記ポリエチレンナフタレート層の膜厚
の比率が２０：１〜１：１となるように形成する。各層
の膜厚の比率が上記範囲から外れると、両者の特性を良
好に発揮させることができず、十分な効果が得られなく
なる。このような非磁性支持体を形成する方法として
は、特に限定されないが、例えば共押し出し法等を採用
すれば容易に作製することができる。
ート層の膜厚と上記ポリエチレンナフタレート層の膜厚
の比率が２０：１〜１：１となるように形成する。各層
の膜厚の比率が上記範囲から外れると、両者の特性を良
好に発揮させることができず、十分な効果が得られなく
なる。このような非磁性支持体を形成する方法として
は、特に限定されないが、例えば共押し出し法等を採用
すれば容易に作製することができる。
【００１９】
【作用】ポリエチレンテレフタレート層は高引裂伝播抵
抗を有し、またポリエチレンナフタレート層は低酸素透
過性，低水蒸気透過性を有する。従って、これらポリエ
チレンテレフタレート層とポリエチレンナフタレート層
を各層の膜厚比が所定の範囲内となるように積層形成
し、これを磁気記録媒体における非磁性支持体材料とし
て使用すれば、上記ポリエチレンナフタレート層により
磁性層への酸素や水蒸気の侵入が抑えられるので、磁性
層の酸化が防止されるとともに、上記ポリエチレンテレ
フタレート層によりテープ切れが起こりにくくなる。
抗を有し、またポリエチレンナフタレート層は低酸素透
過性，低水蒸気透過性を有する。従って、これらポリエ
チレンテレフタレート層とポリエチレンナフタレート層
を各層の膜厚比が所定の範囲内となるように積層形成
し、これを磁気記録媒体における非磁性支持体材料とし
て使用すれば、上記ポリエチレンナフタレート層により
磁性層への酸素や水蒸気の侵入が抑えられるので、磁性
層の酸化が防止されるとともに、上記ポリエチレンテレ
フタレート層によりテープ切れが起こりにくくなる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例により説明す
るが、本発明がこの実施例に限定されるものでないこと
は言うまでもない。実験例１ 本実験では、ポリエチレンテレフタレート層とポリエチ
レンナフタレート層からなるポリエステルフィルム（膜
厚７．３μｍ）を非磁性支持体として使用し、上記ポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率を下記の表１に示すように変化さ
せて、得られたメタルテープ（実施例１〜３）の耐蝕性
及び再生出力特性を検討した。
るが、本発明がこの実施例に限定されるものでないこと
は言うまでもない。実験例１ 本実験では、ポリエチレンテレフタレート層とポリエチ
レンナフタレート層からなるポリエステルフィルム（膜
厚７．３μｍ）を非磁性支持体として使用し、上記ポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率を下記の表１に示すように変化さ
せて、得られたメタルテープ（実施例１〜３）の耐蝕性
及び再生出力特性を検討した。
【００２１】
【表１】
【００２２】先ず、下記の基本組成に従って磁性塗料を
調製した。 磁性塗料の組成 メタル磁性粉末（比表面積５５ｍ2 ／ｇ） １００重量部 塩化ビニル系共重合体 １２重量部 （商品名、エスレックＡ，積水化学社製） ポリウレタン樹脂 ８重量部 （商品名、Ｎ−３１０９，日本ポリウレタン工業社製） アルミナ ８重量部 （商品名、ＡＫＰ−５０，住友化学社製） ブチルステアレート ２重量部 メチルエチルケトン １８０重量部 トルエン ６０重量部
調製した。 磁性塗料の組成 メタル磁性粉末（比表面積５５ｍ2 ／ｇ） １００重量部 塩化ビニル系共重合体 １２重量部 （商品名、エスレックＡ，積水化学社製） ポリウレタン樹脂 ８重量部 （商品名、Ｎ−３１０９，日本ポリウレタン工業社製） アルミナ ８重量部 （商品名、ＡＫＰ−５０，住友化学社製） ブチルステアレート ２重量部 メチルエチルケトン １８０重量部 トルエン ６０重量部
【００２３】上記組成を有する材料を容器に入れ、２時
間プレミックスを行った後、サンドグラインダーミルに
て１２２．５時間分散混合し、これに硬化剤（商品名、
コロネートＬ，日本ポリウレタン工業社製）４重量部を
添加して磁性塗料を調製した。続いて、この磁性塗料を
上記ポリエステルフィルムの一方の表面に膜厚が２．５
μｍとなるように塗布した後、乾燥し、カレンダー処理
を行い、硬化させて磁性層を形成した。
間プレミックスを行った後、サンドグラインダーミルに
て１２２．５時間分散混合し、これに硬化剤（商品名、
コロネートＬ，日本ポリウレタン工業社製）４重量部を
添加して磁性塗料を調製した。続いて、この磁性塗料を
上記ポリエステルフィルムの一方の表面に膜厚が２．５
μｍとなるように塗布した後、乾燥し、カレンダー処理
を行い、硬化させて磁性層を形成した。
【００２４】そして、予めボールミルにて４８時間分散
混合したバックコート材料を上記ポリエステルフィルム
の他方の面に０．５μｍの厚さに塗布してバックコート
層を形成し、８ｍｍ巾にスリットして磁気テープを得
た。なお、上記バックコート材料の組成は、下記に示す
通りである。 バックコート材料の組成 カーボン １００重量部 ポリウレタン樹脂 ５０重量部 メチルエチルケトン ３００重量部 トルエン １５０重量部
混合したバックコート材料を上記ポリエステルフィルム
の他方の面に０．５μｍの厚さに塗布してバックコート
層を形成し、８ｍｍ巾にスリットして磁気テープを得
た。なお、上記バックコート材料の組成は、下記に示す
通りである。 バックコート材料の組成 カーボン １００重量部 ポリウレタン樹脂 ５０重量部 メチルエチルケトン ３００重量部 トルエン １５０重量部
【００２５】以上のようにして得られた各磁気テープに
ついて、飽和磁化Φr の劣化率ΔΦr 、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表２に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例１〜２とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表１中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表２中に併せて記した。
