JPH05120636A - 磁気ヘツド用基板 - Google Patents
磁気ヘツド用基板Info
- Publication number
- JPH05120636A JPH05120636A JP3307070A JP30707091A JPH05120636A JP H05120636 A JPH05120636 A JP H05120636A JP 3307070 A JP3307070 A JP 3307070A JP 30707091 A JP30707091 A JP 30707091A JP H05120636 A JPH05120636 A JP H05120636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mgo
- magnetic head
- slider
- substrate
- zro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】重量％で、TiB2を１０〜４０％、Y2O3またはMg
O を３〜７％含む正方晶ZrO2を０．５〜１０％、MgO と
AlN の合量が１〜３％、残部Al2O3 からなる薄膜磁気ヘ
ッド用基板。 【効果】磁気ヘッド用基板材料として適したもので摺動
性、耐摩耗性、破壊靭性に優れ、電気的性質としても比
抵抗が小さく摩擦帯電性も小さい。
O を３〜７％含む正方晶ZrO2を０．５〜１０％、MgO と
AlN の合量が１〜３％、残部Al2O3 からなる薄膜磁気ヘ
ッド用基板。 【効果】磁気ヘッド用基板材料として適したもので摺動
性、耐摩耗性、破壊靭性に優れ、電気的性質としても比
抵抗が小さく摩擦帯電性も小さい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐久性、耐摩耗性に優
れた磁気ヘッド基板に関するものである。
れた磁気ヘッド基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年磁気ディスク装置の分野において増
大する高記録密度化の要請に応えるため、薄膜磁気ヘッ
ド特に薄膜磁気ヘッドが急速に普及しつつある。薄膜磁
気ヘッドはセラミックス製スライダー（基板）の後端面
に磁気信号の記録再生を行う薄膜素子が形成された構造
を有しており、スライダーが磁気ディスクの高速回転
（２０〜４０ｍ／ｓ）によって発生する空気層流に乗っ
て磁気ディスク面上にわずかに浮上（０．２〜４μｍ）
することを利用し磁気ディスクに対して記録の書き込
み、読み取りを行う機能を有する。したがってスライダ
ーは磁気ディスク回転の起動、停止時は十分な空気層流
が得られないため必ず磁気ディスクと摺動し、いわゆる
コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）動作を行
う。さらにスライダーは定常浮上中であっても振動や塵
埃の介入などの外的要因によって浮上高さや浮上姿勢が
乱れることが避けられない。
大する高記録密度化の要請に応えるため、薄膜磁気ヘッ
ド特に薄膜磁気ヘッドが急速に普及しつつある。薄膜磁
気ヘッドはセラミックス製スライダー（基板）の後端面
に磁気信号の記録再生を行う薄膜素子が形成された構造
を有しており、スライダーが磁気ディスクの高速回転
（２０〜４０ｍ／ｓ）によって発生する空気層流に乗っ
て磁気ディスク面上にわずかに浮上（０．２〜４μｍ）
することを利用し磁気ディスクに対して記録の書き込
み、読み取りを行う機能を有する。したがってスライダ
ーは磁気ディスク回転の起動、停止時は十分な空気層流
が得られないため必ず磁気ディスクと摺動し、いわゆる
コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）動作を行
う。さらにスライダーは定常浮上中であっても振動や塵
埃の介入などの外的要因によって浮上高さや浮上姿勢が
乱れることが避けられない。
【０００３】記録密度を大きくするために浮上高さは一
層小さくなりつつあるため、このような乱れによりスラ
イダーが高速回転中の磁気ディスクと衝突する回数がま
すます増大してきている。
層小さくなりつつあるため、このような乱れによりスラ
イダーが高速回転中の磁気ディスクと衝突する回数がま
すます増大してきている。
【０００４】これらのことからＣＳＳ性能を向上させる
ためには、磁気ヘッドのスライダーの摺動性を高めるこ
とが重要である。更にスライダーの表面が平滑で気孔が
存在しないこと、耐摩耗性が良いことが必要である。
