JPH0593038A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH0593038A JPH0593038A JP19036791A JP19036791A JPH0593038A JP H0593038 A JPH0593038 A JP H0593038A JP 19036791 A JP19036791 A JP 19036791A JP 19036791 A JP19036791 A JP 19036791A JP H0593038 A JPH0593038 A JP H0593038A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- dihydroxynaphthalene
- phenol
- aldehyde
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 24
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 claims abstract 4
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 11
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 abstract description 8
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 abstract description 8
- FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-diol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 7
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N terephthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=C(C=O)C=C1 KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 Aliphatic aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVHFXJOCUKBZFS-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)-2-methyloxirane Chemical compound ClCC1(C)CO1 VVHFXJOCUKBZFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylazaniumyl)methyl]phenolate Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1O FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N Methylcyclohexane Natural products CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMHAHUAQAJVBIW-UHFFFAOYSA-N [methyl(sulfamoyl)amino]methane Chemical compound CN(C)S(N)(=O)=O QMHAHUAQAJVBIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003944 halohydrins Chemical class 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Substances C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC2=CC(O)=CC=C21 DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(CC)CC NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WXAZIUYTQHYBFW-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)phosphane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 WXAZIUYTQHYBFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXORVIZLPOGIRG-UHFFFAOYSA-N β-methylphenethylamine Chemical compound NCC(C)C1=CC=CC=C1 AXORVIZLPOGIRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 この発明のエポキシ樹脂組成物は、ジヒドロ
キシナフタレンとフェノールをアルデヒドで共縮合した
平均分子量300〜2000のポリヒドロキシナフタレ
ン系化合物とエピハロヒドリンとから製造された多官能
性エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂、硬化剤、硬化
促進剤を必須成分とするものである。 【効果】 本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化樹脂の
ガラス転移温度が高く耐熱性に優れ、また機械的強度も
大きく、しかもナフタレンとフェノールを分子中に骨格
として含むため吸水率が少なく耐湿性に優れ、ハンダ処
理においてもクラックの発生がきわめて少ないためIC
の封止に適する。
キシナフタレンとフェノールをアルデヒドで共縮合した
平均分子量300〜2000のポリヒドロキシナフタレ
ン系化合物とエピハロヒドリンとから製造された多官能
性エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂、硬化剤、硬化
促進剤を必須成分とするものである。 【効果】 本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化樹脂の