ついて、飽和磁化Φr の劣化率ΔΦr 、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表２に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例１〜２とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表１中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表２中に併せて記した。
【００２６】表２中、再生出力特性は周波数７ＭＨｚに
おける再生出力の劣化量を表す。
おける再生出力の劣化量を表す。
【００２７】
【表２】
【００２８】表２より、本発明を適用した磁気テープで
は、何れの場合にも飽和磁化Φr と再生出力特性の劣化
量が少なく抑えられるとともに、引裂伝播抵抗値がポリ
エチレンテレフタレートのみから構成されるベースフィ
ルムとほぼ同程度まで改善されていることが明らかとな
った。従って、ポリエチレンテレフタレートとポリエチ
レンナフタレートとからなるポリエチレンフィルムを使
用することにより、磁性層の酸化による特性劣化を防止
できるとともに、テープ切れに対する強度を改善できる
ことが判った。
は、何れの場合にも飽和磁化Φr と再生出力特性の劣化
量が少なく抑えられるとともに、引裂伝播抵抗値がポリ
エチレンテレフタレートのみから構成されるベースフィ
ルムとほぼ同程度まで改善されていることが明らかとな
った。従って、ポリエチレンテレフタレートとポリエチ
レンナフタレートとからなるポリエチレンフィルムを使
用することにより、磁性層の酸化による特性劣化を防止
できるとともに、テープ切れに対する強度を改善できる
ことが判った。
【００２９】実験例２ 本実験では、ポリエチレンテレフタレート層とポリエチ
レンナフタレート層からなるポリエステルフィルム（膜
厚９．９μｍ）を非磁性支持体として使用し、上記ポリ
エチレンテレフタレート層とポリエチレンナフタレート
層の膜厚の比率を下記の表３に示すように変化させて、
得られた蒸着テープ（実施例４〜５）の耐蝕性及び再生
出力特性を検討した。
レンナフタレート層からなるポリエステルフィルム（膜
厚９．９μｍ）を非磁性支持体として使用し、上記ポリ
エチレンテレフタレート層とポリエチレンナフタレート
層の膜厚の比率を下記の表３に示すように変化させて、
得られた蒸着テープ（実施例４〜５）の耐蝕性及び再生
出力特性を検討した。
【００３０】
【表３】
【００３１】先ず、Ｃｏ80Ｎｉ20合金をターゲットとし
て用いて蒸着を行い、上記ポリエステルフィルムの一方
の表面上に膜厚が２０００μｍとなるように磁性層を形
成した。その後、上記ポリエステルフィルムの他方の面
に上記実験例１の場合と同様にして膜厚が０．５μｍと
なるようにバックコート層を形成した。
て用いて蒸着を行い、上記ポリエステルフィルムの一方
の表面上に膜厚が２０００μｍとなるように磁性層を形
成した。その後、上記ポリエステルフィルムの他方の面
に上記実験例１の場合と同様にして膜厚が０．５μｍと
なるようにバックコート層を形成した。
【００３２】更に、上記磁性層の表面にパーフロロポリ
エーテルを４０Å厚さに塗布してトップコート層を形成
した後、８ｍｍ巾にスリットして磁気テープを得た。
エーテルを４０Å厚さに塗布してトップコート層を形成
した後、８ｍｍ巾にスリットして磁気テープを得た。
【００３３】以上のようにして得られた各磁気テープに
ついて、飽和磁化Φr の劣化率ΔΦr 、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表４に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例３〜４とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表２中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表４中に併せて記した。
ついて、飽和磁化Φr の劣化率ΔΦr 、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表４に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例３〜４とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表２中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表４中に併せて記した。
【００３４】表４中、再生出力特性は周波数７ＭＨｚに
おける再生出力の劣化量を表す。
おける再生出力の劣化量を表す。
【００３５】
【表４】
【００３６】表４より、本発明を適用した磁気テープで
は、何れの場合にも飽和磁化Φr と再生出力特性の劣化
量が少なく抑えられるとともに、引裂伝播抵抗値がポリ
エチレンテレフタレートのみから構成されるベースフィ
ルムとほぼ同程度まで改善されていることが明らかとな
った。従って、ポリエチレンテレフタレートとポリエチ
レンナフタレートとからなるポリエチレンフィルムを使
用することにより、磁性層の酸化による特性劣化を防止
できるとともに、テープ切れに対する強度を改善できる
ことが判った。
は、何れの場合にも飽和磁化Φr と再生出力特性の劣化
量が少なく抑えられるとともに、引裂伝播抵抗値がポリ
エチレンテレフタレートのみから構成されるベースフィ
ルムとほぼ同程度まで改善されていることが明らかとな
った。従って、ポリエチレンテレフタレートとポリエチ
レンナフタレートとからなるポリエチレンフィルムを使
用することにより、磁性層の酸化による特性劣化を防止
