JPH051038A - ピラゾール誘導体の製造方法 - Google Patents
ピラゾール誘導体の製造方法Info
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- JPH051038A JPH051038A JP19139891A JP19139891A JPH051038A JP H051038 A JPH051038 A JP H051038A JP 19139891 A JP19139891 A JP 19139891A JP 19139891 A JP19139891 A JP 19139891A JP H051038 A JPH051038 A JP H051038A
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- dimethylformamide
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- solvent
- pyrazole derivative
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】ピラゾロン類からピラゾール誘導体を容易に高
収率で製造する。 【構成】下記一般式（１） （式中、Ｒ１及びＲ２は同一または相異なる低級アルキ
ル基を示す）で表わされるピラゾロン類例えば１，３−
ジメチル−２−ピラゾリン−５−オンをホスゲンの存在
下にてジメチルホルムアミドと反応させることを特徴と
する下記一般式（２） で表わされるピラゾール誘導体例えば５−クロロ−１，
３−ジメチルピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
方法。
収率で製造する。 【構成】下記一般式（１） （式中、Ｒ１及びＲ２は同一または相異なる低級アルキ
ル基を示す）で表わされるピラゾロン類例えば１，３−
ジメチル−２−ピラゾリン−５−オンをホスゲンの存在
下にてジメチルホルムアミドと反応させることを特徴と
する下記一般式（２） で表わされるピラゾール誘導体例えば５−クロロ−１，
３−ジメチルピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬、農薬等の原料化
合物として有用なピラゾール誘導体の製造方法に関す
る。
合物として有用なピラゾール誘導体の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ピラゾール誘導体の製造方法として、ピ
ラゾロン類をオキシ塩化リン及びジメチルホルムアミド
と反応させてピラゾール誘導体を製造する方法が知られ
ている（特開昭63- 267762号、 Chemical Abstracts
73 3844w (1970)）。
ラゾロン類をオキシ塩化リン及びジメチルホルムアミド
と反応させてピラゾール誘導体を製造する方法が知られ
ている（特開昭63- 267762号、 Chemical Abstracts
73 3844w (1970)）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の方法では後処理時にオキシ塩化リンの分解等によ
り、多量のリン酸と塩酸が生成する。そのため、これら
の酸を中和するため大量のアルカリを必要とし、結果的
に生産効率を悪化させている。また、環境問題が深刻に
なりつつある昨今、リンを含有する排水については、特
別な処理設備を用いて、リンを除去する必要がある。さ
らに、オキシ塩化リン自体も反応剤としては高価である
等の工業的に製造を行う上での課題がある。
来の方法では後処理時にオキシ塩化リンの分解等によ
り、多量のリン酸と塩酸が生成する。そのため、これら
の酸を中和するため大量のアルカリを必要とし、結果的
に生産効率を悪化させている。また、環境問題が深刻に
なりつつある昨今、リンを含有する排水については、特
別な処理設備を用いて、リンを除去する必要がある。さ
らに、オキシ塩化リン自体も反応剤としては高価である
等の工業的に製造を行う上での課題がある。
【０００４】本発明者らは、上記課題を解決すべくピラ
ゾール誘導体の製造方法について鋭意検討した結果、ピ
ラゾロン類をホスゲンの存在下にジメチルホルムアミド
と反応させることにより容易にかつ高収率でピラゾール
誘導体を製造できることを見出し本発明に至った。
ゾール誘導体の製造方法について鋭意検討した結果、ピ
ラゾロン類をホスゲンの存在下にジメチルホルムアミド
と反応させることにより容易にかつ高収率でピラゾール
誘導体を製造できることを見出し本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は一般
式（１）、（式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一または相異なる