ガラス転移温度が高く耐熱性に優れ、また機械的強度も
大きく、しかもナフタレンとフェノールを分子中に骨格
として含むため吸水率が少なく耐湿性に優れ、ハンダ処
理においてもクラックの発生がきわめて少ないためIC
の封止に適する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エポキシ樹脂組成物に
関する。詳しくは、ガラス転移温度が高く、ハンダリフ
ロー温度での強度が大で、かつ吸湿性が少なく、パッケ
ージクラックの入りにくい半導体封止用エポキシ樹脂組
成物に関する。
関する。詳しくは、ガラス転移温度が高く、ハンダリフ
ロー温度での強度が大で、かつ吸湿性が少なく、パッケ
ージクラックの入りにくい半導体封止用エポキシ樹脂組
成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子を外環境から守るた
め、エポキシ樹脂組成物で封止する方法が広く採用され
てきた。本組成物の一般的な構成は、エポキシ樹脂、硬
化剤、硬化促進剤、充填剤、その他配合剤からなり、エ
ポキシ樹脂としては、フェノール類とホルムアルデヒド
とを反応したノボラック樹脂をエポキシ化したもの、特
にオルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂が広く用い
られ、硬化剤にはフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂が採用されてきた。
め、エポキシ樹脂組成物で封止する方法が広く採用され
てきた。本組成物の一般的な構成は、エポキシ樹脂、硬
化剤、硬化促進剤、充填剤、その他配合剤からなり、エ
ポキシ樹脂としては、フェノール類とホルムアルデヒド
とを反応したノボラック樹脂をエポキシ化したもの、特
にオルトクレゾールノボラックエポキシ樹脂が広く用い
られ、硬化剤にはフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂が採用されてきた。
【0003】近年、半導体素子はますます高集積化大型
化し、多ピンのフラットパッケージが実用化され、封止
された素子にしめるエポキシ樹脂の割合が減少する傾向
にある。このため封止時に強い応力を受けやすく、実装
方式も表面実装方式がとられ、実装時に樹脂封止された
半導体を溶融ハンダ中に浸せきするため、強い熱ストレ
スを受けるとともに、樹脂内部に吸湿されている水が急
激に気化して体積膨張をおこす厳しい環境にさらされ
る。
化し、多ピンのフラットパッケージが実用化され、封止
された素子にしめるエポキシ樹脂の割合が減少する傾向
にある。このため封止時に強い応力を受けやすく、実装
方式も表面実装方式がとられ、実装時に樹脂封止された
半導体を溶融ハンダ中に浸せきするため、強い熱ストレ
スを受けるとともに、樹脂内部に吸湿されている水が急
激に気化して体積膨張をおこす厳しい環境にさらされ
る。
【0004】前記エポキシ樹脂をもちいて、大容量半導
体を封止した場合、パッケージにクラックが発生する問
題が生じ、ボンディングワイヤが変形したり腐食による
断線が生じたり、素子バッシベーションのクラックなど
が発生しやすい問題がある。このため、高性能なエポキ
シ樹脂が種々提案されているが、未だ問題の解決には至
っていない。
体を封止した場合、パッケージにクラックが発生する問
題が生じ、ボンディングワイヤが変形したり腐食による
断線が生じたり、素子バッシベーションのクラックなど
が発生しやすい問題がある。このため、高性能なエポキ
シ樹脂が種々提案されているが、未だ問題の解決には至
っていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ガラス転移
温度が高く耐熱性に優れ、かつ耐湿性に優れたパッケー
ジにクラックが発生しにくい、新規な半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物を提供することにある。
温度が高く耐熱性に優れ、かつ耐湿性に優れたパッケー
ジにクラックが発生しにくい、新規な半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、第
一の発明としてジヒドロキシナフタレンとフェノールを
アルデヒドで共縮合した平均分子量300〜2000の
ポリヒドロキシナフタレン系化合物とエピハロヒドリン
とから製造された多官能性エポキシ樹脂を含有するエポ
キシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤を必須成分とするエポキ
シ樹脂組成物であり、第二の発明としてジヒドロキシナ
フタレンとフェノールとアルデヒドの共縮合物におい
て、1分子中にジヒドロキシナフタレン分子単位70〜
30モル%とフェノール分子単位を30〜70モル%
(アルデヒド分子単位除外換算)含み、平均分子量が4
00〜1500のポリヒドロキシナフタレン系化合物と
エピハロヒドリンとから製造された多官能性エポキシ樹
脂を含有するエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤を必須
成分とするエポキシ樹脂組成物である。
一の発明としてジヒドロキシナフタレンとフェノールを
アルデヒドで共縮合した平均分子量300〜2000の
ポリヒドロキシナフタレン系化合物とエピハロヒドリン
とから製造された多官能性エポキシ樹脂を含有するエポ
キシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤を必須成分とするエポキ
シ樹脂組成物であり、第二の発明としてジヒドロキシナ
フタレンとフェノールとアルデヒドの共縮合物におい
て、1分子中にジヒドロキシナフタレン分子単位70〜
30モル%とフェノール分子単位を30〜70モル%
(アルデヒド分子単位除外換算)含み、平均分子量が4
00〜1500のポリヒドロキシナフタレン系化合物と
エピハロヒドリンとから製造された多官能性エポキシ樹
脂を含有するエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤を必須
成分とするエポキシ樹脂組成物である。
【0007】[手段を構成する要件]本発明に使用す
る、ジヒドロキシナフタレンとフェノールとアルデヒド
の共縮合物において、ジヒドロキシナフタレンは、1・
5ジヒドロキシナフタレン、1・6ジヒドロキシナフタ
レン、1・7ジヒドロキシナフタレン、2・6ジヒドロ
キシナフタレン、2・7ジヒドロキシナフタレン、1・
