JPH05107681A - 直接ポジハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
直接ポジハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPH05107681A JPH05107681A JP29255291A JP29255291A JPH05107681A JP H05107681 A JPH05107681 A JP H05107681A JP 29255291 A JP29255291 A JP 29255291A JP 29255291 A JP29255291 A JP 29255291A JP H05107681 A JPH05107681 A JP H05107681A
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- C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
- C09B23/04—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups one >CH- group, e.g. cyanines, isocyanines, pseudocyanines
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は直接ポジハロゲン化銀写真感光材料に
関し、特にセーフライト適性に優れた直接ポジハロゲン
化銀写真感光材料に関する。 【構成】本発明は支持体上に少なくとも1層の直接ポジ
ハロゲン化銀写真乳剤層を有する直接ポジハロゲン化銀
写真感光材料において、特定の染料化合物を含有するこ
とを特徴とする直接ポジハロゲン化銀写真感光材料であ
る。
関し、特にセーフライト適性に優れた直接ポジハロゲン
化銀写真感光材料に関する。 【構成】本発明は支持体上に少なくとも1層の直接ポジ
ハロゲン化銀写真乳剤層を有する直接ポジハロゲン化銀
写真感光材料において、特定の染料化合物を含有するこ
とを特徴とする直接ポジハロゲン化銀写真感光材料であ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は直接ポジハロゲン化銀写
真感光材料に関し、特にセーフライト適性に優れた直接
ポジハロゲン化銀写真感光材料に関する。
真感光材料に関し、特にセーフライト適性に優れた直接
ポジハロゲン化銀写真感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】フィルムを明室下で使用するため、セー
フライト光源の波長で感光しない様に、フィルター層に
染料を添加することでセーフライト適性を向上させて来
た。しかし、直接ポジ感光材料において、上記セーフラ
イト適性を十分に満足する染料がみつかっていなかっ
た。
フライト光源の波長で感光しない様に、フィルター層に
染料を添加することでセーフライト適性を向上させて来
た。しかし、直接ポジ感光材料において、上記セーフラ
イト適性を十分に満足する染料がみつかっていなかっ
た。
【0003】そこで、本発明の目的は、セーフライト適
性に優れた直接ポジハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることである。
性に優れた直接ポジハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に至ったもので
ある。
成すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に至ったもので
ある。
【0005】即ち、支持体上に少なくとも1層の直接ポ
ジハロゲン化銀写真乳剤層を有する直接ポジハロゲン化
銀写真感光材料において、下記一般式[1]で表される
化合物を含有することを特徴とする。
ジハロゲン化銀写真乳剤層を有する直接ポジハロゲン化
銀写真感光材料において、下記一般式[1]で表される
化合物を含有することを特徴とする。
【0006】
【化6】 [式中、R1 、R2 は各々水素原子、ハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子等)、アルキルカルボニル基
(例えばメチルカルボニル基、エチルカルボニル基
等)、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシカルボニル
基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基等)、スルフォン酸基、アミノスルフォニル基、置換
又は未置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル基
等)若しくはアリール基(例えばフェニル基等)を表
し、R1 とR2 で環(例えば5ないし6員環)を形成し
てもよい。
えば塩素原子、臭素原子等)、アルキルカルボニル基
(例えばメチルカルボニル基、エチルカルボニル基
等)、ヒドロキシカルボニル基、アルコキシカルボニル
基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基等)、スルフォン酸基、アミノスルフォニル基、置換
又は未置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル基
等)若しくはアリール基(例えばフェニル基等)を表
し、R1 とR2 で環(例えば5ないし6員環)を形成し
てもよい。
【0007】XとYは各々−O−、−S−、−Se−、
−Te−、
−Te−、
【0008】
【化7】 −SO2 −、
【0009】
【化8】 を表し、X、Yは同一でも異なっていてもよい。
【0010】Lは−CH2 CH2 −、
【0011】
【化9】 を表す。
【0012】Kは=CH−、
【0013】
【化10】 を表す。
【0014】nは0から6の整数を表す。
