JPH05125158A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
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- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 この発明のエポキシ樹脂組成物は、ナフトー
ル、ジヒドロキシナフタレン、またはその混合物と、フ
ェノール、クレゾール、またはキシレノールをキシレン
ジオールで共縮合したポリヒドロキシナフタレン系化合
物を硬化剤とし、これとエポキシ樹脂、硬化促進剤を必
須成分とするものである。 【効果】 本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化樹脂の
ガラス転移温度が高く耐熱性、耐湿性に優れ、かつパッ
ケージにクラックが発生しにくいため、半導体封止用に
適する。
ル、ジヒドロキシナフタレン、またはその混合物と、フ
ェノール、クレゾール、またはキシレノールをキシレン
ジオールで共縮合したポリヒドロキシナフタレン系化合
物を硬化剤とし、これとエポキシ樹脂、硬化促進剤を必
須成分とするものである。 【効果】 本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化樹脂の
ガラス転移温度が高く耐熱性、耐湿性に優れ、かつパッ
ケージにクラックが発生しにくいため、半導体封止用に
適する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、信頼性に優れた半導体
封止用エポキシ樹脂組成物に関する。
封止用エポキシ樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子を外環境から守るた
め、エポキシ樹脂組成物で封止する方法が広く採用され
てきた。本組成物の一般的な構成は、エポキシ樹脂、硬
化剤、硬化促進剤、充填剤、その他の配合剤からなり、
エポキシ樹脂としては、フェノール類とホルムアルデヒ
ドとを反応したノボラック樹脂をエポキシ化したもの、
特にオルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂が広く用
いられ、硬化剤にはフェノールホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂が採用されてきた。
め、エポキシ樹脂組成物で封止する方法が広く採用され
てきた。本組成物の一般的な構成は、エポキシ樹脂、硬
化剤、硬化促進剤、充填剤、その他の配合剤からなり、
エポキシ樹脂としては、フェノール類とホルムアルデヒ
ドとを反応したノボラック樹脂をエポキシ化したもの、
特にオルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂が広く用
いられ、硬化剤にはフェノールホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂が採用されてきた。
【0003】近年、半導体素子はますます高集積化大型
化し、多ピンのフラットパッケージが実用化され、封止
された素子にしめるエポキシ樹脂の割合が減少する傾向
にある。このため封止時に強い応力を受け易く、実装方
式も表面実装方式がとられ、実装時に樹脂封止された半
導体を溶融半田中に浸漬するため、強い熱ストレスを受
けるとともに、樹脂内部に吸湿されている水が急激に気
化して体積膨張をおこす厳しい環境にさらされる。
化し、多ピンのフラットパッケージが実用化され、封止
された素子にしめるエポキシ樹脂の割合が減少する傾向
にある。このため封止時に強い応力を受け易く、実装方
式も表面実装方式がとられ、実装時に樹脂封止された半
導体を溶融半田中に浸漬するため、強い熱ストレスを受
けるとともに、樹脂内部に吸湿されている水が急激に気
化して体積膨張をおこす厳しい環境にさらされる。
【0004】前記エポキシ樹脂を用いて、大容量半導体
を封止した場合、パッケージにクラックが発生する問題
が生じ、ボンディングワイヤが変形したり腐食による断
線が生じたり、素子パッシベーションのクラックなどが
発生し易い問題がある。このため、高性能なエポキシ樹
脂が種々提案されているが、未だ問題の解決には至って
いない。
を封止した場合、パッケージにクラックが発生する問題
が生じ、ボンディングワイヤが変形したり腐食による断
線が生じたり、素子パッシベーションのクラックなどが
発生し易い問題がある。このため、高性能なエポキシ樹
脂が種々提案されているが、未だ問題の解決には至って
いない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ガラス転移
温度が高く耐熱性に優れ、かつ耐湿性に優れたパッケー
ジにクラックが発生し難い、新規な半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物を提供することにある。
温度が高く耐熱性に優れ、かつ耐湿性に優れたパッケー
ジにクラックが発生し難い、新規な半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、ナフ
トール、ジヒドロキシナフタレン、またはその混合物
と、フェノール、クレゾール、またはキシレノールをキ
シレンジオールで共縮合したポリヒドロキシナフタレン
系化合物を硬化剤とし、これとエポキシ樹脂、硬化促進
剤を必須成分とするエポキシ樹脂組成物である。
トール、ジヒドロキシナフタレン、またはその混合物
と、フェノール、クレゾール、またはキシレノールをキ
シレンジオールで共縮合したポリヒドロキシナフタレン
系化合物を硬化剤とし、これとエポキシ樹脂、硬化促進
剤を必須成分とするエポキシ樹脂組成物である。
【0007】[手段を構成する要件]本発明に使用する
ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、フェノール、ク
レゾール、キシレノールをキシレンジオールで縮合した
共縮合物において、ナフトールは、α−ナフトール、β