ためには、磁気ヘッドのスライダーの摺動性を高めるこ
とが重要である。更にスライダーの表面が平滑で気孔が
存在しないこと、耐摩耗性が良いことが必要である。
【０００５】又磁気ヘッドは上に述べた如く、磁気ディ
スクに接触摺動する時に摩擦帯電する。この帯電量が過
度に大きくなると磁気トランスジューサーの信号巻線に
ノイズが発生したり、磁気ヘッドの浮上量が変わったり
する恐れがある。そこで摩擦帯電のできるだけ生じない
材料で磁気ヘッドのスライダーを構成することが望まし
い。
スクに接触摺動する時に摩擦帯電する。この帯電量が過
度に大きくなると磁気トランスジューサーの信号巻線に
ノイズが発生したり、磁気ヘッドの浮上量が変わったり
する恐れがある。そこで摩擦帯電のできるだけ生じない
材料で磁気ヘッドのスライダーを構成することが望まし
い。
【０００６】更に磁気ヘッドのスライダーは例えば特開
昭５５−１６３６６５号に示されているように極めて複
雑な構造をしているものであるが、このような複雑な構
造の磁気ヘッドを生産性良く作るには、スライダー構成
材が機械加工性に優れていることが必要である。即ち加
工時の切削抵抗の少ないことや切削ブレード等への目づ
まりのないことやクラックやチッピングの生じないこと
が重要である。
昭５５−１６３６６５号に示されているように極めて複
雑な構造をしているものであるが、このような複雑な構
造の磁気ヘッドを生産性良く作るには、スライダー構成
材が機械加工性に優れていることが必要である。即ち加
工時の切削抵抗の少ないことや切削ブレード等への目づ
まりのないことやクラックやチッピングの生じないこと
が重要である。
【０００７】従来のスライダー材料としては薄膜素子の
形成性が良好な点からAl2O3系セラミックが広く知られ
ており、改良提案も多い。例えば特開昭６１−１５８８
６２号、特開昭６０−２３１３０８号、特開昭６０−１
８３７０９号及び特開昭６０−１７９９２３号等に示さ
れたものがある。
形成性が良好な点からAl2O3系セラミックが広く知られ
ており、改良提案も多い。例えば特開昭６１−１５８８
６２号、特開昭６０−２３１３０８号、特開昭６０−１
８３７０９号及び特開昭６０−１７９９２３号等に示さ
れたものがある。
【０００８】これらはいずれも Al2O3粒子を主とし、Ti
C 粒子とその他の添加粒子からなっており、加工性が良
好で複雑な形状のものを加工した際、クラックやチッピ
ングを生じることなく耐摩耗性に優れると記載されてい
る。
C 粒子とその他の添加粒子からなっており、加工性が良
好で複雑な形状のものを加工した際、クラックやチッピ
ングを生じることなく耐摩耗性に優れると記載されてい
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記 Al2
O3と TiCとからなるスライダーは、スライダーの重要な
性能であるＣＳＳ性特に摺動特性に劣っている。又 Al2
O3は電気絶縁性が高いので電気抵抗を小さくして静電性
を下げるため、導電性の TiCを多く含有する必要があ
る。ところが TiCは高硬度であるところから TiC含有量
を多くすると摺動特性が悪くなる。又加工性は複雑な形
状のものを加工した際のクラックやチッピングも少なく
なく、加工歩留を落しており、より摺動性、耐摩耗性、
機械加工性特に靭性の向上が強く望まれている。
O3と TiCとからなるスライダーは、スライダーの重要な
性能であるＣＳＳ性特に摺動特性に劣っている。又 Al2
O3は電気絶縁性が高いので電気抵抗を小さくして静電性
を下げるため、導電性の TiCを多く含有する必要があ
る。ところが TiCは高硬度であるところから TiC含有量
を多くすると摺動特性が悪くなる。又加工性は複雑な形
状のものを加工した際のクラックやチッピングも少なく
なく、加工歩留を落しており、より摺動性、耐摩耗性、
機械加工性特に靭性の向上が強く望まれている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の問題点を
解決すべくなされたものであり、Al2O3 を主成分とし重
量％でTiB2を１０〜４０％、Y2O3又は MgOを３〜７％含
む正方晶ZrO2を０．５〜１０％およびMgO とAlN を合量
で１〜３％含有してなることを特徴とする磁気ヘッド用
基板（スライダー）を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、Al2O3 を主成分とし重
量％でTiB2を１０〜４０％、Y2O3又は MgOを３〜７％含
