JPH07334836A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH07334836A JPH07334836A JP12595494A JP12595494A JPH07334836A JP H07334836 A JPH07334836 A JP H07334836A JP 12595494 A JP12595494 A JP 12595494A JP 12595494 A JP12595494 A JP 12595494A JP H07334836 A JPH07334836 A JP H07334836A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- thickness
- metal film
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 再生特性に優れた磁気記録媒体を提供するこ
とにある。 【構成】 支持体と、この支持体上に設けられたヤング
率が１０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の
金属膜と、この金属膜上に設けられた磁性金属膜とを具
備する磁気記録媒体。
とにある。 【構成】 支持体と、この支持体上に設けられたヤング
率が１０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の
金属膜と、この金属膜上に設けられた磁性金属膜とを具
備する磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属薄膜型の磁気記録
媒体に関するものである。
媒体に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体には、非磁
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、金属磁性粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、金属磁性粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
【０００３】これらの中、金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、より一層の高密度化が求められて
いる。この一層の高密度化は自己減磁を減らすことによ
っても達成される。そして、この自己減磁を減らす手段
としては磁性膜の厚さを薄くすることが考えられる。
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、より一層の高密度化が求められて
いる。この一層の高密度化は自己減磁を減らすことによ
っても達成される。そして、この自己減磁を減らす手段
としては磁性膜の厚さを薄くすることが考えられる。
【０００４】しかしながら、現行の金属薄膜型磁気記録
媒体において磁性膜の厚さを薄くすると、図３や図４に
示される如く、エンベロープ波形が損なわれ、再生特性
が低下する。従って、現行タイプの金属薄膜型磁気記録
媒体において磁性膜の厚さを薄くするにも限度がある。
媒体において磁性膜の厚さを薄くすると、図３や図４に
示される如く、エンベロープ波形が損なわれ、再生特性
が低下する。従って、現行タイプの金属薄膜型磁気記録
媒体において磁性膜の厚さを薄くするにも限度がある。
【０００５】
【発明の開示】本発明の目的は、再生特性に優れた磁気
記録媒体を提供することにある。この本発明の目的は、
支持体と、この支持体上に設けられたヤング率が１０×
１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の金属膜と、
この金属膜上に設けられた磁性金属膜とを具備すること
を特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
記録媒体を提供することにある。この本発明の目的は、
支持体と、この支持体上に設けられたヤング率が１０×
１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の金属膜と、
この金属膜上に設けられた磁性金属膜とを具備すること
を特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
【０００６】本発明における支持体、特に非磁性の支持
体は、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料が用いられる。尚、支持体面上には金属膜の
密着性を向上させる為のアンダーコート層が設けられて
いる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾
式メッキにより構成される金属膜の密着性を向上させ、
さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度なものとして
走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有さ
せた厚さが０．００５〜０．１μｍの塗膜を設けること
によってアンダーコート層が構成されている。尚、この
アンダーコート層を含めて、支持体の厚さは３〜１０μ
ｍ程度のものである。
体は、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料が用いられる。尚、支持体面上には金属膜の
密着性を向上させる為のアンダーコート層が設けられて
いる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾
式メッキにより構成される金属膜の密着性を向上させ、
さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度なものとして
走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有さ
せた厚さが０．００５〜０．１μｍの塗膜を設けること
によってアンダーコート層が構成されている。尚、この
アンダーコート層を含めて、支持体の厚さは３〜１０μ
ｍ程度のものである。
【０００７】このような支持体上に磁性金属膜の下地と
してヤング率が１０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2
の非磁性の金属膜が設けられる。この非磁性の金属膜が
設けられる点に本発明最大の特徴がある。すなわち、自
己減磁を減らす為に磁性金属膜を薄くした場合、エンベ
ロープ波形が損なわれるのであるが、ここでヤング率が
１０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の金属
膜を設けていた場合には、磁性膜の厚さを薄くしても、
図２に示される如く、エンベロープ波形は正常であり、
再生特性も良いものであった。
してヤング率が１０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2
の非磁性の金属膜が設けられる。この非磁性の金属膜が
設けられる点に本発明最大の特徴がある。すなわち、自
己減磁を減らす為に磁性金属膜を薄くした場合、エンベ
ロープ波形が損なわれるのであるが、ここでヤング率が
１０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の金属
膜を設けていた場合には、磁性膜の厚さを薄くしても、
図２に示される如く、エンベロープ波形は正常であり、
再生特性も良いものであった。
【０００８】この理由は次のようなことに基づくと考え
られる。すなわち、磁性膜の厚さを薄くすると、剛性が
低下し、これに起因して図３や図４に示されるようにエ
ンベロープ波形が損なわれるのであろうと考えられた。
そこで、磁性金属膜を薄くしても剛性が確保されるよう
にする為、非磁性の金属膜を設けた処、エンベロープ波
形は正常なものであった。すなわち、磁性金属膜の機械
的強度を補償するよう非磁性金属膜を設けておくことに
よって、磁性金属膜を薄くしても機械的強度は確保さ
れ、剛性不足によるエンベロープ波形の崩れが改善され
たのである。但し、単に、非磁性金属膜が設けられてお
れば良いかと言うと、この非磁性金属膜のヤング率が１
０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の範囲内のもので
あることが必要であった。つまり、ヤング率が１０×１
０9 Ｎ／ｍ2 より小さな金属材料が用いられた場合に
は、剛性の確保が不十分となり、エンベロープ波形の損
傷を改善できておらず、出力も低いものであった。逆
に、ヤング率が１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 より大きな金属
材料が用いられた場合には、バックコート層とのバラン
スが崩れて磁性層側に大きくカッピングしたり、硬くな
り過ぎ、テープがヘッドに当たる時に逃げが起きる等の
ヘッドタッチが悪くなり、好ましいものでない。
られる。すなわち、磁性膜の厚さを薄くすると、剛性が
低下し、これに起因して図３や図４に示されるようにエ
ンベロープ波形が損なわれるのであろうと考えられた。
そこで、磁性金属膜を薄くしても剛性が確保されるよう
にする為、非磁性の金属膜を設けた処、エンベロープ波
形は正常なものであった。すなわち、磁性金属膜の機械
的強度を補償するよう非磁性金属膜を設けておくことに
よって、磁性金属膜を薄くしても機械的強度は確保さ
れ、剛性不足によるエンベロープ波形の崩れが改善され
たのである。但し、単に、非磁性金属膜が設けられてお
れば良いかと言うと、この非磁性金属膜のヤング率が１
０×１０9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の範囲内のもので
あることが必要であった。つまり、ヤング率が１０×１
０9 Ｎ／ｍ2 より小さな金属材料が用いられた場合に
は、剛性の確保が不十分となり、エンベロープ波形の損
傷を改善できておらず、出力も低いものであった。逆
に、ヤング率が１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 より大きな金属
材料が用いられた場合には、バックコート層とのバラン
スが崩れて磁性層側に大きくカッピングしたり、硬くな
り過ぎ、テープがヘッドに当たる時に逃げが起きる等の
ヘッドタッチが悪くなり、好ましいものでない。
【０００９】尚、ヤング率が１０×１０9 〜１５０×１
０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の金属膜としては、Ｐｂ膜、Ｃｕ
膜、Ａｌ膜、Ｓｎ膜、Ｚｎ膜、又は前記の金属元素を成
分とする合金からなる膜が挙げられる。このような非磁
性の金属膜の厚さは１００〜１０００Åであることが好
ましい。すなわち、１００Å未満の薄すぎる場合には、
剛性の向上度が低く、エンベロープ波形損傷の改善が低
いからである。但し、全く設けられていない場合に比べ
たならば改善されていることは疑う余地もない。逆に、
１０００Åを越えて厚くなり過ぎると、全体の厚みが厚
くなり、嵩張るものとなって好ましくない。尚、Ｐｂあ
るいはＰｂを主成分とする金属膜の場合には７００〜１
０００Åの厚さであることが好ましく、ＣｕあるいはＣ
ｕを主成分とする金属膜の場合には１５０〜７００Åの
厚さであることが好ましく、ＡｌあるいはＡｌを主成分
とする金属膜の場合には４００〜８００Åの厚さである