−ナフトールがあげられ、特に共縮合性の高いα−ナフ
トールが好ましい。ジヒドロキシナフタレンは、1,5
−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフ
タレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジ
ヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレ
ン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,2−ジヒド
ロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、
2,3−ジヒドロキシナフタレンがあげられ、特に共縮
合性の高い1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−
ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタ
レンが好ましい。
ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、フェノール、ク
レゾール、キシレノールをキシレンジオールで縮合した
共縮合物において、ナフトールは、α−ナフトール、β
−ナフトールがあげられ、特に共縮合性の高いα−ナフ
トールが好ましい。ジヒドロキシナフタレンは、1,5
−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフ
タレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジ
ヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレ
ン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,2−ジヒド
ロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、
2,3−ジヒドロキシナフタレンがあげられ、特に共縮
合性の高い1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−
ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタ
レンが好ましい。
【0008】また、クレゾールは、o−クレゾール、m
−クレゾール、p−クレゾールやそれらの混合物が用い
られ、特に共縮合性の高いo−クレゾールやm−クレゾ
ールが好ましい。キシレノールは、2,3−キシレノー
ル、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、
3,4−キシレノール、3,5−キシレノールやそれら
の混合物が用いられ、特に共縮合性の高い3,4−キシ
レノールや3,5−キシレノールが好ましい。
−クレゾール、p−クレゾールやそれらの混合物が用い
られ、特に共縮合性の高いo−クレゾールやm−クレゾ
ールが好ましい。キシレノールは、2,3−キシレノー
ル、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、
3,4−キシレノール、3,5−キシレノールやそれら
の混合物が用いられ、特に共縮合性の高い3,4−キシ
レノールや3,5−キシレノールが好ましい。
【0009】キシレンジオールは、α−α′−o−キシ
レンジオール、別名o−キシリレンアルコール、α−
α′−m−キシレンジオール、別名m−キシリレンアル
コール、α−α′−p−キシレンジオール、別名p−キ
シリレンアルコールが利用でき、特に反応性の高いα−
α′−p−キシレンジオールが好ましい。キシレンジオ
ールは単独で用いてもよく、各種アルデヒドと併用して
反応に供することもできる。
レンジオール、別名o−キシリレンアルコール、α−
α′−m−キシレンジオール、別名m−キシリレンアル
コール、α−α′−p−キシレンジオール、別名p−キ
シリレンアルコールが利用でき、特に反応性の高いα−
α′−p−キシレンジオールが好ましい。キシレンジオ
ールは単独で用いてもよく、各種アルデヒドと併用して
反応に供することもできる。
【0010】このアルデヒドは、例えばホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチルア
ルデヒドなどの脂肪族アルデヒド、ベンズアルデヒド、
p−ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド
などの芳香族アルデヒド、グリオキザール、テレフタル
アルデヒドなどの多価アルデヒドが利用でき、中でもホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、グリオキザー
ル、テレフタルアルデヒドが好ましい。これらのアルデ
ヒドは一種類を用いて反応させてもよく、二種類以上を
併用して反応させることも可能である。
ド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチルア
ルデヒドなどの脂肪族アルデヒド、ベンズアルデヒド、
p−ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド
などの芳香族アルデヒド、グリオキザール、テレフタル
アルデヒドなどの多価アルデヒドが利用でき、中でもホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、グリオキザー
ル、テレフタルアルデヒドが好ましい。これらのアルデ
ヒドは一種類を用いて反応させてもよく、二種類以上を
併用して反応させることも可能である。
【0011】共縮合物を得るための、各成分の使用量
は、ナフトール、またはジヒドロキシナフタレンとフェ
ノール、クレゾール、またはキシレノールの合計モル
数、1モルに対しキシレンジオールを単独で使用する場
合は0.3〜0.95モルであり、アルデヒド併用時は
キシレンジオールとアルデヒドを合計して0.3〜0.