む正方晶ZrO2を０．５〜１０％およびMgO とAlN を合量
で１〜３％含有してなることを特徴とする磁気ヘッド用
基板（スライダー）を提供するものである。
【００１１】本発明は従来の基板材料である Al2O3を主
成分とし、耐摩耗性、高硬度、導電性の TiB2 を添加
し、摺動特性、高靭性の正方晶 ZrO2 により分散強化
し、粒生長抑制材として MgO，AlN を微量添加し焼結し
た構成相からなる摺動特性、耐摩耗姓、機械加工性に優
れた基板材料を得ることができる。
成分とし、耐摩耗性、高硬度、導電性の TiB2 を添加
し、摺動特性、高靭性の正方晶 ZrO2 により分散強化
し、粒生長抑制材として MgO，AlN を微量添加し焼結し
た構成相からなる摺動特性、耐摩耗姓、機械加工性に優
れた基板材料を得ることができる。
【００１２】本発明の耐摩耗性、高硬度、導電性を付与
する TiB2 は、Al2O3 主構成相中に均一に分散した状態
で含有することが必要である。ここで TiB2 の割合は A
l2O3を主成分とする本発明焼結体中に重量％（以下同
じ）で１０〜４０％とすることであり、より好ましくは
１５〜３５％である、TiB2が Al2O3主成分に対し１０％
より少ないと比抵抗が大きく、又アルミナの粒生長が激
しくなり緻密化しにくく、さらに４０％より多いと TiB
2の難焼結性のため緻密化しにくく好ましくない。
する TiB2 は、Al2O3 主構成相中に均一に分散した状態
で含有することが必要である。ここで TiB2 の割合は A
l2O3を主成分とする本発明焼結体中に重量％（以下同
じ）で１０〜４０％とすることであり、より好ましくは
１５〜３５％である、TiB2が Al2O3主成分に対し１０％
より少ないと比抵抗が大きく、又アルミナの粒生長が激
しくなり緻密化しにくく、さらに４０％より多いと TiB
2の難焼結性のため緻密化しにくく好ましくない。
【００１３】次に分散強化材である ZrO2 は、Y2O3又は
MgOが３〜７％固溶された正方晶ZrO2とする必要があ
る。正方晶 ZrO2 は Y2O3 又は MgOが３％より少ないと
単斜晶ZrO2 が増加し、焼結体冷却中にマイクロクラッ
クが発生し機械的強度が著しく低下し、７％より多いと
立方晶 ZrO2 が増加して強度、破壊靭性が著しく低下す
るため好ましくない。又この正方晶 ZrO2 は Al2O3を主
成分とする焼結体中において０．５〜１０％が必要であ
る。正方晶 ZrO2 が０．５％以下では ZrO2 のもつ摺動
特性、高靭性が発揮されず、１０％以上では ZrO2 の正
方晶から単斜結への変態に伴なう微少亀裂により強度、
破壊靭性が低下するため好ましくない。
MgOが３〜７％固溶された正方晶ZrO2とする必要があ
る。正方晶 ZrO2 は Y2O3 又は MgOが３％より少ないと
単斜晶ZrO2 が増加し、焼結体冷却中にマイクロクラッ
クが発生し機械的強度が著しく低下し、７％より多いと
立方晶 ZrO2 が増加して強度、破壊靭性が著しく低下す
るため好ましくない。又この正方晶 ZrO2 は Al2O3を主
成分とする焼結体中において０．５〜１０％が必要であ
る。正方晶 ZrO2 が０．５％以下では ZrO2 のもつ摺動
特性、高靭性が発揮されず、１０％以上では ZrO2 の正
方晶から単斜結への変態に伴なう微少亀裂により強度、
破壊靭性が低下するため好ましくない。
【００１４】さらに本発明において主構成相である Al2
O3、TiB2及び正方晶 ZrO2 の結晶粒生長を抑制するため
助剤として MgOとAlN を合量で焼結体中に１〜３％添加
することが必要である。この MgOとAlN の添加量は１％
以下では粒生長抑制効果が発揮されず、３％以上では逆
に粒界層の耐熱性が低くなり粒生長を促進するため好ま
しくない。ここで助剤としての MgOには正方晶ZrO2に固
溶した MgOは含まない。
O3、TiB2及び正方晶 ZrO2 の結晶粒生長を抑制するため
助剤として MgOとAlN を合量で焼結体中に１〜３％添加
することが必要である。この MgOとAlN の添加量は１％
以下では粒生長抑制効果が発揮されず、３％以上では逆
に粒界層の耐熱性が低くなり粒生長を促進するため好ま
しくない。ここで助剤としての MgOには正方晶ZrO2に固
溶した MgOは含まない。
【００１５】本発明を構成する Al2O3、TiB2、Y2O3又は
MgOで固溶された正方晶 ZrO2 及びMgO、AlN の原料粒
度は焼結体を構成する各結晶の平均粒径が望ましくは２
μｍ以下となるために好ましくは平均粒径が０．１μｍ