ことが好ましく、ＳｎあるいはＳｎを主成分とする金属
膜の場合には５００〜９００Åの厚さであることが好ま
しく、ＺｎあるいはＺｎを主成分とする金属膜の場合に
は３００〜７００Åの厚さであることが好ましい。
０9 Ｎ／ｍ2 の非磁性の金属膜としては、Ｐｂ膜、Ｃｕ
膜、Ａｌ膜、Ｓｎ膜、Ｚｎ膜、又は前記の金属元素を成
分とする合金からなる膜が挙げられる。このような非磁
性の金属膜の厚さは１００〜１０００Åであることが好
ましい。すなわち、１００Å未満の薄すぎる場合には、
剛性の向上度が低く、エンベロープ波形損傷の改善が低
いからである。但し、全く設けられていない場合に比べ
たならば改善されていることは疑う余地もない。逆に、
１０００Åを越えて厚くなり過ぎると、全体の厚みが厚
くなり、嵩張るものとなって好ましくない。尚、Ｐｂあ
るいはＰｂを主成分とする金属膜の場合には７００〜１
０００Åの厚さであることが好ましく、ＣｕあるいはＣ
ｕを主成分とする金属膜の場合には１５０〜７００Åの
厚さであることが好ましく、ＡｌあるいはＡｌを主成分
とする金属膜の場合には４００〜８００Åの厚さである
ことが好ましく、ＳｎあるいはＳｎを主成分とする金属
膜の場合には５００〜９００Åの厚さであることが好ま
しく、ＺｎあるいはＺｎを主成分とする金属膜の場合に
は３００〜７００Åの厚さであることが好ましい。
【００１０】ヤング率が１０×１０9 〜１５０×１０9
Ｎ／ｍ2 の非磁性金属膜の上に設けられる磁性金属膜に
は、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属が用いられる。そ
の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆ
ｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等
の金属を含有させたもの等が用いられる。
Ｎ／ｍ2 の非磁性金属膜の上に設けられる磁性金属膜に
は、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属が用いられる。そ
の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆ
ｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等
の金属を含有させたもの等が用いられる。
【００１１】この磁性金属膜の厚さは、自己減磁を防ぐ
観点から、１０００〜２０００Åの厚さであることが好
ましい。すなわち、磁性金属膜が厚いものとなると、自
己減磁の問題があることから、２０００Å以下であるこ
とが好ましい。より一層好ましくは１５００Å以下であ
る。これに対して、磁性金属膜が薄すぎると、出力自体
が小さくなるから、１０００Å程度はあることが好まし
い。尚、今後の技術の進歩により、これより薄いもので
も出力が確保される磁性材料が開発されたならば、１０
００Å以下の厚さであっても良い。但し、現在の磁性材
料を鑑みたならば、磁性金属膜の厚さは１０００〜２０
００Å程度であることが好ましかった。
観点から、１０００〜２０００Åの厚さであることが好
ましい。すなわち、磁性金属膜が厚いものとなると、自
己減磁の問題があることから、２０００Å以下であるこ
とが好ましい。より一層好ましくは１５００Å以下であ
る。これに対して、磁性金属膜が薄すぎると、出力自体
が小さくなるから、１０００Å程度はあることが好まし
い。尚、今後の技術の進歩により、これより薄いもので
も出力が確保される磁性材料が開発されたならば、１０
００Å以下の厚さであっても良い。但し、現在の磁性材
料を鑑みたならば、磁性金属膜の厚さは１０００〜２０
００Å程度であることが好ましかった。
【００１２】そして、非磁性金属膜や磁性金属膜は、例
えば１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気下におい
て非磁性金属（又は磁性金属）を抵抗加熱、高周波加
熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、金属粒子を支
持体面上に堆積（蒸着）させることにより、非磁性金属
膜（又は磁性金属膜）が形成される。尚、上記した蒸着
法による他、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波
スパッタ法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグ
ネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各
種の手段を採用できる。これらの成膜手段は如何なる手
段であっても良い。尚、磁性金属膜の成膜時には酸化性
ガスなどが供されていて、磁性金属膜の表面層には酸化
膜からなる保護層が形成されることが好ましい。
えば１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気下におい
て非磁性金属（又は磁性金属）を抵抗加熱、高周波加
熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、金属粒子を支
持体面上に堆積（蒸着）させることにより、非磁性金属
膜（又は磁性金属膜）が形成される。尚、上記した蒸着
法による他、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波
スパッタ法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグ
ネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法などの各
種の手段を採用できる。これらの成膜手段は如何なる手
段であっても良い。尚、磁性金属膜の成膜時には酸化性