できるとともに、テープ切れに対する強度を改善できる
ことが判った。
【００３７】
【発明の効果】上述のように、本発明では、ポリエチレ
ンテレフタレートとポリエチレンナフタレートとから構
成されるポリエチレンフィルムを非磁性支持体材料とし
て用いているので、磁性層の酸化を防止することができ
るとともに、テープ切れを抑えることができる。従っ
て、磁気特性や電磁変換特性の経時安定性に優れ、十分
な実用性を確保するとが可能な磁気記録媒体を提供する
ことができる。
ンテレフタレートとポリエチレンナフタレートとから構
成されるポリエチレンフィルムを非磁性支持体材料とし
て用いているので、磁性層の酸化を防止することができ
るとともに、テープ切れを抑えることができる。従っ
て、磁気特性や電磁変換特性の経時安定性に優れ、十分
な実用性を確保するとが可能な磁気記録媒体を提供する
ことができる。
【図１】本発明を適用した磁気記録媒体の構成例を示す
要部拡大断面図である。
要部拡大断面図である。
【図２】本発明を適用した磁気記録媒体の構成の他の例
を示す要部拡大断面図である。
を示す要部拡大断面図である。
【図３】本発明を適用した磁気記録媒体の構成のさらに
他の例を示す要部拡大断面図である。
他の例を示す要部拡大断面図である。
【図４】本発明を適用した磁気記録媒体の構成のさらに
他の例を示す要部拡大断面図である。
他の例を示す要部拡大断面図である。
１・・・ポリエチレンテレフタレート層 ２・・・ポリエチレンナフタレート層 ３・・・磁性層 ４・・・バックコート層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年８月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】また、上記ポリエチレンナフタレートフィ
ルムは、低酸素透過性，低水蒸気透過性を有している。
従って、このポリエチレンナフタレートフィルム上に磁
性層を形成した場合には、この磁性層への酸素や水蒸気
の侵入が抑えられ、磁性層の酸化による残留磁化等の磁
気特性の経時的劣化が防止されて、良好な耐蝕性を得る
ことができる。
ルムは、低酸素透過性，低水蒸気透過性を有している。
従って、このポリエチレンナフタレートフィルム上に磁
性層を形成した場合には、この磁性層への酸素や水蒸気
の侵入が抑えられ、磁性層の酸化による残留磁化等の磁
気特性の経時的劣化が防止されて、良好な耐蝕性を得る
ことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２３】上記組成を有する材料を容器に入れ、２時
間プレミックスを行った後、サンドグラインダーミルに
て５時間分散混合し、これに硬化剤（商品名、コロネー
トＬ，日本ポリウレタン工業社製）４重量部を添加して
磁性塗料を調製した。続いて、この磁性塗料を上記ポリ
エステルフィルムの一方の表面に膜厚が２．５μｍとな
るように塗布した後、乾燥し、カレンダー処理を行い、
硬化させて磁性層を形成した。
間プレミックスを行った後、サンドグラインダーミルに
て５時間分散混合し、これに硬化剤（商品名、コロネー
トＬ，日本ポリウレタン工業社製）４重量部を添加して
磁性塗料を調製した。続いて、この磁性塗料を上記ポリ
エステルフィルムの一方の表面に膜厚が２．５μｍとな
るように塗布した後、乾燥し、カレンダー処理を行い、
硬化させて磁性層を形成した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２５】以上のようにして得られた各磁気テープに
ついて、残留磁化Φｒ の劣化率ΔΦｒ、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表２に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例１〜２とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表１中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表２中に併せて記した。
ついて、残留磁化Φｒ の劣化率ΔΦｒ、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表２に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例１〜２とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表１中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表２中に併せて記した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２７】
【表２】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】先ず、Ｃｏ８０Ｎｉ２０合金をターゲット
として用いて蒸着を行い、上記ポリエステルフィルムの
一方の表面上に膜厚が２００ｎｍとなるように磁性層を
形成した。その後、上記ポリエステルフィルムの他方の
面に上記実験例１の場合と同様にして膜厚が０．５μｍ
となるようにバックコート層を形成した。
として用いて蒸着を行い、上記ポリエステルフィルムの
一方の表面上に膜厚が２００ｎｍとなるように磁性層を
形成した。その後、上記ポリエステルフィルムの他方の
面に上記実験例１の場合と同様にして膜厚が０．５μｍ
となるようにバックコート層を形成した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３３】以上のようにして得られた各磁気テープに
ついて、残留磁化Φｒ の劣化率ΔΦｒ、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表４に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例３〜４とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表２中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表４中に併せて記した。表４中、再生出