95モルである。
は、ナフトール、またはジヒドロキシナフタレンとフェ
ノール、クレゾール、またはキシレノールの合計モル
数、1モルに対しキシレンジオールを単独で使用する場
合は0.3〜0.95モルであり、アルデヒド併用時は
キシレンジオールとアルデヒドを合計して0.3〜0.
95モルである。
【0012】分子中のキシレンジオールの分子単位の含
有量が少ない場合はエポキシ樹脂組成物の耐湿性が悪く
しかも縮合物は適正な平均分子量より小さくなるため耐
熱性に劣り、多すぎると平均分子量が高くなりすぎるた
め高粘度になり成型性に問題が生じる。縮合物の適正な
平均分子量は300〜2000であり、好ましくは40
0〜1500である。
有量が少ない場合はエポキシ樹脂組成物の耐湿性が悪く
しかも縮合物は適正な平均分子量より小さくなるため耐
熱性に劣り、多すぎると平均分子量が高くなりすぎるた
め高粘度になり成型性に問題が生じる。縮合物の適正な
平均分子量は300〜2000であり、好ましくは40
0〜1500である。
【0013】共縮合反応は、触媒として酸やアルカリあ
るいは最初アルカリを次に酸を用いる二段階法などが利
用されるが、酸を用いるのが一般的である。酸は、硫
酸、塩酸、硝酸、臭化水素酸などの鉱酸、パラトルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸類、
シュウ酸、コハク酸、マロン酸などのカルボン酸類が使
用される。また触媒を用いなくても高温に加熱するだけ
で反応することも可能である。溶媒は必ずしも必要とす
るものではないが、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼ
ン、ジクロルベンゼン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフ
ォオキシド、ジメチルスルフォアミドなどの溶媒を用い
て反応することができる。反応温度は50〜200℃、
好ましくは脂肪族アルデヒドの場合には60〜150
℃、芳香族アルデヒドの場合には60〜190℃で、1
〜10時間反応させる。この後、必要により不純物を水
洗して除去したり、溶剤洗浄や減圧脱気で未反応モノマ
ーを除去する。
るいは最初アルカリを次に酸を用いる二段階法などが利
用されるが、酸を用いるのが一般的である。酸は、硫
酸、塩酸、硝酸、臭化水素酸などの鉱酸、パラトルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸類、
シュウ酸、コハク酸、マロン酸などのカルボン酸類が使
用される。また触媒を用いなくても高温に加熱するだけ
で反応することも可能である。溶媒は必ずしも必要とす
るものではないが、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼ
ン、ジクロルベンゼン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフ
ォオキシド、ジメチルスルフォアミドなどの溶媒を用い
て反応することができる。反応温度は50〜200℃、
好ましくは脂肪族アルデヒドの場合には60〜150
℃、芳香族アルデヒドの場合には60〜190℃で、1
〜10時間反応させる。この後、必要により不純物を水
洗して除去したり、溶剤洗浄や減圧脱気で未反応モノマ
ーを除去する。
【0014】本発明のポリヒドロキシ化合物は、硬化剤
として単独で用いてもよいし、70wt%以下好ましく
は50wt%以下の一般のフェノール樹脂、例えばフェ
ノールや置換フェノール(o−クレゾール、p−クレゾ
ール、t−ブチルフェノール、クミルフェノール、フェ
ニルフェノールなど)とアルデヒドを酸やアルカリで反
応したものと併用して用いることもできる。
として単独で用いてもよいし、70wt%以下好ましく
は50wt%以下の一般のフェノール樹脂、例えばフェ
ノールや置換フェノール(o−クレゾール、p−クレゾ
ール、t−ブチルフェノール、クミルフェノール、フェ
ニルフェノールなど)とアルデヒドを酸やアルカリで反
応したものと併用して用いることもできる。
【0015】次に、本発明に用いられる主剤は通常のエ
ポキシ樹脂であり、特に限定するものではなく、従来公
知のものが用いられる。例えば、ビスフェノールA型、
フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型等が
あげられる。これら樹脂のなかでも融点が室温を越えて
おり、室温下では固形状もしくは高粘度の溶液状を呈す
るものが好結果をもたらす。上記ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂としては、通常、エポキシ当量160〜20
0、軟化点50〜130℃のものが用いられ、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂としては、エポキシ当量1
80〜210、軟化点50〜130℃のものが用いら
れ、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、エ