ガスなどが供されていて、磁性金属膜の表面層には酸化
膜からなる保護層が形成されることが好ましい。
【００１３】支持体の他面側には、いわゆるバックコー
ト層が設けられる。このバックコート層は、蒸着手段に
よって構成された金属薄膜であっても、カーボンブラッ
ク及びバインダ樹脂を含む塗料を塗布して構成されたも
のであっても良い。尚、金属薄膜でバックコート層を構
成する場合には、Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｚｎなどが用いら
れる。
ト層が設けられる。このバックコート層は、蒸着手段に
よって構成された金属薄膜であっても、カーボンブラッ
ク及びバインダ樹脂を含む塗料を塗布して構成されたも
のであっても良い。尚、金属薄膜でバックコート層を構
成する場合には、Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｚｎなどが用いら
れる。
【００１４】そして、上記のように構成させた磁気記録
媒体は、磁性膜の厚さを薄く出来ることから、自己減磁
が減り、出力が改善され、より一層の高密度記録に対応
できるようになる。以下、具体的な実施例を挙げて本発
明を説明する。
媒体は、磁性膜の厚さを薄く出来ることから、自己減磁
が減り、出力が改善され、より一層の高密度記録に対応
できるようになる。以下、具体的な実施例を挙げて本発
明を説明する。
【００１５】
〔実施例１〕図１は、本発明に係る磁気記録媒体（８ｍ
ｍＶＴＲ用磁気テープ）の概略断面図である。同図中、
１は厚さが１０μｍのＰＥＴフィルム、２はＰＥＴフィ
ルム１の一面上に斜め蒸着手段により設けられた７００
Å厚さのＰｂ膜（Ｐｂのヤング率は１４×１０9 Ｎ／ｍ
2 ）、３はＰｂ膜２の表面に斜め蒸着手段により設けら
れた１３００Å厚さのＣｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁性
膜、４はフッ素系潤滑剤を塗布して構成された潤滑層、
５はＰＥＴフィルム１の他面上にカーボンブラック及び
バインダ樹脂を含む塗料を塗布して構成された厚さ０．
５μｍのバックコート層である。
ｍＶＴＲ用磁気テープ）の概略断面図である。同図中、
１は厚さが１０μｍのＰＥＴフィルム、２はＰＥＴフィ
ルム１の一面上に斜め蒸着手段により設けられた７００
Å厚さのＰｂ膜（Ｐｂのヤング率は１４×１０9 Ｎ／ｍ
2 ）、３はＰｂ膜２の表面に斜め蒸着手段により設けら
れた１３００Å厚さのＣｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁性
膜、４はフッ素系潤滑剤を塗布して構成された潤滑層、
５はＰＥＴフィルム１の他面上にカーボンブラック及び
バインダ樹脂を含む塗料を塗布して構成された厚さ０．
５μｍのバックコート層である。
【００１６】〔実施例２〕実施例１において、Ｐｂ膜２
の厚さを１０００Åとした他は同様にした。 〔実施例３〕実施例１において、Ｃｏ−Ｎｉ磁性膜３の
厚さを１８００Åとした他は同様にした。
の厚さを１０００Åとした他は同様にした。 〔実施例３〕実施例１において、Ｃｏ−Ｎｉ磁性膜３の
厚さを１８００Åとした他は同様にした。
【００１７】〔実施例４〕実施例１において、５００Å
厚さのＰｂ膜２の代わりに３００Å厚さのＣｕ膜（Ｃｕ
のヤング率は１１０×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様
にした。 〔実施例５〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２の代わりに６００Å厚さのＣｕ膜とした他は同様にし
た。
厚さのＰｂ膜２の代わりに３００Å厚さのＣｕ膜（Ｃｕ
のヤング率は１１０×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様
にした。 〔実施例５〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２の代わりに６００Å厚さのＣｕ膜とした他は同様にし
た。
【００１８】〔実施例６〕実施例１において、５００Å
厚さのＰｂ膜２の代わりに４００Å厚さのＡｌ膜（Ａｌ
のヤング率は６８×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様に
した。 〔実施例７〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２の代わりに８００Å厚さのＡｌ膜とした他は同様にし
た。
厚さのＰｂ膜２の代わりに４００Å厚さのＡｌ膜（Ａｌ
のヤング率は６８×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様に
した。 〔実施例７〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２の代わりに８００Å厚さのＡｌ膜とした他は同様にし
た。
【００１９】〔実施例８〕実施例１において、５００Å
厚さのＰｂ膜２の代わりに６００Å厚さのＳｎ膜（Ｓｎ
のヤング率は４１×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様に
した。 〔実施例９〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２の代わりに９００Å厚さのＳｎ膜とした他は同様にし
た。
厚さのＰｂ膜２の代わりに６００Å厚さのＳｎ膜（Ｓｎ
のヤング率は４１×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様に
した。 〔実施例９〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２の代わりに９００Å厚さのＳｎ膜とした他は同様にし