低級アルキル基を示す。）で表わさ れるピラゾロン類をホスゲンの存在下にジメチルホルム
アミドと反応させることを特徴とする一般式（２）、 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記した基と同一である。）で
表わされるピラゾール誘導体の製造方法である。
式（１）、（式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一または相異なる
低級アルキル基を示す。）で表わさ れるピラゾロン類をホスゲンの存在下にジメチルホルム
アミドと反応させることを特徴とする一般式（２）、 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記した基と同一である。）で
表わされるピラゾール誘導体の製造方法である。
【０００６】本発明の反応は、溶液または懸濁状態で行
われ、好ましくは溶媒を用いて行われる。溶媒としては
反応に不活性なものであれば制限されるものではなく、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル
類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等の
エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシ
ド等の非プロトン性極性溶媒類、ピリジン、ピコリン、
トリエチルアミン等の有機塩基類等が挙げられる。ま
た、これらの溶媒を混合して反応溶媒として用いること
も可能である。
われ、好ましくは溶媒を用いて行われる。溶媒としては
反応に不活性なものであれば制限されるものではなく、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル
類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等の
エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシ
ド等の非プロトン性極性溶媒類、ピリジン、ピコリン、
トリエチルアミン等の有機塩基類等が挙げられる。ま
た、これらの溶媒を混合して反応溶媒として用いること
も可能である。
【０００７】ジメチルホルムアミドの使用量はピラゾロ
ン類１モルに対し、等モル以上使用すれば良く、好まし
くは約１．１〜１．６モルの範囲である。ホスゲンの使
用量はピラゾロン類１モルに対し、２．０モル以上使用
すれば良く、好ましくは約２〜３モルの範囲である。
ン類１モルに対し、等モル以上使用すれば良く、好まし
くは約１．１〜１．６モルの範囲である。ホスゲンの使
用量はピラゾロン類１モルに対し、２．０モル以上使用
すれば良く、好ましくは約２〜３モルの範囲である。
【０００８】反応温度は、常温からそれぞれの溶媒の沸
点の間、好ましくは約６０〜９０℃の範囲から選択され
る。
点の間、好ましくは約６０〜９０℃の範囲から選択され
る。
【０００９】反応は加温したピラゾロン類を溶解または
懸濁させたジメチルホルムアミドを含む溶液にホスゲン
を吹き込んで反応させる方法、または、溶媒および／ま
たはピラゾロン類の溶液にジメチルホルムアミドを加
え、溶媒を加温しておき、そこへピラゾロン類の溶液と
ホスゲンを共に加えながら反応させる方法がある。
懸濁させたジメチルホルムアミドを含む溶液にホスゲン
を吹き込んで反応させる方法、または、溶媒および／ま
たはピラゾロン類の溶液にジメチルホルムアミドを加
え、溶媒を加温しておき、そこへピラゾロン類の溶液と
ホスゲンを共に加えながら反応させる方法がある。
【００１０】予めピラゾロン類の全量を仕込んで反応さ
せる方法では、０．２％程度の次式で示されるダイマー
体が副生し、生成物中に混入する。 一方、ピラゾロン類の溶液とホスゲンを共に加えながら
反応させる方法は、上記のダイマー体が副生しなくな
り、わずかではあるが収率が向上し、好ましい。
せる方法では、０．２％程度の次式で示されるダイマー
体が副生し、生成物中に混入する。 一方、ピラゾロン類の溶液とホスゲンを共に加えながら
反応させる方法は、上記のダイマー体が副生しなくな
り、わずかではあるが収率が向上し、好ましい。
【００１１】反応時間は、反応剤の量、反応温度等によ
り変わるが、約１〜４８時間の範囲から選択すれば良
い。
り変わるが、約１〜４８時間の範囲から選択すれば良
い。
【００１２】反応終了後は、反応液に水を注入し、アル
カリで中和する等の常法の操作を行うことにより、目的
化合物であるピラゾール誘導体を得ることができる。該
ピラゾール誘導体はこのまま、または必要に応じて、蒸
留再結晶等の手段によりさらに精製し、原料化合物とし
