JPH0511301U - X線イメージセンサ - Google Patents

X線イメージセンサ

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JPH0511301U
JPH0511301U JP058992U JP5899291U JPH0511301U JP H0511301 U JPH0511301 U JP H0511301U JP 058992 U JP058992 U JP 058992U JP 5899291 U JP5899291 U JP 5899291U JP H0511301 U JPH0511301 U JP H0511301U
Authority
JP
Japan
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image sensor
ray image
substrate
photodetector
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP058992U
Other languages
English (en)
Inventor
高志 田上
幸久 楠田
智則 山岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication of JPH0511301U publication Critical patent/JPH0511301U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 本考案は曲面上で使用できるX線イメージセ
ンサを得る。 【構成】 シンチレータ10と、光検出器7とからなる
X線イメージセンサをフレキシブルな基板1に設けたも
の。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はX線イメージセンサに関し、特に曲面等の不定形の表面上で使用する のに適したX線イメージセンサに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のX線イメージセンサは、厚みが数mm程の平坦なガラス等の基板上にX 線を可視光に変換するシンチレータと、変換された可視光を検出する光検出器と を設け、必要に応じて前記基板上に、光検出器の信号を処理する信号処理回路を 設けたX線イメージセンサが知られている。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のX線イメージセンサは基板が平面であるため、例えば曲 面に沿ってX線イメージセンサを設置することができなかった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本考案は前記課題を解決するためになされたものであって、本考案はX線を可 視光に変換するシンチレータと、変換された可視光を検出する光検出器とを基板 上に形成したX線イメージセンサにおいて、該基板がフレキシブルであることを 特徴とするX線イメージセンサを提供する。
【0005】 本考案において用いることのできる基板としては可撓性のあるプラスチックフ ィルム、あるいは100μm以下の厚みのガラス板を用いることができる。
【0006】 また本考案においては、光検出器としてa−Si(アモルファスシリコン)フ ォトダイオードアレイを用いることが好ましい。
【0007】 更にまた本考案においては、光検出器の出力の信号処理回路をフレキシブルな 基板上に設けることができる。
【0008】
【作用】
本考案によれば、フレキシブルな基板を使用しているので、X線イメージセン サを作成後、曲面等の形状に変形使用できる。
【0009】
【実施例】
以下に、図1及び図2に示した本考案の一実施例について説明する。
【0010】 耐熱性で、且つ可撓性のあるプラスチックフィルム、または厚みが100μm 以下のガラス基板1に下部電極2となる厚み100nmのクロム膜をスパッタリ ング法により成膜した後、その上に、40nm厚みのN型a−Si(アモルファ スシリコン)、1000nm厚みのI型a−Si、14nm厚みのP型a−Si をプラズマCVD法で連続に成膜し、更にその上に上部電極6となる厚み100 nmのITO膜をスパッタリング法で成膜する。次にITO膜パターニングして 上部電極6を形成した後、N型a−Si層3、I型a−Si層4、及びP型a− Si層5をRIE(リアクティブ・イオン・エッチング)して、光検出素子であ る多数のフォトダイオード7を形成し、更にクロム膜パターニングして下部電極 2を形成した。その後、保護膜8となる厚み1μmのa−SiNX をプラズマC VD法で成膜した後パターニングして保護膜8を形成し、次いで取り出し電極と なる2μmのアルミをスパッタリング法で成膜し、取り出し電極9,9′の形状 にパターニングする。
【0011】 更にその後、フォトダイオード7上の露出した上部電極6上にTlをヘビード ープしたCsIを100μm厚で蒸着してシンチレータ10を形成してX線イメ ージセンサを得る。
【0012】 そして必要に応じて、シンチレータ10の発光が外に洩れないように厚さ10 0nm厚のアルミの反射膜11を成膜する。最後に黒色の樹脂膜12をアルミの 反射膜11上に形成する。黒色樹脂としてはシリコン樹脂、エポキシ樹脂が通常 用いられ、樹脂膜12の厚みは1mm〜10mmが好ましく、本実施例ではエポ キシ樹脂を用い2mmの膜厚とする。
【0013】 また、他の実施例として図3に示す如く、a−Siフォトダイオードの夫々に 並べて、信号線(図省略)で接続された、フォトダイオードの信号を読むための a−Si薄膜トランジスタ7′を設け、この薄膜トランジスタ7′からの信号線 (図省略)及び信号処理回路13をフィルムまたは基板1上に設けることもでき る。
【0014】
【考案の効果】
本考案によれば、図4に示す如く、所望の曲面型14に沿わせて、X線イメー ジセンサの基板形状を変形できるので、曲面等の不定形の場所でもX線イメージ センサを使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係るX線イメージセンサの断面図。
【図2】図1に示すX線イメージセンサの部分拡大断面
図。
【図3】本考案に係る他のX線イメージセンサの断面
図。
【図4】本考案に係るX線イメージセンサを曲面で使用
する際の断面図。
【符号の説明】
1 フィルム、または基板 7 フォトダイオード 10 シンチレータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01T 1/24 7204−2G G21K 4/00 Z 8805−2G H01L 27/14