ポキシ当量180〜210、軟化点60〜110℃のも
のが一般的に用いられる。
ポキシ樹脂であり、特に限定するものではなく、従来公
知のものが用いられる。例えば、ビスフェノールA型、
フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型等が
あげられる。これら樹脂のなかでも融点が室温を越えて
おり、室温下では固形状もしくは高粘度の溶液状を呈す
るものが好結果をもたらす。上記ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂としては、通常、エポキシ当量160〜20
0、軟化点50〜130℃のものが用いられ、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂としては、エポキシ当量1
80〜210、軟化点50〜130℃のものが用いら
れ、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、エ
ポキシ当量180〜210、軟化点60〜110℃のも
のが一般的に用いられる。
【0016】主剤と硬化剤の配合割合は、エポキシ樹脂
のエポキシ基に対する硬化剤のフェノール性水酸基の当
量比(エポキシ基/フェノール性水酸基)が通常1/
0.8〜1/1.2、好ましくは1/0.9〜1/1.
1の範囲が耐熱性、耐湿性の点から選ばれる。
のエポキシ基に対する硬化剤のフェノール性水酸基の当
量比(エポキシ基/フェノール性水酸基)が通常1/
0.8〜1/1.2、好ましくは1/0.9〜1/1.
1の範囲が耐熱性、耐湿性の点から選ばれる。
【0017】本発明に用いる硬化促進剤は通常の触媒で
あり、特に限定されない。硬化促進剤の具体例として
は、トリフェニルフォスフィン、トリス−2,6−ジメ
トキシフェニルフォスフィン、トリ−p−トリルフォス
フィン、亜リン酸トリフェニルなどのリン化合物、2−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−
ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾー
ル、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類、2−ジメチルアミノメチルフェノール、ベン
ジルジメチルアミン、α−メチルベンジルメチルアミン
などの三級アミン類、1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデセン−7、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7の有機酸塩類などがあげ
られる。
あり、特に限定されない。硬化促進剤の具体例として
は、トリフェニルフォスフィン、トリス−2,6−ジメ
トキシフェニルフォスフィン、トリ−p−トリルフォス
フィン、亜リン酸トリフェニルなどのリン化合物、2−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−
ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾー
ル、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類、2−ジメチルアミノメチルフェノール、ベン
ジルジメチルアミン、α−メチルベンジルメチルアミン
などの三級アミン類、1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデセン−7、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7の有機酸塩類などがあげ
られる。
【0018】硬化促進剤の配合量は、本発明の組成物中
0.1〜3.0%であるのが耐熱性と耐湿性の点から好
ましい。
0.1〜3.0%であるのが耐熱性と耐湿性の点から好
ましい。
【0019】本発明では、前記各成分の他に、必要に応
じてさらに種々のものを配合することができる。例え
ば、充填剤や充填剤の表面を処理するための表面処理剤
や難燃剤や離型剤や着色剤や可撓性付与剤である。
じてさらに種々のものを配合することができる。例え
ば、充填剤や充填剤の表面を処理するための表面処理剤
や難燃剤や離型剤や着色剤や可撓性付与剤である。
【0020】充填剤としては特に限定はなく、例えば、
結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉、石英ガラス粉、タル
ク、ケイ酸カルシウム粉、ケイ酸ジルコニウム粉、アル
ミナ粉、炭酸カルシウム粉等が挙げられるが、シリカ系
のものが好ましい。充填剤の配合割合は、全組成物に対
して60〜90wt%、好ましくは70〜85wt%で
ある。充填剤の配合量が90wt%をこえると、組成物
の流動性が低くなって成形が難しく、60wt%未満で
は熱膨張が大きくなる傾向がある。
結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉、石英ガラス粉、タル