て供することができる。
カリで中和する等の常法の操作を行うことにより、目的
化合物であるピラゾール誘導体を得ることができる。該
ピラゾール誘導体はこのまま、または必要に応じて、蒸
留再結晶等の手段によりさらに精製し、原料化合物とし
て供することができる。
【００１３】
【発明の効果】本発明の方法により、医薬、農薬等の原
料化合物として有用なピラゾール誘導体を容易にかつ高
収率で製造することができる。
料化合物として有用なピラゾール誘導体を容易にかつ高
収率で製造することができる。
【００１４】
【実施例】次に実施例にて本発明をより詳しく説明する
が、本発明は下記の実施例のみに限定されるものではな
い。
が、本発明は下記の実施例のみに限定されるものではな
い。
【００１５】実施例１
１，３−ジメチル−２−ピラゾリン−５−オン５０ｇ
（０．４４６モル）、ジメチルホルムアミド５０ｇ
（０．６８４モル）をクロロベンゼン２００ｇ中に加
え、７０〜８０℃に加温した。そこにホスゲン１２０ｇ
（１．２１３モル）を７０〜８０℃で４時間かけて吹き
込んだ後、同温度で５時間保持した。反応液を室温まで
冷却後、除熱を行いながら水１００ｇを注入し、２３％
ＮａＯＨ水溶液２００ｇ（１．１５モル）で中和した。
（０．４４６モル）、ジメチルホルムアミド５０ｇ
（０．６８４モル）をクロロベンゼン２００ｇ中に加
え、７０〜８０℃に加温した。そこにホスゲン１２０ｇ
（１．２１３モル）を７０〜８０℃で４時間かけて吹き
込んだ後、同温度で５時間保持した。反応液を室温まで
冷却後、除熱を行いながら水１００ｇを注入し、２３％
ＮａＯＨ水溶液２００ｇ（１．１５モル）で中和した。
【００１６】分液して有機層を分取し、減圧下に濃縮す
ることにより、５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾー
ル−４−カルボアルデビドの淡黄色結晶６５．２ｇを得
た。収率は９２．２％であり、結晶の純度は９９．０％
であった。
ることにより、５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾー
ル−４−カルボアルデビドの淡黄色結晶６５．２ｇを得
た。収率は９２．２％であり、結晶の純度は９９．０％
であった。
【００１７】比較例１
１，３−ジメチル−２−ピラゾリン−５−オン１０ｇ
（０．０８９モル）、ジメチルホルムアミド８．４ｇ
（０．１１５モル）をジクロロエタン１０ｇ中に加え、
オキシ塩化リン２７．３ｇ（０．１７８モル）を内温を
３０℃以下に保って滴下した。その後９０℃まで昇温
し、６時間保持した。反応液を室温まで冷却後、ジクロ
ロエタン３０ｇを加えて除熱を行いながら水３０ｇを注
入した。次に反応液を２３％ＮａＯＨ水溶液１１４ｇ
（０．６５６モル）で中和したところリン酸ソーダの結
晶が析出したため、水２００ｇを加え溶解した。
（０．０８９モル）、ジメチルホルムアミド８．４ｇ
（０．１１５モル）をジクロロエタン１０ｇ中に加え、
オキシ塩化リン２７．３ｇ（０．１７８モル）を内温を
３０℃以下に保って滴下した。その後９０℃まで昇温
し、６時間保持した。反応液を室温まで冷却後、ジクロ
ロエタン３０ｇを加えて除熱を行いながら水３０ｇを注
入した。次に反応液を２３％ＮａＯＨ水溶液１１４ｇ
（０．６５６モル）で中和したところリン酸ソーダの結
晶が析出したため、水２００ｇを加え溶解した。
【００１８】分液をし、水層はジクロロエタン３０ｇで
４回抽出した。有機層をまとめて減圧下に濃縮すること
により、５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−４
−カルボアルデビドの黄色結晶１２．４ｇを得た。収率
は８７．７％であり、結晶の純度は９９．０％であっ
た。
４回抽出した。有機層をまとめて減圧下に濃縮すること
により、５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−４
−カルボアルデビドの黄色結晶１２．４ｇを得た。収率
は８７．７％であり、結晶の純度は９９．０％であっ
た。
【００１９】実施例２
１，３−ジメチル−２−ピラゾリン−５−オン５０．０
ｇ（０．４４６モル）とジメチルホルムアミド５２．２
ｇ（０．７１４モル）をクロロベンゼン５０ｇ中に加
え、７０℃に加温し、溶解させた。別にクロロベンゼン
１５０ｇを７０℃に加温しておき、前記１，３−ジメチ
ル−２−ピラゾリン−５−オン、ジメチルホルムアミド
のクロロベンゼン溶液の滴下とホスゲン６０．０ｇ
（０．６０７モル）のを吹き込みとを７０℃で２時間か
けて行った。同温度でホスゲン３０．０（０．３０３モ
ル）をさらに１時間かけて吹き込み、７０℃で４時間保
持した。
ｇ（０．４４６モル）とジメチルホルムアミド５２．２
ｇ（０．７１４モル）をクロロベンゼン５０ｇ中に加