4ジヒドロキシナフタレン、1・2ジヒドロキシナフタ
レン、1・3ジヒドロキシナフタレン、2・3ジヒドロ
キシナフタレンなどが挙げられる。中でも、共重合性の
高い1・6ジヒドロキシナフタレン、2・7ジヒドロキ
シナフタレン、1・4ジヒドロキシナフタレンが特に好
ましい。
る、ジヒドロキシナフタレンとフェノールとアルデヒド
の共縮合物において、ジヒドロキシナフタレンは、1・
5ジヒドロキシナフタレン、1・6ジヒドロキシナフタ
レン、1・7ジヒドロキシナフタレン、2・6ジヒドロ
キシナフタレン、2・7ジヒドロキシナフタレン、1・
4ジヒドロキシナフタレン、1・2ジヒドロキシナフタ
レン、1・3ジヒドロキシナフタレン、2・3ジヒドロ
キシナフタレンなどが挙げられる。中でも、共重合性の
高い1・6ジヒドロキシナフタレン、2・7ジヒドロキ
シナフタレン、1・4ジヒドロキシナフタレンが特に好
ましい。
【0008】アルデヒドは、例えばホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルア
ルデヒド、ブチルアルデヒド、グリオキザールなどの脂
肪族アルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、テレフタルアル
デヒドなどの芳香族アルデヒドが利用でき、中でもパラ
ホルムアルデヒドや芳香族のベンズアルデヒド、p−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、テレ
フタルアルデヒドが好ましい。これらのアルデヒドは1
種類を用いて反応させてもよく、2種類以上を併用して
反応させることも可能である。
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルア
ルデヒド、ブチルアルデヒド、グリオキザールなどの脂
肪族アルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、テレフタルアル
デヒドなどの芳香族アルデヒドが利用でき、中でもパラ
ホルムアルデヒドや芳香族のベンズアルデヒド、p−ヒ
ドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、テレ
フタルアルデヒドが好ましい。これらのアルデヒドは1
種類を用いて反応させてもよく、2種類以上を併用して
反応させることも可能である。
【0009】共縮合物を得るための、各成分の使用量
は、アルデヒド分子を除外した換算でジヒドロキシナフ
タレン70〜30モル%とフェノール30〜70モル%
の配合物1モルに対しアルデヒド0.3〜0.95モル
が好ましく、この時の共縮合物の平均分子量は400〜
1500が望ましい。尚、アルデヒドの使用量を多くし
反応途中でそれらの一部を除去することもできる。
は、アルデヒド分子を除外した換算でジヒドロキシナフ
タレン70〜30モル%とフェノール30〜70モル%
の配合物1モルに対しアルデヒド0.3〜0.95モル
が好ましく、この時の共縮合物の平均分子量は400〜
1500が望ましい。尚、アルデヒドの使用量を多くし
反応途中でそれらの一部を除去することもできる。
【0010】分子中のジヒドロキシナフタレン分子単位
の含有量が少ない場合はエポキシ樹脂組成物の耐熱性が
悪くなり、多すぎる場合は耐湿性に問題が生じる。ま
た、アルデヒドはパラホルムアルデヒドや芳香族の場合
耐湿性に優れ、使用量が少ない場合は共縮合物は適正な
平均分子量より小さくなるため耐熱性に劣り、多すぎる
と平均分子量が高くなりすぎるため高粘度になり成形性
に問題が生じる。共縮合物の適正な平均分子量は300
〜2000であり、好ましくは400〜1500であ
る。
の含有量が少ない場合はエポキシ樹脂組成物の耐熱性が
悪くなり、多すぎる場合は耐湿性に問題が生じる。ま
た、アルデヒドはパラホルムアルデヒドや芳香族の場合
耐湿性に優れ、使用量が少ない場合は共縮合物は適正な
平均分子量より小さくなるため耐熱性に劣り、多すぎる
と平均分子量が高くなりすぎるため高粘度になり成形性
に問題が生じる。共縮合物の適正な平均分子量は300
〜2000であり、好ましくは400〜1500であ
る。
【0011】共縮合反応は、通常、触媒として酸やアル
カリあるいは最初アルカリを次に酸を用いる2段階法な
どが利用されるが、酸を用いるのが一般的である。酸
は、硫酸、塩酸、硝酸、臭化水素酸などの鉱酸、バラト
ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン
酸類、シュウ酸、コハク酸、マロン酸などのカルボン酸
類が使用される。また触媒を用いなくても高温に加熱す
るだけで反応することも可能である。溶媒は必ずしも必
要とするものではないが、ベンゼン、トルエン、クロル
ベンゼン、ジクロルベンゼン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルフォオキシド、ジメチルスルフォアミドなどの溶媒
を用いて反応することができる。反応温度は50〜20
0℃好ましくは脂肪族アルデヒドの場合には60〜15
0℃、芳香族アルデヒドの場合は60〜190℃で、1
〜10時間反応させる。この後、必要により不純物を水
洗して除去したり、溶剤洗浄や減圧脱気で未反応モノマ
ーを除去する。
カリあるいは最初アルカリを次に酸を用いる2段階法な
どが利用されるが、酸を用いるのが一般的である。酸
は、硫酸、塩酸、硝酸、臭化水素酸などの鉱酸、バラト
ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン
酸類、シュウ酸、コハク酸、マロン酸などのカルボン酸
類が使用される。また触媒を用いなくても高温に加熱す
るだけで反応することも可能である。溶媒は必ずしも必
要とするものではないが、ベンゼン、トルエン、クロル
ベンゼン、ジクロルベンゼン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルフォオキシド、ジメチルスルフォアミドなどの溶媒
を用いて反応することができる。反応温度は50〜20
0℃好ましくは脂肪族アルデヒドの場合には60〜15
0℃、芳香族アルデヒドの場合は60〜190℃で、1
〜10時間反応させる。この後、必要により不純物を水
洗して除去したり、溶剤洗浄や減圧脱気で未反応モノマ
ーを除去する。
【0012】本発明の共縮合物をベースにした多官能性
エポキシ樹脂は、前記のジヒドロキシナフタレンとフェ
