JPH05121301A - 電子ビーム描画方法 - Google Patents
電子ビーム描画方法Info
- Publication number
- JPH05121301A JPH05121301A JP28263391A JP28263391A JPH05121301A JP H05121301 A JPH05121301 A JP H05121301A JP 28263391 A JP28263391 A JP 28263391A JP 28263391 A JP28263391 A JP 28263391A JP H05121301 A JPH05121301 A JP H05121301A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- control unit
- rectangular
- beam irradiation
- perform
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビーム描画方法において、スループット
を低下することなく、先頭位置のパターン精度を向上す
る。 【構成】 少なくとも、本体Ａ，電子ビーム照射順序制
御部Ｂ，電子ビームサイズ制御部Ｃおよび電子ビームシ
ョット制御部Ｄを備えた電子ビーム描画装置により矩形
電子ビームを照射して電子ビーム描画を行う方法におい
て、隣合う位置を連続して描画しないように電子ビーム
照射順序１，２，３，４……を設定して描画する。
を低下することなく、先頭位置のパターン精度を向上す
る。 【構成】 少なくとも、本体Ａ，電子ビーム照射順序制
御部Ｂ，電子ビームサイズ制御部Ｃおよび電子ビームシ
ョット制御部Ｄを備えた電子ビーム描画装置により矩形
電子ビームを照射して電子ビーム描画を行う方法におい
て、隣合う位置を連続して描画しないように電子ビーム
照射順序１，２，３，４……を設定して描画する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、矩形電子ビームを用い
た電子ビーム描画方法に係り、特にパターン精度を向上
する電子ビーム描画方法に関する。
た電子ビーム描画方法に係り、特にパターン精度を向上
する電子ビーム描画方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の矩形電子ビームを用いた電子ビー
ム描画方法に用いる電子ビーム描画装置は、図９に示す
ように本体Ａに電子ビーム照射順序制御部Ｂ，電子ビー
ムサイズ制御部Ｃ，電子ビームショット制御部Ｄを備え
たものであった。そして電子ビーム描画方法は図１０に
示すように、一定の電子ビームサイズと一定の電子ビー
ムショットで１から１０まで順次照射していた。また、
他の従来例は図１１に示すように図形の端の１から順次
照射していた。
ム描画方法に用いる電子ビーム描画装置は、図９に示す
ように本体Ａに電子ビーム照射順序制御部Ｂ，電子ビー
ムサイズ制御部Ｃ，電子ビームショット制御部Ｄを備え
たものであった。そして電子ビーム描画方法は図１０に
示すように、一定の電子ビームサイズと一定の電子ビー
ムショットで１から１０まで順次照射していた。また、
他の従来例は図１１に示すように図形の端の１から順次
照射していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法では、図１２および図１３に示すように、先頭
位置１’のパターン精度が悪いという問題があった。す
なわち、矩形電子ビームが先頭位置１から２に移動する
間にレジストの温度が上昇してレジスト感度が増加し、
線幅が広くなり、パターン精度が低下するという問題が
あった。また。パターンの微細化のために高解像度のレ
ジストを用いて電子ビーム描画を行うと電子ビームの照
射時間が長くなり、スループットが低下するという問題
もあった。
来の方法では、図１２および図１３に示すように、先頭
位置１’のパターン精度が悪いという問題があった。す
なわち、矩形電子ビームが先頭位置１から２に移動する
間にレジストの温度が上昇してレジスト感度が増加し、
線幅が広くなり、パターン精度が低下するという問題が
あった。また。パターンの微細化のために高解像度のレ
ジストを用いて電子ビーム描画を行うと電子ビームの照
射時間が長くなり、スループットが低下するという問題
もあった。
【０００４】本発明は、上記従来の問題を解消し、スル
ープットを低下することなく、先頭位置のパターン精度
を向上する電子ビーム描画方法の提供を目的とする。
ープットを低下することなく、先頭位置のパターン精度
を向上する電子ビーム描画方法の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の電子ビーム描画方法は、隣合う位置を連続