以下として使用することが望ましく、これは０．１μｍ
を超えると焼結して生成する結晶粒が大きくなり基板の
表面の平滑性が低下するため好ましくないからである。
不純物は少量の他の成分が存在しても構わないが、好ま
しくは０．５％以下特には０．１％以下にすることが望
ましい。
MgOで固溶された正方晶 ZrO2 及びMgO、AlN の原料粒
度は焼結体を構成する各結晶の平均粒径が望ましくは２
μｍ以下となるために好ましくは平均粒径が０．１μｍ
以下として使用することが望ましく、これは０．１μｍ
を超えると焼結して生成する結晶粒が大きくなり基板の
表面の平滑性が低下するため好ましくないからである。
不純物は少量の他の成分が存在しても構わないが、好ま
しくは０．５％以下特には０．１％以下にすることが望
ましい。
【００１６】本発明は以上の構成によりなるが、本発明
のセラミックス基板を製造するには０．１μｍ以下の A
l2O3粉末、TiB2粉末、Y2O3又は MgOで固溶された ZrO2
粉末、MgO 及びAlN 粉末を所定の割合で配合し、十分混
合粉砕して、混合粉末を乾燥し、ホットプレスを使用し
て焼結体を得ることができる。又上記の混合粉末に少量
のバインダーを添加してスプレイドライヤにて造粒し、
この造粒物をＣＩＰにより成形し、真空又は非酸化雰囲
気中で常圧焼結し予備焼成ＨＩＰ（Sinter−ＨＩＰ）や
カプセルＨＩＰ（カプセル中に封入）しても同様の効果
が得られる。
のセラミックス基板を製造するには０．１μｍ以下の A
l2O3粉末、TiB2粉末、Y2O3又は MgOで固溶された ZrO2
粉末、MgO 及びAlN 粉末を所定の割合で配合し、十分混
合粉砕して、混合粉末を乾燥し、ホットプレスを使用し
て焼結体を得ることができる。又上記の混合粉末に少量
のバインダーを添加してスプレイドライヤにて造粒し、
この造粒物をＣＩＰにより成形し、真空又は非酸化雰囲
気中で常圧焼結し予備焼成ＨＩＰ（Sinter−ＨＩＰ）や
カプセルＨＩＰ（カプセル中に封入）しても同様の効果
が得られる。
【００１７】このホットプレスを行う場合の焼結温度は
得られる焼結体の性能を大きく左右するため１４５０〜
１６５０℃が好ましく、焼結温度が１４５０℃以下では
密度が低く緻密な焼結体が得られず、１６５０℃を超え
ると Al2O3、TiB2及び正方晶ZrO2の結晶粒の成長が著し
くなるので好ましくない。
得られる焼結体の性能を大きく左右するため１４５０〜
１６５０℃が好ましく、焼結温度が１４５０℃以下では
密度が低く緻密な焼結体が得られず、１６５０℃を超え
ると Al2O3、TiB2及び正方晶ZrO2の結晶粒の成長が著し
くなるので好ましくない。
【００１８】
【作用】前述に説明した如く、従来の基板材料である A
l2O3を主構成相とし、耐摩耗性、高硬度、導電性の TiB
2 を Al2O3主相中に分散し、摺動性の優れた正方晶ZrO2
を分散して強化し、強度や破壊靭性等の機械加工性を良
好にし、さらにこれら構成相の粒生長を抑制する MgO及
びAlN を少量添加して、気孔のない緻密な微細結晶粒組
織を呈するものであって、これらの相互作用によって最
適化されたものは、薄膜磁気ヘッド用基板材料としての
摺動特性、耐摩耗性、機械加工性等に優れた特性を呈す
るものと考えられる。
l2O3を主構成相とし、耐摩耗性、高硬度、導電性の TiB
2 を Al2O3主相中に分散し、摺動性の優れた正方晶ZrO2
を分散して強化し、強度や破壊靭性等の機械加工性を良
好にし、さらにこれら構成相の粒生長を抑制する MgO及
びAlN を少量添加して、気孔のない緻密な微細結晶粒組
織を呈するものであって、これらの相互作用によって最
適化されたものは、薄膜磁気ヘッド用基板材料としての
摺動特性、耐摩耗性、機械加工性等に優れた特性を呈す
るものと考えられる。
【００１９】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいて説明する。原
料として Al2O3粉末（純度９９．９ｗｔ％、平均粒径
０．１μｍ以下）、TiB2粉末（純度９９％、平均粒径
０．１μｍ以下）、Y2O3又は MgOを３〜７％固溶させた
ZrO2 粉末（純度９９％、平均粒径０．０３μｍ）と M
gO粉末（純度９９％、平均粒径０．１μｍ以下）及びAl
N 粉末（純度９９％、平均粒径０．１μｍ以下）を所定
の割合にて配合し、ボールミルにてエタノール溶媒を用
いアルミナボールで１０時間混合粉砕した。この混合粉
末をエバポレーターで乾燥し、エタノールを抽出し乾燥