ノールをアルデヒドで共縮合したポリヒドロキシナフタ
レン系化合物とエピハロヒドリンを反応させることによ
り得られるが、通常、反応は次の代表的な二つの方法が
利用できる。
エポキシ樹脂は、前記のジヒドロキシナフタレンとフェ
ノールをアルデヒドで共縮合したポリヒドロキシナフタ
レン系化合物とエピハロヒドリンを反応させることによ
り得られるが、通常、反応は次の代表的な二つの方法が
利用できる。
【0013】1)ポリヒドロキシナフタレン系化合物と
過剰のエピハロヒドリンとをアルカリ金属水酸化物の存
在下で付加反応とエポキシ環を形成する閉環反応を同時
に行なわせる一段法。
過剰のエピハロヒドリンとをアルカリ金属水酸化物の存
在下で付加反応とエポキシ環を形成する閉環反応を同時
に行なわせる一段法。
【0014】2)ポリヒドロキシナフタレン系化合物と
過剰のエピハロヒドリンとを塩基性触媒の存在下で付加
反応させ、次いでアルカリ金属水酸化物を添加して閉環
反応させる二段法。
過剰のエピハロヒドリンとを塩基性触媒の存在下で付加
反応させ、次いでアルカリ金属水酸化物を添加して閉環
反応させる二段法。
【0015】この反応におけるエピハロヒドリンとは、
エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、β−メチル
エピクロルヒドリン、β−メチルエピブロモヒドリン、
β−メチルエピヨードヒドリンなどがあげられるが、エ
ピクロルヒドリンが好ましい。
エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、β−メチル
エピクロルヒドリン、β−メチルエピブロモヒドリン、
β−メチルエピヨードヒドリンなどがあげられるが、エ
ピクロルヒドリンが好ましい。
【0016】また、この反応におけるアルカリ金属水酸
化物としては、カセイソーダ、カセイカリが使用され、
これらは固体のままか、40〜50%水溶液で反応系に
添加される。
化物としては、カセイソーダ、カセイカリが使用され、
これらは固体のままか、40〜50%水溶液で反応系に
添加される。
【0017】また、前記の反応における塩基性触媒とし
ては、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチ
ルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムク
ロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラブ
チルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウム
ブロミド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、ト
リメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベ
ンジルアンモニウムクロリドなどの四級アンモニウム塩
が使用される。
ては、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチ
ルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムク
ロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラブ
チルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウム
ブロミド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、ト
リメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベ
ンジルアンモニウムクロリドなどの四級アンモニウム塩
が使用される。
【0018】前記の一段法においては、50〜150
℃、好ましくは80〜120℃の温度で反応する。アル
カリ水酸化物はポリヒドロキシナフタレン系化合物の水
酸基1当量あたり、0.8〜1.5モル当量好ましくは
0.9〜1.1モル当量使用する。
℃、好ましくは80〜120℃の温度で反応する。アル
カリ水酸化物はポリヒドロキシナフタレン系化合物の水
酸基1当量あたり、0.8〜1.5モル当量好ましくは
0.9〜1.1モル当量使用する。
【0019】また、前記の二段法においては、前段の反
応は60〜150℃好ましくは100〜140℃の温度
で行なう。エピハロヒドリンの使用量はポリヒドロキシ
ナフタレン系化合物の水酸基1当量に対して、1.3〜
20モル当量好ましくは2〜10モル当量であり、過剰
のエピハロヒドリンは反応後に回収して再使用できる。
応は60〜150℃好ましくは100〜140℃の温度
で行なう。エピハロヒドリンの使用量はポリヒドロキシ
ナフタレン系化合物の水酸基1当量に対して、1.3〜
20モル当量好ましくは2〜10モル当量であり、過剰
のエピハロヒドリンは反応後に回収して再使用できる。
【0020】また、塩基性触媒は、ポリヒドロキシナフ
タレン系化合物の水酸基に対して、0.002〜3.0
モル%の割合で使用される。後段の反応は、50〜15
0℃好ましくは60〜120℃で行なう。アルカリ金属
水酸化物は生成したハロヒドリンに対して通常、1〜
1.1モル量用いられる。
タレン系化合物の水酸基に対して、0.002〜3.0
モル%の割合で使用される。後段の反応は、50〜15
0℃好ましくは60〜120℃で行なう。アルカリ金属
水酸化物は生成したハロヒドリンに対して通常、1〜
1.1モル量用いられる。
【0021】これらの前段および後段の反応は、無溶媒
下でもよく、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ン、トルエンなどの不活性溶媒の存在下で行なってもよ
い。これらは、反応終了後に、水洗や溶媒洗浄で精製し
たり、蒸発脱気を行なって本発明の多官能性エポキシ樹
脂を得る。
下でもよく、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ン、トルエンなどの不活性溶媒の存在下で行なってもよ
い。これらは、反応終了後に、水洗や溶媒洗浄で精製し
たり、蒸発脱気を行なって本発明の多官能性エポキシ樹
脂を得る。
【0022】本発明の多官能性エポキシ樹脂は、単独で
用いてもよいし、70wt%以下好ましくは50wt%
以下の一般のエポキシ樹脂、たとえばオルトクレゾール
レジンエポキシ樹脂、ビスフェノールAベースエポキシ