た。
【００２０】〔実施例１０〕実施例１において、５００
Å厚さのＰｂ膜２の代わりに３００Å厚さのＺｎ膜（Ｚ
ｎのヤング率は９７×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様
にした。 〔実施例１１〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ
膜２の代わりに６００Å厚さのＺｎ膜とした他は同様に
した。
Å厚さのＰｂ膜２の代わりに３００Å厚さのＺｎ膜（Ｚ
ｎのヤング率は９７×１０9 Ｎ／ｍ2 ）とした他は同様
にした。 〔実施例１１〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ
膜２の代わりに６００Å厚さのＺｎ膜とした他は同様に
した。
【００２１】〔比較例１〕実施例１において、５００Å
厚さのＰｂ膜２は設けず、Ｃｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁
性膜の厚さを１８００Åとした他は同様にした。 〔比較例２〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２は設けず、Ｃｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁性膜の厚さを
１３００Åとした他は同様にした。
厚さのＰｂ膜２は設けず、Ｃｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁
性膜の厚さを１８００Åとした他は同様にした。 〔比較例２〕実施例１において、５００Å厚さのＰｂ膜
２は設けず、Ｃｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁性膜の厚さを
１３００Åとした他は同様にした。
【００２２】〔比較例３〕実施例１において、５００Å
厚さのＰｂ膜２の代わりに３００Å厚さのＮｉ膜（酸化
したことにより、実質上非磁性のものとなっている。Ｎ
ｉのヤング率は２０７×１０9 Ｎ／ｍ2 ）を設け、又、
Ｃｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁性膜の厚さを１５００Åと
した他は同様にした。
厚さのＰｂ膜２の代わりに３００Å厚さのＮｉ膜（酸化
したことにより、実質上非磁性のものとなっている。Ｎ
ｉのヤング率は２０７×１０9 Ｎ／ｍ2 ）を設け、又、
Ｃｏ−Ｎｉ（８０−２０）磁性膜の厚さを１５００Åと
した他は同様にした。
【００２３】〔特性〕上記各例で得られた８ｍｍＶＴＲ
用磁気テープについて、エンベロープ波形の欠け率（ａ
／ｂ）並びに出力を調べたので、その結果を下記の表−
１に示す。 表−１ エンベロープ波形欠け率 ３ＭＨｚ出力 ７ＭＨｚ出力 実施例１ ３５％ ＋０．２ ＋１．１ 実施例２ ３４％ ＋０．５ ＋１．８ 実施例３ ３５％ ＋１．２ ＋１．９ 実施例４ ３０％ ＋０．３ ＋１．６ 実施例５ ２９％ ＋２．１ ＋２．３ 実施例６ ３４％ ＋１．１ ＋１．４ 実施例７ ３２％ ＋１．７ ＋１．９ 実施例８ ３５％ ＋１．０ ＋１．１ 実施例９ ３７％ ＋１．４ ＋１．７ 実施例１０ ３１％ ＋１．５ ＋１．５ 実施例１１ ３４％ ＋１．９ ＋２．０ 比較例１ ３８％ ０ ０ 比較例２ ４９％ −０．３ −０．５ 比較例３ ４３％ −０．６ −０．８ これによれば、本発明になるものは、広い範囲にわたっ
て出力の高いことが判る。
用磁気テープについて、エンベロープ波形の欠け率（ａ
／ｂ）並びに出力を調べたので、その結果を下記の表−
１に示す。 表−１ エンベロープ波形欠け率 ３ＭＨｚ出力 ７ＭＨｚ出力 実施例１ ３５％ ＋０．２ ＋１．１ 実施例２ ３４％ ＋０．５ ＋１．８ 実施例３ ３５％ ＋１．２ ＋１．９ 実施例４ ３０％ ＋０．３ ＋１．６ 実施例５ ２９％ ＋２．１ ＋２．３ 実施例６ ３４％ ＋１．１ ＋１．４ 実施例７ ３２％ ＋１．７ ＋１．９ 実施例８ ３５％ ＋１．０ ＋１．１ 実施例９ ３７％ ＋１．４ ＋１．７ 実施例１０ ３１％ ＋１．５ ＋１．５ 実施例１１ ３４％ ＋１．９ ＋２．０ 比較例１ ３８％ ０ ０ 比較例２ ４９％ −０．３ −０．５ 比較例３ ４３％ −０．６ −０．８ これによれば、本発明になるものは、広い範囲にわたっ
て出力の高いことが判る。
【００２４】
【効果】本発明によれば、出力特性に優れた磁気記録媒
体が得られる。
体が得られる。
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の概略断面図
【図２】エンベロープ波形
【図３】エンベロープ波形
【図４】エンベロープ波形
１ ＰＥＴフィルム ２ Ｐｂ膜 ３ Ｃｏ−Ｎｉ磁性膜 ４ 潤滑層 ５ バックコート層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若林 繁美 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 支持体と、この支持体上に設けられたヤ
ング率が１０×１０ 9 〜１５０×１０9 Ｎ／ｍ2 の非磁
性の金属膜と、この金属膜上に設けられた磁性金属膜と
を具備することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 支持体上に設けられた非磁性の金属膜
が、Ｐｂ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｚｎ又はこれらの金属元
素を成分とする合金からなることを特徴とする請求項１
の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 非磁性の金属膜は１００〜１０００Åの