し、軽く解砕した。
料として Al2O3粉末（純度９９．９ｗｔ％、平均粒径
０．１μｍ以下）、TiB2粉末（純度９９％、平均粒径
０．１μｍ以下）、Y2O3又は MgOを３〜７％固溶させた
ZrO2 粉末（純度９９％、平均粒径０．０３μｍ）と M
gO粉末（純度９９％、平均粒径０．１μｍ以下）及びAl
N 粉末（純度９９％、平均粒径０．１μｍ以下）を所定
の割合にて配合し、ボールミルにてエタノール溶媒を用
いアルミナボールで１０時間混合粉砕した。この混合粉
末をエバポレーターで乾燥し、エタノールを抽出し乾燥
し、軽く解砕した。
【００２０】この粉末をホットプレスの黒鉛鋳型内に充
填し圧力３５０ｋｇ／ｃｍ2 、温度をそれぞれ１４５０
〜１６５０℃、Ar雰囲気下で１時間ホットプレスし、６
０ｍｍφ×厚み５ｍｍの焼結体を得た。
填し圧力３５０ｋｇ／ｃｍ2 、温度をそれぞれ１４５０
〜１６５０℃、Ar雰囲気下で１時間ホットプレスし、６
０ｍｍφ×厚み５ｍｍの焼結体を得た。
【００２１】焼結体の物性として密度はアルキメデス法
により測定し、理論密度を除して相対密度を求め、曲げ
強度は JIS R 1601 「ファインセラミックスの曲げ試験
法」に従って測定した。
により測定し、理論密度を除して相対密度を求め、曲げ
強度は JIS R 1601 「ファインセラミックスの曲げ試験
法」に従って測定した。
【００２２】又破壊靭性はＳＥＰＢ法（ Single Edge P
re-Cracked Beam 法）により測定した。即ち JIS R 160
1 に準拠した試料を用意しビッカース圧子圧入により圧
痕をつけた後、予亀裂を入れるための荷重を加え、イヤ
ホンでポップイン（Pop-in）を検知した。続いて予亀裂
長さを測定するために着色を行い、そして曲げ試験を行
って破断荷重を測定した。破断試料の予亀裂長さを測定
した後、破壊靭性の算出式により破壊靭性を求めた。
re-Cracked Beam 法）により測定した。即ち JIS R 160
1 に準拠した試料を用意しビッカース圧子圧入により圧
痕をつけた後、予亀裂を入れるための荷重を加え、イヤ
ホンでポップイン（Pop-in）を検知した。続いて予亀裂
長さを測定するために着色を行い、そして曲げ試験を行
って破断荷重を測定した。破断試料の予亀裂長さを測定
した後、破壊靭性の算出式により破壊靭性を求めた。
【００２３】ビッカース硬度は曲げ試験片の鏡面研磨面
を用い荷重３００ｇにてビッカース硬度計により測定し
た。比抵抗の測定は曲げ試験片を用い、４端子法にて測
定した。
を用い荷重３００ｇにてビッカース硬度計により測定し
た。比抵抗の測定は曲げ試験片を用い、４端子法にて測
定した。
【００２４】上記と同様な方法にて製作した６０ｍｍφ
×厚み５ｍｍの焼結体で磁気ヘッドスライダーとしての
評価試験を行った。
×厚み５ｍｍの焼結体で磁気ヘッドスライダーとしての
評価試験を行った。
【００２５】得られた焼結体を鏡面研磨してダイヤモン
ド切断砥石で切断し、角部の微細なチッピングを顕微鏡
にて観察することにより行った。このチッピング試験は
幅０．２８ｍｍ及び直径５２ｍｍのレジノイド砥石（３
０μｍのダイヤ砥粒を有するカッター）を用い、切込み
０．３ｍｍ，送り量５ｍｍ／ｓｅｃで実施した。チッピ
ング深さが２μｍを超えない場合実質的にスライダー品
質に影響を及ぼさず満足すべき品質を維持するもので、
これを○で示し、２μｍを超える場合は△及び著しいチ
ッピングの場合は×として示した。
ド切断砥石で切断し、角部の微細なチッピングを顕微鏡
にて観察することにより行った。このチッピング試験は
幅０．２８ｍｍ及び直径５２ｍｍのレジノイド砥石（３
０μｍのダイヤ砥粒を有するカッター）を用い、切込み
０．３ｍｍ，送り量５ｍｍ／ｓｅｃで実施した。チッピ
ング深さが２μｍを超えない場合実質的にスライダー品
質に影響を及ぼさず満足すべき品質を維持するもので、
これを○で示し、２μｍを超える場合は△及び著しいチ
ッピングの場合は×として示した。
【００２６】又摺動性及び耐摩耗性は焼結体から実際の
薄膜磁気ヘッド形状に切り出し、磁気ディスクと接触さ
せてディスクを回転させるＣＳＳ試験により特性を評価
した。
薄膜磁気ヘッド形状に切り出し、磁気ディスクと接触さ
せてディスクを回転させるＣＳＳ試験により特性を評価
した。
【００２７】摺動性はディスクとヘッドのＣＳＳ試験に
より摩擦係数を求め、摩擦係数が０．５より小さいもの
を○で示し、摩擦係数が０．５より大きいものは△及び
著しく大きい場合は×として示した。耐摩耗性はＣＳＳ