ク、ケイ酸カルシウム粉、ケイ酸ジルコニウム粉、アル
ミナ粉、炭酸カルシウム粉等が挙げられるが、シリカ系
のものが好ましい。充填剤の配合割合は、全組成物に対
して60〜90wt%、好ましくは70〜85wt%で
ある。充填剤の配合量が90wt%をこえると、組成物
の流動性が低くなって成形が難しく、60wt%未満で
は熱膨張が大きくなる傾向がある。
【0021】表面処理剤としては、公知のシランカップ
リング剤などがあげられ、難燃剤としては三酸化アンチ
モン、五酸化アンチモン、リン酸塩、臭素化物があげら
れ、離型剤としては各種ワックス類を、着色剤にはカー
ボンブラックなどを、可撓性付与剤としてはシリコーン
樹脂、ブタジエン−アクリロニトリルゴムなどが用いら
れる。但し、これらに限定されるものではない。
リング剤などがあげられ、難燃剤としては三酸化アンチ
モン、五酸化アンチモン、リン酸塩、臭素化物があげら
れ、離型剤としては各種ワックス類を、着色剤にはカー
ボンブラックなどを、可撓性付与剤としてはシリコーン
樹脂、ブタジエン−アクリロニトリルゴムなどが用いら
れる。但し、これらに限定されるものではない。
【0022】本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物
の調製方法は特に限定されず、常法によって行われる。
また、本発明の樹脂組成物を用いて半導体を封止する際
の条件にも特に限定はなく、通常、175℃、成型圧1
00kg/cm2、3分間の成型と180℃、5時間の
後硬化のごとき条件が採用される。
の調製方法は特に限定されず、常法によって行われる。
また、本発明の樹脂組成物を用いて半導体を封止する際
の条件にも特に限定はなく、通常、175℃、成型圧1
00kg/cm2、3分間の成型と180℃、5時間の
後硬化のごとき条件が採用される。
【0023】
【実施例】以下、実施例をあげて、本発明の実施の態様
を具体的に例示して説明する。本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
を具体的に例示して説明する。本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
【0024】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例1)攪拌装置、還流冷却管、温度計、窒素吹込口を備
えた反応容器内に、α−ナフトール96g、フェノール
31g、α−α′−m−キシレンジオール100g、硫
酸0.5gを仕込み、150℃に加熱して窒素気流下で
8時間撹拌して反応させた。この後、200℃に加熱し
5mmHgで未反応物と水を除去した。得られた共縮合
物の平均分子量は700であった。
例1)攪拌装置、還流冷却管、温度計、窒素吹込口を備
えた反応容器内に、α−ナフトール96g、フェノール
31g、α−α′−m−キシレンジオール100g、硫
酸0.5gを仕込み、150℃に加熱して窒素気流下で
8時間撹拌して反応させた。この後、200℃に加熱し
5mmHgで未反応物と水を除去した。得られた共縮合
物の平均分子量は700であった。
【0025】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例2)製造例1において、α−ナフトール48g、フェ
ノール63g、α−α′−p−キシレンジオール28
g、パラホルムアルデヒド17gを用いポリヒドロキシ
ナフタレン系化合物を製造した。得られた共縮合物の平
均分子量は640であった。
例2)製造例1において、α−ナフトール48g、フェ
ノール63g、α−α′−p−キシレンジオール28
g、パラホルムアルデヒド17gを用いポリヒドロキシ
ナフタレン系化合物を製造した。得られた共縮合物の平
均分子量は640であった。
【0026】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例3)製造例1において、α−ナフトールの代りに1,
6−ジヒドロキシナフタレン80g、フェノール47
g、α−α′−p−キシレンジオール110gを用いポ
リヒドロキシナフタレン系化合物を製造した。得られた
共縮合物の平均分子量は950であった。
例3)製造例1において、α−ナフトールの代りに1,
6−ジヒドロキシナフタレン80g、フェノール47
g、α−α′−p−キシレンジオール110gを用いポ
リヒドロキシナフタレン系化合物を製造した。得られた
共縮合物の平均分子量は950であった。
【0027】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例4)製造例1において、α−ナフトール96g、m−
クレゾール36g、α−α′−p−キシレンジオール1
00gを用いポリヒドロキシナフタレン系化合物を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は710であっ
た。
例4)製造例1において、α−ナフトール96g、m−
クレゾール36g、α−α′−p−キシレンジオール1