して描画しないよう電子ビーム照射順序を設定して描画
するか、先頭位置の電子ビームサイズを他の位置のそれ
より小さくし、ショット数を多くして描画するか、図形
の内部から外部に向って電子ビームを移動させながら描
画する。
めに本発明の電子ビーム描画方法は、隣合う位置を連続
して描画しないよう電子ビーム照射順序を設定して描画
するか、先頭位置の電子ビームサイズを他の位置のそれ
より小さくし、ショット数を多くして描画するか、図形
の内部から外部に向って電子ビームを移動させながら描
画する。
【０００６】
【作用】上記の方法によると、スループットを低下する
ことなく、電子ビーム照射時に発生する熱によるレジス
トの温度上昇が抑えられることになる。
ことなく、電子ビーム照射時に発生する熱によるレジス
トの温度上昇が抑えられることになる。
【０００７】
【実施例】以下本発明の実施例について、図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【０００８】（実施例１）図１は本発明の第１の実施例
における電子ビーム描画方法であり、数字は描画順序で
あり、電子ビーム照射順序制御部により、隣合う位置を
連続して描画しないように電子ビーム照射順序を設定し
て描画した。このときの電子ビームサイズは４μｍ角、
電子ビームショットは１とした。本実施例の方法による
と、図２に示す位置と線幅の特性が得られた。すなわ
ち、図１２の従来例と比較すると先頭位置の線幅が他の
位置の線幅とほぼ同じとなった。
における電子ビーム描画方法であり、数字は描画順序で
あり、電子ビーム照射順序制御部により、隣合う位置を
連続して描画しないように電子ビーム照射順序を設定し
て描画した。このときの電子ビームサイズは４μｍ角、
電子ビームショットは１とした。本実施例の方法による
と、図２に示す位置と線幅の特性が得られた。すなわ
ち、図１２の従来例と比較すると先頭位置の線幅が他の
位置の線幅とほぼ同じとなった。
【０００９】（実施例２）図３は本発明による第２の実
施例による電子ビーム描画方法を示すものであり、先頭
位置を描画するとき、電子ビームサイズ制御部により電
子ビームサイズを他の位置のそれの４分の１の２μｍ角
とし、ショット数を図３の１〜４に示すように４ショッ
トとした。これにより位置と線幅の特性は図４のように
なり、図１２の従来例と比較すると先頭位置の線幅が他
の位置の線幅とほぼ同じとなった。
施例による電子ビーム描画方法を示すものであり、先頭
位置を描画するとき、電子ビームサイズ制御部により電
子ビームサイズを他の位置のそれの４分の１の２μｍ角
とし、ショット数を図３の１〜４に示すように４ショッ
トとした。これにより位置と線幅の特性は図４のように
なり、図１２の従来例と比較すると先頭位置の線幅が他
の位置の線幅とほぼ同じとなった。
【００１０】（実施例３）図５は本発明による第３の実
施例による電子ビーム描画方法を示すものであり、実施
例２と相違する点は電子ビームサイズを他の位置のそれ
の２分の１の２μｍ×４μｍとし、ショット数を２とし
た点である。これにより位置と線幅の特性は図６のよう
になり、図１２の従来例と比較すると先頭位置の線幅が
他の位置の線幅とほぼ同じとなった。
施例による電子ビーム描画方法を示すものであり、実施
例２と相違する点は電子ビームサイズを他の位置のそれ
の２分の１の２μｍ×４μｍとし、ショット数を２とし
た点である。これにより位置と線幅の特性は図６のよう
になり、図１２の従来例と比較すると先頭位置の線幅が
他の位置の線幅とほぼ同じとなった。
【００１１】（実施例４）図７は本発明による第４の実
施例による電子ビーム描画方法を示すものであり、図中
の番号は電子ビーム照射順序を示すものであり、図形の
内部１から順次外部に向って電子ビームを移動させなが
ら描画した。このときの電子ビームサイズは４μｍ角で
図形の寸法は３２μｍ×２０μｍであった。これにより
図形の先頭位置３６のパターンは従来例の図１３の先頭
位置１のパターンより精度のよいものとなった。
施例による電子ビーム描画方法を示すものであり、図中
の番号は電子ビーム照射順序を示すものであり、図形の
内部１から順次外部に向って電子ビームを移動させなが
ら描画した。このときの電子ビームサイズは４μｍ角で
図形の寸法は３２μｍ×２０μｍであった。これにより
図形の先頭位置３６のパターンは従来例の図１３の先頭
位置１のパターンより精度のよいものとなった。
【００１２】なお、実施例１〜実施例４の方法によって
もスループットが低下することはなかった。
もスループットが低下することはなかった。
【００１３】
【発明の効果】上記実施例から明らかなように本発明に
よれば、隣合う位置を連続して描画しないようにした
り、先頭位置の電子ビームサイズを他の位置のそれより
小さくし、ショット数を多くして描画したり、図形の内