【0015】Zはヒドロキシ基、メルカプトキシ基、ス
ルフォン酸基、アミノ基、ヒドロキシカルボニル基、ア
ルキルカルボニル基(例えばメチルカルボニル基、エチ
ルカルボニル基等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、
臭素原子等)、アルコキシ基、アルキルチオ基(例えば
メチルチオ基等)、アミノスルフォニル基、置換または
未置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル基等)若
しくはアリール基(例えばフェニル基等)を表す。
ルフォン酸基、アミノ基、ヒドロキシカルボニル基、ア
ルキルカルボニル基(例えばメチルカルボニル基、エチ
ルカルボニル基等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、
臭素原子等)、アルコキシ基、アルキルチオ基(例えば
メチルチオ基等)、アミノスルフォニル基、置換または
未置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル基等)若
しくはアリール基(例えばフェニル基等)を表す。
【0016】mは0〜3の整数を表す。
【0017】R3 、R4 、R5 およびR6 は各々アルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基等)、アリール基(例
えばフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ
基、エトキシ基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ基等)、トリアルキルシロキシ基(例えばトリメチル
シロキシ基等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、3級アミノ基を表す。
ル基(例えばメチル基、エチル基等)、アリール基(例
えばフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ
基、エトキシ基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ基等)、トリアルキルシロキシ基(例えばトリメチル
シロキシ基等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、3級アミノ基を表す。
【0018】M1 、M2 はアルカリ金属(例えばナトリ
ウム、カリウム等)でM1 とM2 は同一でも異なってい
てもよい。]以下に一般式[1]で表される化合物の具
体例を挙げるがこれらに限定されない。
ウム、カリウム等)でM1 とM2 は同一でも異なってい
てもよい。]以下に一般式[1]で表される化合物の具
体例を挙げるがこれらに限定されない。
【0019】
【化11】
【0020】
【化12】
【0021】
【化13】
【0022】
【化14】
【0023】
【化15】
【0024】
【化16】
【0025】前記一般式[1]で表される染料は単独で
使用してもよいし、2種以上を組合せ使用してもよい。
また、前記一般式[1]で表される染料と他の公知の染
料とを組合せてもよい。
使用してもよいし、2種以上を組合せ使用してもよい。
また、前記一般式[1]で表される染料と他の公知の染
料とを組合せてもよい。
【0026】本発明において、ハロゲン化銀写真感光材
料に含有される前記一般式[1]で表される染料は、ハ
ロゲン化銀乳剤層に含有されていてもよいし、又それ以
外の親水性コロイド層を含む構成層に含有されていても
よい。
料に含有される前記一般式[1]で表される染料は、ハ
ロゲン化銀乳剤層に含有されていてもよいし、又それ以
外の親水性コロイド層を含む構成層に含有されていても
よい。
【0027】前記一般式[1]で表される染料の含有量
は、感光材料1m2 当り1mg〜2gが好ましく、より
好ましくは5mg〜1gの範囲である。
は、感光材料1m2 当り1mg〜2gが好ましく、より
好ましくは5mg〜1gの範囲である。
【0028】前記一般式[1]で表される染料は適当な
溶媒、例えば水又はメタノール、エタノール等のアルコ
ールあるいはこれらの混合溶媒中に溶解して親水性コロ
イド層用塗布液中に添加してもよい。
溶媒、例えば水又はメタノール、エタノール等のアルコ
ールあるいはこれらの混合溶媒中に溶解して親水性コロ
イド層用塗布液中に添加してもよい。
【0029】またこれらの染料はカチオン性ポリマー等
により媒染されていてもよい。
により媒染されていてもよい。
【0030】本発明に係る直接ポジハロゲン化銀写真感
光材料としては、支持体、層構成、各種添加剤等につい
て公知技術を特別の制限なく用いることができ、かつ現
像処理についても公知の各種処理技術を採用できる。
光材料としては、支持体、層構成、各種添加剤等につい
て公知技術を特別の制限なく用いることができ、かつ現
像処理についても公知の各種処理技術を採用できる。
【0031】
【実施例】 実施例1 以下に示す様に乳剤を調整した。 溶液[1] 水 7.35l ゼラチン 93.0g NaCl 1.83g 溶液[2] 1% Na3 RhCl6 15.0ml ゼラチン 50.0g NaCl 310g KBr 70g H2 Oで 1650ml仕上げ 溶液[3] AgNO3 1.0kg H2 Oで 1650ml仕上げ 溶液[4] 1/10N HNO3 71ml 溶液[5] 炭酸ナトリウム 8.8g H2 Oで 660ml仕上げ 水 1600ml 溶液[1]の中へ溶液[4]を添加し、pH=3.0と
した。この後、溶液[2]と[3]を同時に溶液[1]
へ、35℃、EAg=280mv、pH=2.0で70分
間かけて注入し、4分間熟成した後、溶液[5]を添加
し、pH=5.80に調整した後、常法にて脱塩をし、
乳剤Aを得た。
した。この後、溶液[2]と[3]を同時に溶液[1]
へ、35℃、EAg=280mv、pH=2.0で70分