厚さであり、磁性金属膜は１０００〜２０００Åの厚さ
であることを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 支持体が３〜１０μｍ厚の樹脂であるこ
とを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12595494A JPH07334836A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12595494A JPH07334836A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07334836A true JPH07334836A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=14923090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12595494A Pending JPH07334836A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07334836A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1271483B1 (en) * | 2001-06-29 | 2005-08-31 | Sony Corporation | Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof |
-
1994
- 1994-06-08 JP JP12595494A patent/JPH07334836A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1271483B1 (en) * | 2001-06-29 | 2005-08-31 | Sony Corporation | Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof |
| US7070871B2 (en) | 2001-06-29 | 2006-07-04 | Sony Corporation | Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0765347A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH11250437A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録・再生システム | |
| JPH07334836A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2600297B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US5525419A (en) | Magnetic recording medium | |
| JP2596072B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08161722A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2861081B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS59178624A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0991653A (ja) | 記録媒体 | |
| JPH097157A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH09212844A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04143920A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH0827932B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0963034A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08167140A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2002367135A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS62275319A (ja) | 保護層に亀裂を有する磁気記録媒体 | |
| JPH10247312A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH03116520A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62107428A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH07311939A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造装置及び製造方法 | |
| JPH08306027A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0785445A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH10228619A (ja) | 磁気記録媒体、及び磁気記録方法 |