樹脂、フェノールレジンエポキシ樹脂と併用して用いる
こともできる。
用いてもよいし、70wt%以下好ましくは50wt%
以下の一般のエポキシ樹脂、たとえばオルトクレゾール
レジンエポキシ樹脂、ビスフェノールAベースエポキシ
樹脂、フェノールレジンエポキシ樹脂と併用して用いる
こともできる。
【0023】次に、本発明の硬化剤は、分子中に2個以
上好ましくは3個以上のフェノール性水酸基を有するも
のである。具体的には、フェノールや置換フェノール、
例えば、o−クレゾール、p−クレゾール、t−ブチル
フェノール、クミルフェノール、フェニルフェノールと
ホルムアルデヒドを酸やアルカリで反応したものが挙げ
られる。ホルムアルデヒドの替わりに、ほかのアルデヒ
ド、例えば、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、
サリチルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、グ
リオキザール、テレフタルアルデヒドを用いた物も利用
できる。レゾルシンとアルデヒドの反応物やポリビニル
フェノールも本発明の硬化剤として用いることができ
る。
上好ましくは3個以上のフェノール性水酸基を有するも
のである。具体的には、フェノールや置換フェノール、
例えば、o−クレゾール、p−クレゾール、t−ブチル
フェノール、クミルフェノール、フェニルフェノールと
ホルムアルデヒドを酸やアルカリで反応したものが挙げ
られる。ホルムアルデヒドの替わりに、ほかのアルデヒ
ド、例えば、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、
サリチルアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、グ
リオキザール、テレフタルアルデヒドを用いた物も利用
できる。レゾルシンとアルデヒドの反応物やポリビニル
フェノールも本発明の硬化剤として用いることができ
る。
【0024】硬化剤の配合割合は、エポキシ樹脂のエポ
キシ基に対する硬化剤のフェノール性水酸基の当量比
(エポキシ基/フェノール性水酸基)が通常、1/0.
8〜1/1.2、好ましくは1/0.9〜1/1.1の
範囲が耐熱性、耐湿性の点から選ばれる。
キシ基に対する硬化剤のフェノール性水酸基の当量比
(エポキシ基/フェノール性水酸基)が通常、1/0.
8〜1/1.2、好ましくは1/0.9〜1/1.1の
範囲が耐熱性、耐湿性の点から選ばれる。
【0025】本発明に用いる硬化促進剤は通常の触媒で
あり、特に限定されない。硬化促進剤の具体例として
は、たとえばトリフェニルフォスフィン、トリス−2,
6ジメトキシフェニルフォスフィン、トリ−pトリルフ
ォスフィン、亜リン酸トリフェニルなどのリン化合物、
2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、
2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダ
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイ
ミダゾール類、2−ジメチルアミノメチルフェノール、
ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルメチルア
ミンなどの第三アミン類、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7、1,8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン−7の有機酸塩類などがあ
げられる。
あり、特に限定されない。硬化促進剤の具体例として
は、たとえばトリフェニルフォスフィン、トリス−2,
6ジメトキシフェニルフォスフィン、トリ−pトリルフ
ォスフィン、亜リン酸トリフェニルなどのリン化合物、
2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、
2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダ
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイ
ミダゾール類、2−ジメチルアミノメチルフェノール、
ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルメチルア
ミンなどの第三アミン類、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7、1,8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン−7の有機酸塩類などがあ
げられる。
【0026】硬化促進剤の配合量は、本発明の組成物中
0.1〜3.0%であるのが耐熱性と耐湿性の点から好
ましい。
0.1〜3.0%であるのが耐熱性と耐湿性の点から好
ましい。
【0027】本発明では、前記の各成分のほかに、必要
に応じてさらに種々のものを配合することができる。例
えば、充填剤や充填剤の表面を処理するための表面処理
剤や難燃剤や離型剤や着色剤や可撓性付与剤である。
に応じてさらに種々のものを配合することができる。例
えば、充填剤や充填剤の表面を処理するための表面処理
剤や難燃剤や離型剤や着色剤や可撓性付与剤である。
【0028】充填剤としてはとくに限定はなく、例え
ば、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉、石英ガラス粉、
タルク、ケイ酸カルシュウム粉、ケイ酸ジルコニュウム
粉、アルミナ粉、炭酸カルシュウム粉などがあげられる
が、シリカ系のものが好ましい。
ば、結晶性シリカ粉、溶融性シリカ粉、石英ガラス粉、
タルク、ケイ酸カルシュウム粉、ケイ酸ジルコニュウム
粉、アルミナ粉、炭酸カルシュウム粉などがあげられる
が、シリカ系のものが好ましい。
【0029】充填剤の配合割合は、全組成物に対して6
0〜90wt%、好ましくは70〜85wt%である。
充填剤の配合量が90wt%をこえると、組成物の流動
性が低くなって成形がむつかしく、60wt%未満では
熱膨張が大きくなる傾向がある。
0〜90wt%、好ましくは70〜85wt%である。
充填剤の配合量が90wt%をこえると、組成物の流動
性が低くなって成形がむつかしく、60wt%未満では
熱膨張が大きくなる傾向がある。