え、７０℃に加温し、溶解させた。別にクロロベンゼン
１５０ｇを７０℃に加温しておき、前記１，３−ジメチ
ル−２−ピラゾリン−５−オン、ジメチルホルムアミド
のクロロベンゼン溶液の滴下とホスゲン６０．０ｇ
（０．６０７モル）のを吹き込みとを７０℃で２時間か
けて行った。同温度でホスゲン３０．０（０．３０３モ
ル）をさらに１時間かけて吹き込み、７０℃で４時間保
持した。
【００２０】次にジメチルホルムアミド２．０ｇ（０．
０２７モル）を加え、ホスゲン１２．５ｇ（０．１２６
モル）を７０℃で３０分かけて吹き込み、同温度で４時
間保持した。このジメチルホルムアミド注加、ホスゲン
吹き込み操作、４時間保持の操作をさらに２回繰り返し
た。反応液に水１００ｇを加え、４０〜５０℃で２３％
ＮａＯＨ水溶液２００ｇ（１．１５モル）で中和した。
クロロベンゼン５０ｇを加え、抽出して有機層を分取し
たところ、５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−
４−カルボアルデヒドが収率９３．３％で得られた。な
お、ダイマー体の副生は見られなかった。
０２７モル）を加え、ホスゲン１２．５ｇ（０．１２６
モル）を７０℃で３０分かけて吹き込み、同温度で４時
間保持した。このジメチルホルムアミド注加、ホスゲン
吹き込み操作、４時間保持の操作をさらに２回繰り返し
た。反応液に水１００ｇを加え、４０〜５０℃で２３％
ＮａＯＨ水溶液２００ｇ（１．１５モル）で中和した。
クロロベンゼン５０ｇを加え、抽出して有機層を分取し
たところ、５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−
４−カルボアルデヒドが収率９３．３％で得られた。な
お、ダイマー体の副生は見られなかった。
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（１）、 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一または相異なる低級アルキ
ル基を示す。）で表わされるピラゾロン類をホスゲンの
存在下にてジメチルホルムアミドと反応させることを特
徴とする一般式（２）、 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記した基と同一である。）で
表わされるピラゾール誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 溶媒および／またはピラゾロン類の溶液
にジメチルホルムアミドを加え、加温した溶媒中へピラ
ゾロン類の溶液およびホスゲンを共に加えながら反応さ
せることを特徴とする請求項１記載のピラゾール誘導体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03191398A JP3097193B2 (ja) | 1990-08-29 | 1991-07-31 | ピラゾール誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-231542 | 1990-08-29 | ||
| JP23154290 | 1990-08-29 | ||
| JP03191398A JP3097193B2 (ja) | 1990-08-29 | 1991-07-31 | ピラゾール誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH051038A true JPH051038A (ja) | 1993-01-08 |
| JP3097193B2 JP3097193B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=26506671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03191398A Expired - Lifetime JP3097193B2 (ja) | 1990-08-29 | 1991-07-31 | ピラゾール誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3097193B2 (ja) |
-
1991
- 1991-07-31 JP JP03191398A patent/JP3097193B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3097193B2 (ja) | 2000-10-10 |
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Legal Events
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