00gを用いポリヒドロキシナフタレン系化合物を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は710であっ
た。
【0028】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例5)製造例1において、α−ナフトール48g、o−
クレゾール72g、α−α′−p−キシレンジオール2
8g、パラホルムアルデヒド17gを用いポリヒドロキ
シナフタレン系化合物を製造した。得られた共縮合物の
平均分子量は670であった。
例5)製造例1において、α−ナフトール48g、o−
クレゾール72g、α−α′−p−キシレンジオール2
8g、パラホルムアルデヒド17gを用いポリヒドロキ
シナフタレン系化合物を製造した。得られた共縮合物の
平均分子量は670であった。
【0029】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例6)製造例1において、α−ナフトールの代りに1,
6−ジヒドロキシナフタレン80g、o−クレゾール5
4g、α−α′−p−キシレンジオール110gを用い
ポリヒドロキシナフタレン系化合物を製造した。得られ
た共縮合物の平均分子量は970であった。
例6)製造例1において、α−ナフトールの代りに1,
6−ジヒドロキシナフタレン80g、o−クレゾール5
4g、α−α′−p−キシレンジオール110gを用い
ポリヒドロキシナフタレン系化合物を製造した。得られ
た共縮合物の平均分子量は970であった。
【0030】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例7)製造例1において、α−ナフトール96g、キシ
レノール41g、α−α′−p−キシレンジオール10
0gを用いポリヒドロキシナフタレン系化合物を製造し
た。得られた共縮合物の平均分子量は730であった。
例7)製造例1において、α−ナフトール96g、キシ
レノール41g、α−α′−p−キシレンジオール10
0gを用いポリヒドロキシナフタレン系化合物を製造し
た。得られた共縮合物の平均分子量は730であった。
【0031】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例8)製造例1において、α−ナフトール48g、キシ
レノール82g、α−α′−p−キシレンジオール28
g、パラホルムアルデヒド17gを用いポリヒドロキシ
ナフタレン系化合物を製造した。得られた共縮合物の平
均分子量は790であった。
例8)製造例1において、α−ナフトール48g、キシ
レノール82g、α−α′−p−キシレンジオール28
g、パラホルムアルデヒド17gを用いポリヒドロキシ
ナフタレン系化合物を製造した。得られた共縮合物の平
均分子量は790であった。
【0032】(ポリヒドロキシナフタレン系化合物製造
例9)製造例1において、α−ナフトールの代りに1,
6−ジヒドロキシナフタレン80g、キシレノール61
g、α−α′−p−キシレンジオール110gを用いポ
リヒドロキシナフタレン系化合物を製造した。得られた
共縮合物の平均分子量は950であった。
例9)製造例1において、α−ナフトールの代りに1,
6−ジヒドロキシナフタレン80g、キシレノール61
g、α−α′−p−キシレンジオール110gを用いポ
リヒドロキシナフタレン系化合物を製造した。得られた
共縮合物の平均分子量は950であった。
【0033】実施例1〜9及び比較例1 主剤として、市販のo−クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂(日本化薬(株)のEOCN1020)、市販の
臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
(株)BREN−S)を用い、硬化剤としてはポリヒド
ロキシナフタレン系化合物製造例1〜9で得られた各ポ
リヒドロキシナフタレン系化合物、市販のフェノールノ
ボラック樹脂(荒川化学(株)のタマノール752)
を、硬化促進剤としてはトリフェニルフォスフィン、充
填剤としては球状シリカ(三菱金属(株)のBF10
0)、及びその他の材料として三酸化アンチモン、シラ
ンカップリング剤、ワックス、カーボンブラックを用
い、表1、表2に示す割合で配合して、二本ロールで7
0〜110℃の温度にて混練したのち冷却し、粉砕して
半導体封止用エポキシ樹脂組成物を調製した。
シ樹脂(日本化薬(株)のEOCN1020)、市販の
臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
(株)BREN−S)を用い、硬化剤としてはポリヒド
ロキシナフタレン系化合物製造例1〜9で得られた各ポ
リヒドロキシナフタレン系化合物、市販のフェノールノ
ボラック樹脂(荒川化学(株)のタマノール752)
を、硬化促進剤としてはトリフェニルフォスフィン、充
填剤としては球状シリカ(三菱金属(株)のBF10
0)、及びその他の材料として三酸化アンチモン、シラ
ンカップリング剤、ワックス、カーボンブラックを用
い、表1、表2に示す割合で配合して、二本ロールで7