【0030】表面処理剤としては、公知のシランカップ
リング剤などがあげられ、難燃剤としては三酸化アンチ
モン、五酸化アンチモン、リン酸塩、臭素化物があげら
れ、離型剤としては各種ワックス類を、着色剤にはカー
ボンブラックなどを、可撓性付与剤としてはシリコーン
樹脂、ブタジエン−アクリルニトリルゴムなどが用いら
れる。但し、これらに限定されるものではない。
リング剤などがあげられ、難燃剤としては三酸化アンチ
モン、五酸化アンチモン、リン酸塩、臭素化物があげら
れ、離型剤としては各種ワックス類を、着色剤にはカー
ボンブラックなどを、可撓性付与剤としてはシリコーン
樹脂、ブタジエン−アクリルニトリルゴムなどが用いら
れる。但し、これらに限定されるものではない。
【0031】本発明のエポキシ樹脂組成物の調製方法は
とくに限定されず、常法によって行なえる。また、本発
明の樹脂組成物を用いて半導体を封止する際の条件にも
とくに限定はなく、通常、175℃、成形圧100kg
/cm2、3分間の成形と180℃、6時間の後硬化の
ごとき条件が採用される。
とくに限定されず、常法によって行なえる。また、本発
明の樹脂組成物を用いて半導体を封止する際の条件にも
とくに限定はなく、通常、175℃、成形圧100kg
/cm2、3分間の成形と180℃、6時間の後硬化の
ごとき条件が採用される。
【0032】
【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の態様
を具体的に例示して説明する。本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
を具体的に例示して説明する。本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
【0033】エポキシ樹脂製造例1共縮合物の製造攪拌
装置、還流冷却管、温度計、窒素吹込口を備えた反応容
器内に、1・6ジヒドロキシナフタレン107g、フェ
ノール31g、パラホルムアルデヒド23g、シュウ酸
0.2gを仕込み、110℃に加熱して窒素気流下で8
時間攪拌して反応した。この後、200℃に加熱し5m
mHgで未反応物と水を除去した。得られた共縮合物の
平均分子量は590であった。
装置、還流冷却管、温度計、窒素吹込口を備えた反応容
器内に、1・6ジヒドロキシナフタレン107g、フェ
ノール31g、パラホルムアルデヒド23g、シュウ酸
0.2gを仕込み、110℃に加熱して窒素気流下で8
時間攪拌して反応した。この後、200℃に加熱し5m
mHgで未反応物と水を除去した。得られた共縮合物の
平均分子量は590であった。
【0034】エポキシの製造前記共縮合物の全量とエピ
クロルヒドリン2000gとテトラブチルアンモニウム
ブロマイド3gを仕込み加熱還流下で3時間反応させ、
減圧下で過剰のエピクロルヒドリンを除去した。内容物
と同量のトルエンを加え60℃に冷却し、水分除去装置
をつけて水酸化ナトリウム67gを加え、生成する水を
減圧度100〜150mmHgで連続的に除去しながら
閉環反応させた。水洗して塩類や未反応アルカリを除去
した後減圧下でトルエンと水などを除去した。
クロルヒドリン2000gとテトラブチルアンモニウム
ブロマイド3gを仕込み加熱還流下で3時間反応させ、
減圧下で過剰のエピクロルヒドリンを除去した。内容物
と同量のトルエンを加え60℃に冷却し、水分除去装置
をつけて水酸化ナトリウム67gを加え、生成する水を
減圧度100〜150mmHgで連続的に除去しながら
閉環反応させた。水洗して塩類や未反応アルカリを除去
した後減圧下でトルエンと水などを除去した。
【0035】エポキシ樹脂製造例2共縮合物の製造にお
いて、1・6ジヒドロキシナフタレンの替わりに1・4
ジヒドロキシナフタレンを80g用い、フェノール47
g、パラホルムアルデヒドを21g、カセイソーダを6
0gとした以外は製造例1と同様にエポキシ樹脂を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は460であっ
た。
いて、1・6ジヒドロキシナフタレンの替わりに1・4
ジヒドロキシナフタレンを80g用い、フェノール47
g、パラホルムアルデヒドを21g、カセイソーダを6
0gとした以外は製造例1と同様にエポキシ樹脂を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は460であっ
た。
【0036】エポキシ樹脂製造例3共縮合物の製造にお
いて、1・6ジヒドロキシナフタレンの替わりに2・7
ジヒドロキシナフタレンを54g用い、フェノール63
g、パラホルムアルデヒドを27g、カセイソーダを5
3gとした以外は製造例1と同様にエポキシ樹脂を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は820であっ
た。
いて、1・6ジヒドロキシナフタレンの替わりに2・7
ジヒドロキシナフタレンを54g用い、フェノール63
g、パラホルムアルデヒドを27g、カセイソーダを5
3gとした以外は製造例1と同様にエポキシ樹脂を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は820であっ
た。
【0037】エポキシ樹脂製造例4共縮合物の製造にお
いて、パラホルムアルデヒドの替わりにベンズアルデヒ
ド90g、シュウ酸の替わりにp−トルエンスルホン酸
を用い、その他は製造例2と同様にエポキシ樹脂を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は970であっ
た。
いて、パラホルムアルデヒドの替わりにベンズアルデヒ
ド90g、シュウ酸の替わりにp−トルエンスルホン酸
を用い、その他は製造例2と同様にエポキシ樹脂を製造
した。得られた共縮合物の平均分子量は970であっ
た。
【0038】エポキシ樹脂製造例5共縮合物の製造にお
いて、ベンズアルデヒドの替わりにp−ヒドロキシベン
ズアルデヒド98gを用い、反応温度を180℃にした
以外は製造例4と同様にエポキシ樹脂を製造した。得ら
れた共縮合物の平均分子量は1030であった。
いて、ベンズアルデヒドの替わりにp−ヒドロキシベン
ズアルデヒド98gを用い、反応温度を180℃にした
以外は製造例4と同様にエポキシ樹脂を製造した。得ら
れた共縮合物の平均分子量は1030であった。
【0039】エポキシ樹脂製造例6共縮合物の製造にお
いて、ベンズアルデヒドの替わりにサリチルアルデヒド
