JPH0511301U - X線イメージセンサ - Google Patents
X線イメージセンサInfo
- Publication number
- JPH0511301U JPH0511301U JP058992U JP5899291U JPH0511301U JP H0511301 U JPH0511301 U JP H0511301U JP 058992 U JP058992 U JP 058992U JP 5899291 U JP5899291 U JP 5899291U JP H0511301 U JPH0511301 U JP H0511301U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image sensor
- ray image
- substrate
- photodetector
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 本考案は曲面上で使用できるX線イメージセ
ンサを得る。 【構成】 シンチレータ10と、光検出器7とからなる
X線イメージセンサをフレキシブルな基板1に設けたも
の。
ンサを得る。 【構成】 シンチレータ10と、光検出器7とからなる
X線イメージセンサをフレキシブルな基板1に設けたも
の。
Description
【0001】
本考案はX線イメージセンサに関し、特に曲面等の不定形の表面上で使用する
のに適したX線イメージセンサに関する。
【0002】
従来のX線イメージセンサは、厚みが数mm程の平坦なガラス等の基板上にX
線を可視光に変換するシンチレータと、変換された可視光を検出する光検出器と
を設け、必要に応じて前記基板上に、光検出器の信号を処理する信号処理回路を
設けたX線イメージセンサが知られている。
【0003】
しかしながら、従来のX線イメージセンサは基板が平面であるため、例えば曲
面に沿ってX線イメージセンサを設置することができなかった。
【0004】
本考案は前記課題を解決するためになされたものであって、本考案はX線を可
視光に変換するシンチレータと、変換された可視光を検出する光検出器とを基板
上に形成したX線イメージセンサにおいて、該基板がフレキシブルであることを
特徴とするX線イメージセンサを提供する。
【0005】
本考案において用いることのできる基板としては可撓性のあるプラスチックフ
ィルム、あるいは100μm以下の厚みのガラス板を用いることができる。
【0006】
また本考案においては、光検出器としてa−Si(アモルファスシリコン)フ
ォトダイオードアレイを用いることが好ましい。
【0007】
更にまた本考案においては、光検出器の出力の信号処理回路をフレキシブルな
基板上に設けることができる。
【0008】
本考案によれば、フレキシブルな基板を使用しているので、X線イメージセン
サを作成後、曲面等の形状に変形使用できる。
【0009】
以下に、図1及び図2に示した本考案の一実施例について説明する。
【0010】
耐熱性で、且つ可撓性のあるプラスチックフィルム、または厚みが100μm
以下のガラス基板1に下部電極2となる厚み100nmのクロム膜をスパッタリ
ング法により成膜した後、その上に、40nm厚みのN型a−Si(アモルファ
スシリコン)、1000nm厚みのI型a−Si、14nm厚みのP型a−Si
をプラズマCVD法で連続に成膜し、更にその上に上部電極6となる厚み100
nmのITO膜をスパッタリング法で成膜する。次にITO膜パターニングして
上部電極6を形成した後、N型a−Si層3、I型a−Si層4、及びP型a−
Si層5をRIE(リアクティブ・イオン・エッチング)して、光検出素子であ
る多数のフォトダイオード7を形成し、更にクロム膜パターニングして下部電極
2を形成した。その後、保護膜8となる厚み1μmのa−SiNX をプラズマC
VD法で成膜した後パターニングして保護膜8を形成し、次いで取り出し電極と
なる2μmのアルミをスパッタリング法で成膜し、取り出し電極9,9′の形状
にパターニングする。
【0011】
更にその後、フォトダイオード7上の露出した上部電極6上にTlをヘビード
ープしたCsIを100μm厚で蒸着してシンチレータ10を形成してX線イメ
ージセンサを得る。
【0012】
そして必要に応じて、シンチレータ10の発光が外に洩れないように厚さ10
0nm厚のアルミの反射膜11を成膜する。最後に黒色の樹脂膜12をアルミの
反射膜11上に形成する。黒色樹脂としてはシリコン樹脂、エポキシ樹脂が通常
用いられ、樹脂膜12の厚みは1mm〜10mmが好ましく、本実施例ではエポ
キシ樹脂を用い2mmの膜厚とする。
【0013】
また、他の実施例として図3に示す如く、a−Siフォトダイオードの夫々に
並べて、信号線(図省略)で接続された、フォトダイオードの信号を読むための
a−Si薄膜トランジスタ7′を設け、この薄膜トランジスタ7′からの信号線
(図省略)及び信号処理回路13をフィルムまたは基板1上に設けることもでき
る。
【0014】
本考案によれば、図4に示す如く、所望の曲面型14に沿わせて、X線イメー
ジセンサの基板形状を変形できるので、曲面等の不定形の場所でもX線イメージ
センサを使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係るX線イメージセンサの断面図。
【図2】図1に示すX線イメージセンサの部分拡大断面
図。
図。
【図3】本考案に係る他のX線イメージセンサの断面
図。
図。
【図4】本考案に係るX線イメージセンサを曲面で使用
する際の断面図。
する際の断面図。
1 フィルム、または基板
7 フォトダイオード
10 シンチレータ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所
G01T 1/24 7204−2G
G21K 4/00 Z 8805−2G
H01L 27/14
Claims (3)
- 【請求項1】 X線を可視光に変換するシンチレータ
と、変換された可視光を検出する光検出器とを基板上に
形成したX線イメージセンサにおいて、該基板がフレキ
シブルであることを特徴とするX線イメージセンサ。 - 【請求項2】 光検出器がa−Siフォトダイオードア
レイからなる請求項1に記載のX線イメージセンサ。 - 【請求項3】 光検出器の出力の信号処理回路をフレキ
シブルな基板上に設けた請求項1又は請求項2に記載の
X線イメージセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP058992U JPH0511301U (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | X線イメージセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP058992U JPH0511301U (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | X線イメージセンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0511301U true JPH0511301U (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=13100345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP058992U Pending JPH0511301U (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | X線イメージセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0511301U (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1991
- 1991-07-26 JP JP058992U patent/JPH0511301U/ja active Pending
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Legal Events
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