力特性は周波数７ＭＨｚにおける再生出力の劣化量を表
す。
ついて、残留磁化Φｒ の劣化率ΔΦｒ、再生出力特性及
び引裂伝播抵抗値をそれぞれ調べた。その結果を表４に
示す。なお、比較としてベースフィルムを構成するポリ
エチレンテレフタレート層の膜厚とポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が本発明の適用範囲を外れる場合
（比較例３〜４とする。なお、上記各層の膜厚の比率
は、上記表２中に示した。）についても同様にして調
べ、この結果を表４中に併せて記した。表４中、再生出
力特性は周波数７ＭＨｚにおける再生出力の劣化量を表
す。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３５】
【表４】
Claims (2)
- 【請求項１】 非磁性支持体上に金属磁性粉末と結合剤
とを主体とする磁性層が形成されてなる磁気記録媒体に
おいて、 前記非磁性支持体がポリエチレンテレフタレート層とポ
リエチレンナフタレート層から構成され、上記ポリエチ
レンテレフタレート層の膜厚と上記ポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が２０：１〜１：１とされてなる
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性支持体上に真空薄膜形成技術によ
り金属磁性薄膜が形成されてなる磁気記録媒体におい
て、 前記非磁性支持体がポリエチレンテレフタレート層とポ
リエチレンナフタレート層から構成され、上記ポリエチ
レンテレフタレート層の膜厚と上記ポリエチレンナフタ
レート層の膜厚の比率が２０：１〜１：１とされてなる
ことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31017291A JPH05128488A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31017291A JPH05128488A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05128488A true JPH05128488A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=18002041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31017291A Withdrawn JPH05128488A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05128488A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1008442A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-06-14 | Alusuisse Technology & Management AG | Sterilisierbarer Folienverbund für Verpackungszwecke |
| EP1008443A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-06-14 | Alusuisse Technology & Management AG | Sterilisierbarer Folienverbund für Verpackungszwecke |
-
1991
- 1991-10-30 JP JP31017291A patent/JPH05128488A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1008442A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-06-14 | Alusuisse Technology & Management AG | Sterilisierbarer Folienverbund für Verpackungszwecke |
| EP1008443A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-06-14 | Alusuisse Technology & Management AG | Sterilisierbarer Folienverbund für Verpackungszwecke |
| WO2000034037A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-06-15 | Alusuisse Technology & Management Ag | Sterilisierbarer folienverbund für verpackungszwecke |
| WO2000034036A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-06-15 | Alusuisse Technology & Management Ag | Sterilisierbarer folienverbund für verpackungszwecke |
| US6517932B1 (en) | 1998-12-08 | 2003-02-11 | Alusuisse Technology & Management Ag | Sterilizable film composite for packaging purposes |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990107 |