98gを用い、その他は製造例4と同様にエポキシ樹脂
を製造した。得られた共縮合物の平均分子量は1040
であった。
いて、ベンズアルデヒドの替わりにサリチルアルデヒド
98gを用い、その他は製造例4と同様にエポキシ樹脂
を製造した。得られた共縮合物の平均分子量は1040
であった。
【0040】エポキシ樹脂製造例7共縮合物の製造にお
いて、ベンズアルデヒドの替わりにテレフタルアルデヒ
ド57gを用い、その他は製造例4と同様にエポキシ樹
脂を製造した。得られた共縮合物の平均分子量は680
であった。
いて、ベンズアルデヒドの替わりにテレフタルアルデヒ
ド57gを用い、その他は製造例4と同様にエポキシ樹
脂を製造した。得られた共縮合物の平均分子量は680
であった。
【0041】実施例1〜7及び比較例1エポキシ樹脂と
して、エポキシ樹脂製造例1〜7で得られた各エポキシ
樹脂、市販のo−クレゾールノボラックエポキシ樹脂
(日本化薬(株)のEOCN1020)及び市販の臭素
化フェノールノボラックエポキシ樹脂(日本化薬(株)
のBREN−S)を用い、硬化剤としてはフェノールノ
ボラック樹脂(荒川化学(株)のタマノール752)
を、硬化促進剤としてはトリフェニルフォスフィン、充
填剤としては球状シリカ(三菱金属(株)のBF10
0)、及びその他の材料として三酸化アンチモン、シラ
ンカップリング剤、ワックス、カーボンブラックを用
い、表1に示す割合で配合して、二本ロールで70〜1
10℃の温度にて混練したのち冷却し、粉砕して半導体
封止用エポキシ樹脂組成物を調製した。
して、エポキシ樹脂製造例1〜7で得られた各エポキシ
樹脂、市販のo−クレゾールノボラックエポキシ樹脂
(日本化薬(株)のEOCN1020)及び市販の臭素
化フェノールノボラックエポキシ樹脂(日本化薬(株)
のBREN−S)を用い、硬化剤としてはフェノールノ
ボラック樹脂(荒川化学(株)のタマノール752)
を、硬化促進剤としてはトリフェニルフォスフィン、充
填剤としては球状シリカ(三菱金属(株)のBF10
0)、及びその他の材料として三酸化アンチモン、シラ
ンカップリング剤、ワックス、カーボンブラックを用
い、表1に示す割合で配合して、二本ロールで70〜1
10℃の温度にて混練したのち冷却し、粉砕して半導体
封止用エポキシ樹脂組成物を調製した。
【0042】得られた組成物を、175℃、100kg
/cm2、3分間の硬化条件で成形し、ついで180
℃、6時間の条件でポストキュアーさせ成形試験片を作
成した。
/cm2、3分間の硬化条件で成形し、ついで180
℃、6時間の条件でポストキュアーさせ成形試験片を作
成した。
【0043】得られた試験片の200℃における曲げ強
度(高温強度)、ガラス転移温度、熱膨張係数、85
℃、85%RHで500時間の加湿試験後の吸水率を調
べるとともに、耐ヒートショック性を次のように試験し
た。
度(高温強度)、ガラス転移温度、熱膨張係数、85
℃、85%RHで500時間の加湿試験後の吸水率を調
べるとともに、耐ヒートショック性を次のように試験し
た。
【0044】耐ヒートショック性ダイボンディングプレ
ート上に半導体素子を置き、小型IC成形品を10個作
成する。85℃、85%RH、72時間後、液体窒素と
260℃の半田浴にそれぞれ10秒間浸せきし、クラッ
クの発生が生じた個数を調べた。
ート上に半導体素子を置き、小型IC成形品を10個作
成する。85℃、85%RH、72時間後、液体窒素と
260℃の半田浴にそれぞれ10秒間浸せきし、クラッ
クの発生が生じた個数を調べた。
【0045】これらの結果を表2に示す。
【0046】
【表1】
【0047】
【表2】
【0048】
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化樹
脂のガラス転移温度が高く耐熱性に優れ、また機械的強
度も大きく、しかもナフタレンとフェノールを分子中に
骨格として含むため吸水率が少なく耐湿性に優れ、ハン
ダ処理においてもクラックの発生がきわめて少ないため
ICの封止に適する。
脂のガラス転移温度が高く耐熱性に優れ、また機械的強
度も大きく、しかもナフタレンとフェノールを分子中に
骨格として含むため吸水率が少なく耐湿性に優れ、ハン
ダ処理においてもクラックの発生がきわめて少ないため
ICの封止に適する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 秋月 伸也 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 ジヒドロキシナフタレンとフェノールを
アルデヒドで共縮合した平均分子量300〜2000の
ポリヒドロキシナフタレン系化合物とエピハロヒドリン
とから製造された多官能性エポキシ樹脂を含有するエポ
キシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤を必須成分とするエポキ
シ樹脂組成物。 - 【請求項2】 ジヒドロキシナフタレンとフェノールと
アルデヒドの共縮合物において、1分子中にジヒドロキ
シナフタレン分子単位70〜30モル%とフェノール分
子単位を30〜70モル%(アルデヒド分子単位除外換
算)含み、平均分子量が400〜1500のポリヒドロ
キシナフタレン系化合物とエピハロヒドリンとから製造
された多官能性エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂、
硬化剤、硬化促進剤を必須成分とするエポキシ樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19036791A JPH0593038A (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19036791A JPH0593038A (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0593038A true JPH0593038A (ja) | 1993-04-16 |
Family
ID=16257004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19036791A Pending JPH0593038A (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0593038A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7345102B2 (en) * | 2003-10-16 | 2008-03-18 | Nitto Denko Corporation | Epoxy resin composition for encapsulating optical semiconductor element and optical semiconductor device using the same |