0〜110℃の温度にて混練したのち冷却し、粉砕して
半導体封止用エポキシ樹脂組成物を調製した。
【0034】得られた組成物を、175℃、100kg
/cm2、3分間の硬化条件で成型し、ついで180
℃、6時間の条件でポストキュアーさせ成型試験片を作
製した。このパッケージは80ピン四方向フラットパッ
ケージ(80ピンQFP、サイズ;20×14×2m
m)であり、ダイパッドサイズ8×8mmである。
/cm2、3分間の硬化条件で成型し、ついで180
℃、6時間の条件でポストキュアーさせ成型試験片を作
製した。このパッケージは80ピン四方向フラットパッ
ケージ(80ピンQFP、サイズ;20×14×2m
m)であり、ダイパッドサイズ8×8mmである。
【0035】このようにして得られた半導体装置につい
て、−50℃/5分〜150℃/5分のTCTテストを
行いクラック発生数をみた。また、85℃/85%RH
の相対湿度の恒温槽中に放置して吸湿させた後に、26
0℃の半田溶融液に10秒間浸漬する試験を行った。こ
れらの結果を下記の表3、表4に示した。
て、−50℃/5分〜150℃/5分のTCTテストを
行いクラック発生数をみた。また、85℃/85%RH
の相対湿度の恒温槽中に放置して吸湿させた後に、26
0℃の半田溶融液に10秒間浸漬する試験を行った。こ
れらの結果を下記の表3、表4に示した。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
【表3】
【0039】
【表4】
【0040】
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化樹
脂のガラス転移温度が高く耐熱性、耐湿性に優れ、かつ
パッケージにクラックが発生しにくいため、半導体封止
用に適する。
脂のガラス転移温度が高く耐熱性、耐湿性に優れ、かつ
パッケージにクラックが発生しにくいため、半導体封止
用に適する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 秋月 伸也 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 斉藤 潔 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、
またはその混合物と、フェノール、クレゾール、または
キシレノールをキシレンジオールで共縮合したポリヒド
ロキシナフタレン系化合物を硬化剤とし、これとエポキ
シ樹脂、硬化促進剤を必須成分とするエポキシ樹脂組成
物。 - 【請求項2】 ポリヒドロキシナフタレン系化合物の平
均分子量が300〜2000である請求項1記載のエポ
キシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29328191A JPH05125158A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29328191A JPH05125158A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05125158A true JPH05125158A (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=17792803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29328191A Pending JPH05125158A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05125158A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6194491B1 (en) * | 1997-10-03 | 2001-02-27 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Biphenyl epoxy resin, naphthalene-containing phenolic resin and accelerator triphenylphosphine/p-benzoquinone |
-
1991
- 1991-11-08 JP JP29328191A patent/JPH05125158A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6194491B1 (en) * | 1997-10-03 | 2001-02-27 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Biphenyl epoxy resin, naphthalene-containing phenolic resin and accelerator triphenylphosphine/p-benzoquinone |
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