試験を１００００回繰返し、磁気ヘッドスライダーの摺
動面の傷の有無について評価した。比較例として Al2O3
−TiC ３０％基板を用いて比較した。それぞれの結果を
表１、表２に示した。
より摩擦係数を求め、摩擦係数が０．５より小さいもの
を○で示し、摩擦係数が０．５より大きいものは△及び
著しく大きい場合は×として示した。耐摩耗性はＣＳＳ
試験を１００００回繰返し、磁気ヘッドスライダーの摺
動面の傷の有無について評価した。比較例として Al2O3
−TiC ３０％基板を用いて比較した。それぞれの結果を
表１、表２に示した。
【００２８】表１、表２に示されるように本発明は高密
度で比抵抗も小さく、硬度、曲げ強度も高く、特に破壊
靭性は Al2O3−３０％TiC 基板に比べ約１．５〜１．８
倍程度向上している。
度で比抵抗も小さく、硬度、曲げ強度も高く、特に破壊
靭性は Al2O3−３０％TiC 基板に比べ約１．５〜１．８
倍程度向上している。
【００２９】磁気ヘッドスライダーとしての評価では鏡
面研磨した場合の気孔はほとんど観察されず緻密化して
おり、耐チッピング性、耐摩耗性、摺動特性はAl2O3−
３０％TiC 基板に比べ優れており、スライダーとして最
適なものである。
面研磨した場合の気孔はほとんど観察されず緻密化して
おり、耐チッピング性、耐摩耗性、摺動特性はAl2O3−
３０％TiC 基板に比べ優れており、スライダーとして最
適なものである。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【表２】
【００３２】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッド、特に薄膜磁気ヘッ
ド用基板は、Al2O3 を主構成相とし、これに摺動特性の
優れた正方晶ZrO2を分散強化し、耐摩耗性、高強度、導
電性のTiB2を添加し、MgO やAlN を焼結剤として配合し
た緻密な焼結体であって、摺動特性、耐摩耗性、機械加
工性に優れ、且つ比抵抗が小さく摩擦帯電性が小さい優
れた技術的長所を有するものである。
ド用基板は、Al2O3 を主構成相とし、これに摺動特性の
優れた正方晶ZrO2を分散強化し、耐摩耗性、高強度、導
電性のTiB2を添加し、MgO やAlN を焼結剤として配合し
た緻密な焼結体であって、摺動特性、耐摩耗性、機械加
工性に優れ、且つ比抵抗が小さく摩擦帯電性が小さい優
れた技術的長所を有するものである。
Claims (1)
- 【請求項１】Al2O3 を主成分とし、重量％で、TiB2を１
０〜４０％、Y2O3又はMgO を３〜７％含む正方晶 ZrO2
を０．５〜１０％およびMgO とAlN を合量で１〜３％含
有してなることを特徴とする磁気ヘッド用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3307070A JPH05120636A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気ヘツド用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3307070A JPH05120636A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気ヘツド用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05120636A true JPH05120636A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=17964684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3307070A Withdrawn JPH05120636A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気ヘツド用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05120636A (ja) |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP3307070A patent/JPH05120636A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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