US7372132B2 (en) | 2004-03-15 | 2008-05-13 | Hitachi, Ltd. | Resin encapsulated semiconductor device and the production method |
WO2010047169A1 (ja) * | 2008-10-22 | 2010-04-29 | Dic株式会社 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板、エポキシ樹脂、及びその製造方法 |
WO2015060306A1 (ja) * | 2013-10-23 | 2015-04-30 | 日本化薬株式会社 | エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、およびその硬化物 |
-
1991
- 1991-07-30 JP JP19036791A patent/JPH0593038A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7345102B2 (en) * | 2003-10-16 | 2008-03-18 | Nitto Denko Corporation | Epoxy resin composition for encapsulating optical semiconductor element and optical semiconductor device using the same |
US7372132B2 (en) | 2004-03-15 | 2008-05-13 | Hitachi, Ltd. | Resin encapsulated semiconductor device and the production method |
WO2010047169A1 (ja) * | 2008-10-22 | 2010-04-29 | Dic株式会社 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板、エポキシ樹脂、及びその製造方法 |
WO2015060306A1 (ja) * | 2013-10-23 | 2015-04-30 | 日本化薬株式会社 | エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、およびその硬化物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02189326A (ja) | 電子部品封止用エポキシ樹脂組成物 | |
US5302673A (en) | Poly-hydroxynaphthalene compounds and epoxy resin composition | |
JPH0593038A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH07258240A (ja) | グリシジルエーテル化合物及びエポキシ樹脂組成物 | |
JPH0570552A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0570556A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0593035A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0570553A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH05186546A (ja) | ポリヒドロキシナフタレン系化合物およびエポキシ樹脂組成物 | |
JPH05132543A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0570549A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0532760A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0593037A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0593040A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0593036A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0593034A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0525248A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0570551A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0593039A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0593033A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0525249A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0570557A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH04372618A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0570554A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH05186547A (ja) | ポリヒドロキシ芳香族化合物、それを用いたエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂組成物 |