部から外部に向って電子ビームを移動させながら描画す
ることにより、レジストの温度上昇を抑え、スループッ
トを低下させずに先頭位置のパターン精度を向上するこ
とができる。
よれば、隣合う位置を連続して描画しないようにした
り、先頭位置の電子ビームサイズを他の位置のそれより
小さくし、ショット数を多くして描画したり、図形の内
部から外部に向って電子ビームを移動させながら描画す
ることにより、レジストの温度上昇を抑え、スループッ
トを低下させずに先頭位置のパターン精度を向上するこ
とができる。
【図１】本発明の第１の実施例における電子ビーム照射
順序を示す図
順序を示す図
【図２】同じく位置と線幅の特性図
【図３】本発明の第２の実施例における電子ビーム照射
順序を示す図
順序を示す図
【図４】同じく位置と線幅の特性図
【図５】本発明の第３の実施例における電子ビーム照射
順序を示す図
順序を示す図
【図６】同じく位置と線幅の特性図
【図７】本発明の第４の実施例における電子ビーム照射
順序を示す図
順序を示す図
【図８】同じく先頭位置のパターン精度の特性図
【図９】従来の電子ビーム描画装置の構成図
【図１０】従来例の電子ビーム照射順序を示す図
【図１１】他の従来例の電子ビーム照射順序を示す図
【図１２】従来例の位置と線幅の特性図
【図１３】他の従来例の先頭位置のパターン精度の特性
図
図
１’〜１０’ 電子ビーム照射位置 Ａ 本体 Ｂ 電子ビーム照射順序制御部 Ｃ 電子ビームサイズ制御部 Ｄ 電子ビームショット制御部
Claims (3)
- 【請求項１】少なくとも、本体，電子ビーム照射順序制
御部，電子ビームサイズ制御部および電子ビームショッ
ト制御部を備えた電子ビーム描画装置により、矩形電子
ビームを照射して電子ビーム描画を行う方法において、
隣合う位置を連続して描画しないように電子ビーム照射
順序を設定して描画することを特徴とする電子ビーム描
画方法。 - 【請求項２】少なくとも、本体，電子ビーム照射順序制
御部，電子ビームサイズ制御部および電子ビームショッ
ト制御部を備えた電子ビーム描画装置により、矩形電子
ビームを照射して電子ビーム描画を行う方法において、
先頭位置の電子ビームサイズを他の位置の電子ビームサ
イズより小さくし、ショット数を多くして描画すること
を特徴とする電子ビーム描画方法。 - 【請求項３】少なくとも、本体，電子ビーム照射順序制
御部，電子ビームサイズ制御部および電子ビームショッ
ト制御部を備えた電子ビーム描画装置により、矩形電子
ビームを照射して電子ビーム描画を行う方法において、
図形の内部から外部に向って電子ビームを移動させなが
ら描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28263391A JPH05121301A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 電子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28263391A JPH05121301A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 電子ビーム描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05121301A true JPH05121301A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=17655061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28263391A Pending JPH05121301A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 電子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05121301A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011035298A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 |
-
1991
- 1991-10-29 JP JP28263391A patent/JPH05121301A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011035298A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 |
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