間かけて注入し、4分間熟成した後、溶液[5]を添加
し、pH=5.80に調整した後、常法にて脱塩をし、
乳剤Aを得た。
【0032】乳剤Aの平均粒径は0.18μmであっ
た。
た。
【0033】この乳剤Aを、銀1モル当り0.2mgの
チオ尿素ジオキサイドおよび1.0mgの塩化金酸を加
え65℃で60分間熟成しかぶりを生ぜしめた。さらに
銀1モル当り500mgの5−ニトロインダゾール、5
00mgの下記化合物a
チオ尿素ジオキサイドおよび1.0mgの塩化金酸を加
え65℃で60分間熟成しかぶりを生ぜしめた。さらに
銀1モル当り500mgの5−ニトロインダゾール、5
00mgの下記化合物a
【0034】
【化17】
【0035】殺菌剤として下記化合物(A)を10m
g、サポニンを3g、スチレンマレイン酸の重合体を3
g、アクリル酸ブチルの高分子ポリマーラテックスを2
0g添加した。さらに、保護膜としてゼラチン500g
の水溶液に、1−デシル−2−(3−イソペンチル)サ
クシネート−2−スルホン酸ソーダを4g添加し、平均
粒径が5μmである不定型シリカを2g添加分散し、本
発明染料と比較用染料をそれぞれ表1のように添加し、
特願平2−143430記載の静電気防止加工(親水性
コロイド層)をほどこした下引き済ポリエチレンフタレ
ートフィルム上に、銀量2.8g/m2 、乳剤層ゼラチ
ン量が1.5g/m2 、保護層ゼラチンが0.8g/m
2 による様に塗布した。
g、サポニンを3g、スチレンマレイン酸の重合体を3
g、アクリル酸ブチルの高分子ポリマーラテックスを2
0g添加した。さらに、保護膜としてゼラチン500g
の水溶液に、1−デシル−2−(3−イソペンチル)サ
クシネート−2−スルホン酸ソーダを4g添加し、平均
粒径が5μmである不定型シリカを2g添加分散し、本
発明染料と比較用染料をそれぞれ表1のように添加し、
特願平2−143430記載の静電気防止加工(親水性
コロイド層)をほどこした下引き済ポリエチレンフタレ
ートフィルム上に、銀量2.8g/m2 、乳剤層ゼラチ
ン量が1.5g/m2 、保護層ゼラチンが0.8g/m
2 による様に塗布した。
【0036】上記塗布した面の反対側のバッキング層
は、ゼラチン36g水溶液に(C−1)を1.6g、
(C−2)を1.9gを加え、サポニン0.2g、(C
−3)を5g加え、スチレン−マレイン酸ポリマー2g
加え粘度調整し、さらにクエン酸でpH5.4に調整
し、ポリグリセロールとエピクロルヒドリンの反応生成
物を100mg加え、最後にグリオキザール140mg
を加えた塗布液を塗布し、ゼラチン付量として2.0g
/m2 になるよう塗布乾燥した。
は、ゼラチン36g水溶液に(C−1)を1.6g、
(C−2)を1.9gを加え、サポニン0.2g、(C
−3)を5g加え、スチレン−マレイン酸ポリマー2g
加え粘度調整し、さらにクエン酸でpH5.4に調整
し、ポリグリセロールとエピクロルヒドリンの反応生成
物を100mg加え、最後にグリオキザール140mg
を加えた塗布液を塗布し、ゼラチン付量として2.0g
/m2 になるよう塗布乾燥した。
【0037】また同時にバッキング保護層として、ゼラ
チン50g水溶液に2−スルホネート−コハク酸ビス
(2−エチルヘキシル)エステルナトリウム塩340m
g、塩化ナトリウム3g、ムコクロル酸500mg、マ
ット剤として平均粒径4μmの球形ポリメチルメタクリ
レートを500mg加え、さらにグリオキザール1g加
えた塗布液をバッキング層と同時にゼラチン付量1.0
g/m2 になるように塗布乾燥した。
チン50g水溶液に2−スルホネート−コハク酸ビス
(2−エチルヘキシル)エステルナトリウム塩340m
g、塩化ナトリウム3g、ムコクロル酸500mg、マ
ット剤として平均粒径4μmの球形ポリメチルメタクリ
レートを500mg加え、さらにグリオキザール1g加
えた塗布液をバッキング層と同時にゼラチン付量1.0
g/m2 になるように塗布乾燥した。
【0038】
【化18】
【0039】
【化19】
【0040】上記の様に得られた試料をウェッジを通し
て、ウシオユーテックK.K製FF新明室プリンタータ
イプ、FA−Qで露光したのち、コニカ(株)製現像液
CDM−621、定着液CFL−851、自動現像液G
R−26を用いて38℃、20秒で処理した。又、下記
方法によりセーフライト製、残色の評価を行った。感度
は試料7の感度を100とした時の相対感度で示した。
て、ウシオユーテックK.K製FF新明室プリンタータ
イプ、FA−Qで露光したのち、コニカ(株)製現像液
CDM−621、定着液CFL−851、自動現像液G
R−26を用いて38℃、20秒で処理した。又、下記
方法によりセーフライト製、残色の評価を行った。感度
は試料7の感度を100とした時の相対感度で示した。
【0041】なお、残色レベルは、10段階に分けて評
価した。
価した。
【0042】5以上:使用可能なレベル (10:最良) 1〜4:使用不可 セーフライト性テスト あらかじめ50%の網点原稿が55%の網点に変換され
るように密着露光されたサンプルをUVカットした蛍光
灯の200lux光量下で、網点面積が2%減少するに
要する時間を測定した。
るように密着露光されたサンプルをUVカットした蛍光
灯の200lux光量下で、網点面積が2%減少するに
要する時間を測定した。
【0043】経時代用テスト 経時による写真性能への影響を調べるため、サーモ処理
をした。
をした。
【0044】サーモ処理は、未露光試料を50℃で3日
間熱をかけて、経時代用試料とした。
間熱をかけて、経時代用試料とした。
【0045】結果を表1に示す。
【0046】
【表1】
【0047】
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を有する。
【0048】良好なスペクトル特性を有する、特に印
刷製版用感光材料において、セーフライト光を吸収し、
Dot%の減少が少ない。
刷製版用感光材料において、セーフライト光を吸収し、
Dot%の減少が少ない。