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線を可視光に変換するシンチレータ
    と、変換された可視光を検出する光検出器とを基板上に
    形成したX線イメージセンサにおいて、該基板がフレキ
    シブルであることを特徴とするX線イメージセンサ。
  2. 【請求項2】 光検出器がa−Siフォトダイオードア
    レイからなる請求項1に記載のX線イメージセンサ。
  3. 【請求項3】 光検出器の出力の信号処理回路をフレキ
    シブルな基板上に設けた請求項1又は請求項2に記載の
    X線イメージセンサ。
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000097765A (ja) * 1998-09-25 2000-04-07 Matsushita Electric Works Ltd センサ
JP2001264442A (ja) * 2000-03-22 2001-09-26 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2001296365A (ja) * 2000-04-13 2001-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd X線撮影センサ
JP2004064087A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 General Electric Co <Ge> 可撓性イメージャ及びデジタル画像形成方法
JP2004361402A (ja) * 2003-06-02 2004-12-24 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc X線及びct画像検出器
JP2007101256A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Fujifilm Corp X線撮像装置及びx線ct装置
JP2009139346A (ja) * 2007-12-11 2009-06-25 Fuji Electric Systems Co Ltd 放射線検出センサおよび放射線検出センサユニット
JP2010075605A (ja) * 2008-09-29 2010-04-08 Fujifilm Corp 放射線検出装置
JPWO2008108428A1 (ja) * 2007-03-08 2010-06-17 コニカミノルタエムジー株式会社 シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法
WO2011148960A1 (ja) * 2010-05-25 2011-12-01 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置及びその組立方法
WO2011148943A1 (ja) * 2010-05-25 2011-12-01 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置
JP2012159340A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Sony Corp 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム
JP2013050364A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Fujifilm Corp 放射線画像検出装置
JP2013088317A (ja) * 2011-10-19 2013-05-13 Hamamatsu Photonics Kk 放射線検出器
WO2014104763A1 (ko) * 2012-12-27 2014-07-03 주식회사 레이언스 엑스레이 검출 장치 및 시스템
WO2017145578A1 (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 ソニー株式会社 撮像装置、撮像表示システムおよび表示装置

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000097765A (ja) * 1998-09-25 2000-04-07 Matsushita Electric Works Ltd センサ
JP2001264442A (ja) * 2000-03-22 2001-09-26 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2001296365A (ja) * 2000-04-13 2001-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd X線撮影センサ
JP4524082B2 (ja) * 2002-07-25 2010-08-11 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 可撓性イメージャ及び可撓性イメージャを備えるctスキャナ
JP2004064087A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 General Electric Co <Ge> 可撓性イメージャ及びデジタル画像形成方法
JP2004361402A (ja) * 2003-06-02 2004-12-24 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc X線及びct画像検出器
JP4647938B2 (ja) * 2003-06-02 2011-03-09 ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー X線検出器を製作する方法
JP2007101256A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Fujifilm Corp X線撮像装置及びx線ct装置
JP2012163571A (ja) * 2007-03-08 2012-08-30 Konica Minolta Medical & Graphic Inc シンチレータパネルの製造方法
JPWO2008108428A1 (ja) * 2007-03-08 2010-06-17 コニカミノルタエムジー株式会社 シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法
JP2009139346A (ja) * 2007-12-11 2009-06-25 Fuji Electric Systems Co Ltd 放射線検出センサおよび放射線検出センサユニット
JP2010075605A (ja) * 2008-09-29 2010-04-08 Fujifilm Corp 放射線検出装置
WO2011148960A1 (ja) * 2010-05-25 2011-12-01 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置及びその組立方法
WO2011148943A1 (ja) * 2010-05-25 2011-12-01 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置
JP2011247686A (ja) * 2010-05-25 2011-12-08 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置
JP2012159340A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Sony Corp 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム
JP2013050364A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Fujifilm Corp 放射線画像検出装置
US9255997B2 (en) 2011-08-30 2016-02-09 Fujifilm Corporation Radiological image detection apparatus
JP2013088317A (ja) * 2011-10-19 2013-05-13 Hamamatsu Photonics Kk 放射線検出器
WO2014104763A1 (ko) * 2012-12-27 2014-07-03 주식회사 레이언스 엑스레이 검출 장치 및 시스템
WO2017145578A1 (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 ソニー株式会社 撮像装置、撮像表示システムおよび表示装置
CN108604591A (zh) * 2016-02-22 2018-09-28 索尼公司 摄像装置、摄像显示系统和显示装置

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