【0049】現像処理中に脱色し、処理後の残色汚染
がきわめて少ない。
がきわめて少ない。
【0050】写真乳剤に対して不活性な特性を有する
染料を含有する、感光材料を提供できる。
染料を含有する、感光材料を提供できる。
Claims (1)
- 【請求項1】支持体上に少なくとも1層の直接ポジハロ
ゲン化銀写真乳剤層を有する直接ポジハロゲン化銀写真
感光材料において、下記一般式[1]で表される化合物
を含有することを特徴とする直接ポジハロゲン化銀写真
感光材料。 【化1】 [式中、R1 、R2 は各々水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキルカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、アルコ
キシカルボニル基、スルフォン酸基、アミノスルフォニ
ル基、置換又は未置換のアルキル基若しくはアリール基
を表し、R1 とR2 で環を形成してもよい。XとYは各
々−O−、−S−、−Se−、−Te−、 【化2】 −SO2 −、 【化3】 を表し、X、Yは同一でも異なっていてもよい。Lは−
CH2 CH2 −、 【化4】 を表す。Kは=CH−、 【化5】 を表す。nは0から6の整数を表す。Zはヒドロキシ
基、メルカプトキシ基、スルフォン酸基、アミノ基、ヒ
ドロキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノスルフ
ォニル基、置換または未置換のアルキル基若しくはアリ
ール基を表す。mは0〜3の整数を表す。R3 、R4 、
R5 およびR6 は各々アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、トリアルキルシロキシ基、ハ
ロゲン原子、3級アミノ基を表す。M1 、M2 はアルカ
リ金属でM1 とM2 は同一でも異なっていてもよい。]
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29255291A JPH05107681A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 直接ポジハロゲン化銀写真感光材料 |
EP92116865A EP0536647A1 (en) | 1991-10-11 | 1992-10-02 | Direct positive silver halide photographic materials |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29255291A JPH05107681A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 直接ポジハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05107681A true JPH05107681A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17783246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29255291A Pending JPH05107681A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 直接ポジハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0536647A1 (ja) |
JP (1) | JPH05107681A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10039748C1 (de) * | 2000-08-16 | 2002-06-13 | Agfa Gevaert Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-Oxobenzo[b]thiophenmethin-Farbstoffen |
JP5117885B2 (ja) * | 2008-02-29 | 2013-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 色素化合物、着色組成物、感熱転写記録用インクシート、感熱転写記録方法、カラートナー、インクジェット用インクおよびカラーフィルター |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61251843A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接反転ハロゲン化銀写真感光材料 |
IT1222087B (it) * | 1987-07-21 | 1990-08-31 | Minnesota Mining & Mfg | Elementi fotografici agli alogenuri d' argento di tipo positivo diretto maneggiabili a luce bianca |
JPH03150558A (ja) * | 1989-11-08 | 1991-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジ型ハロゲン化銀写真印画紙 |
-
1991
- 1991-10-11 JP JP29255291A patent/JPH05107681A/ja active Pending
-
1992
- 1992-10-02 EP EP92116865A patent/EP0536647A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0536647A1 (en) | 1993-04-14 |
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