JPH0494537A - ウエハ洗浄装置 - Google Patents
ウエハ洗浄装置Info
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- JPH0494537A JPH0494537A JP21301190A JP21301190A JPH0494537A JP H0494537 A JPH0494537 A JP H0494537A JP 21301190 A JP21301190 A JP 21301190A JP 21301190 A JP21301190 A JP 21301190A JP H0494537 A JPH0494537 A JP H0494537A
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- Japan
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- magnetic bearing
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 2
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体を製造するための基板、即ちウェハをジ
ェット液流、ブラシ等により両面同時に洗浄するウェハ
洗浄装置に関するものである。
ェット液流、ブラシ等により両面同時に洗浄するウェハ
洗浄装置に関するものである。
従来、ウェハの両面を同時に洗浄するウェハ洗浄装置は
、第２図に示すように構成されていた。
、第２図に示すように構成されていた。
第２図において、被洗浄物であるウェハ２１の外周部を
チャック２２により保持し、電動機２３を適当な回転数
で回転させなからウェハ２１の上下両面にジェット液流
２４ａ、２５ａをノズル２４．２５で噴射させて洗浄す
るか又はブラシ２６でウェハ２１の表面を洗浄している
。このときウェハ２１の裏面に関しては電動機２３の回
転軸が妨げとなり、各種の洗浄方法が適用できず、チャ
ック２２の支柱２２ａの間隙よりジェット液流２５ａを
ウェハ２１の裏面に当る程度の洗浄しかおこなえなかっ
た。
チャック２２により保持し、電動機２３を適当な回転数
で回転させなからウェハ２１の上下両面にジェット液流
２４ａ、２５ａをノズル２４．２５で噴射させて洗浄す
るか又はブラシ２６でウェハ２１の表面を洗浄している
。このときウェハ２１の裏面に関しては電動機２３の回
転軸が妨げとなり、各種の洗浄方法が適用できず、チャ
ック２２の支柱２２ａの間隙よりジェット液流２５ａを
ウェハ２１の裏面に当る程度の洗浄しかおこなえなかっ
た。
上述したように、従来の洗浄装置においては、電動機２
３の回転軸がウェハ２１の裏側に存在すめるため、ウェ
ハ２１の裏面の洗浄を十分に行なうことが困難であった
。
３の回転軸がウェハ２１の裏側に存在すめるため、ウェ
ハ２１の裏面の洗浄を十分に行なうことが困難であった
。
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、ウェハの裏
面にも種々の洗浄手段が適用できるウェハ洗浄装置を提
供することを目的とする。
面にも種々の洗浄手段が適用できるウェハ洗浄装置を提
供することを目的とする。
上記課題を解決するため本発明は、ウェハ洗浄装置を下
記の如く構成した。ウェハの外周部を保持するチャック
を円筒状の回転体上に設置し、該回転体を磁気軸受によ
り浮上保持し、さらに回転体に設けられたロータ磁性体
と、該ロータ磁性体に対向して配置されたステータコイ
ルからなる電動機で回転体に回転力を与える構成とし、
ウニ／−の表面は外側から裏面は前記回転体の内側から
洗浄する洗浄手段を設け前記ウェハの表裏両面を同時洗
浄することを特徴とする。
記の如く構成した。ウェハの外周部を保持するチャック
を円筒状の回転体上に設置し、該回転体を磁気軸受によ
り浮上保持し、さらに回転体に設けられたロータ磁性体
と、該ロータ磁性体に対向して配置されたステータコイ
ルからなる電動機で回転体に回転力を与える構成とし、
ウニ／−の表面は外側から裏面は前記回転体の内側から
洗浄する洗浄手段を設け前記ウェハの表裏両面を同時洗
浄することを特徴とする。
また、前記磁気軸受及び電動機を金属薄板で覆い、キャ
ンド構造としたことを特徴とする。
ンド構造としたことを特徴とする。
洗浄装置を上記の如く構成することにより、ウェハは中
心部に回転軸を持たない円筒状の回転体上に設置された
チャックに支持されているため、ウェハの表裏両面、特
に裏面を回転体の内側から洗浄できるため、両面同時に
最適な洗浄手段を用いて洗浄することが可能となる。
心部に回転軸を持たない円筒状の回転体上に設置された
チャックに支持されているため、ウェハの表裏両面、特
に裏面を回転体の内側から洗浄できるため、両面同時に
最適な洗浄手段を用いて洗浄することが可能となる。
また、回転体を磁気軸受により非接触で支承するから、
通常の接触型軸受を用いる場合に問題となる発塵による
汚染も生じないという利点も得られる。
通常の接触型軸受を用いる場合に問題となる発塵による
汚染も生じないという利点も得られる。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明のウェハ洗浄装置の構成を示す図である
。ウェハ１は円筒状の回転体３の上に設置されたチャッ
ク２により外周部を保持されるようになってＣ）る。回
転体３は同じく円筒状の固定体４に、ラジアル磁気軸受
５，６とスラスト磁気軸受７，８で浮上保持きれるよう
になっている。
。ウェハ１は円筒状の回転体３の上に設置されたチャッ
ク２により外周部を保持されるようになってＣ）る。回
転体３は同じく円筒状の固定体４に、ラジアル磁気軸受
５，６とスラスト磁気軸受７，８で浮上保持きれるよう
になっている。
ラジアル磁気軸受５，６は、前記回転体３に外周部に設
けられた回転側の磁性体部材５ｂ、６ｂと前記固定体４
の内周部に該磁性体部材５ｂ、６ｂに対向して設けられ
た固定側の電磁コイル５ａ。
けられた回転側の磁性体部材５ｂ、６ｂと前記固定体４
の内周部に該磁性体部材５ｂ、６ｂに対向して設けられ
た固定側の電磁コイル５ａ。
６ａにより構成され、スラスト磁気軸受７，８は前記回
転体３の上下に設けられたリング状の回転側の磁性体部
材７ｂ、８ｂと前記固定体４の上下に磁性体部材７ｂ、
８ｂに対向して設けられた固定側の電磁フィル７ａ、８
ａにより構成されている。ラジアル磁気軸受５とラジア
ル磁気軸受６の間には電動機１２が配置されている。該
電動機１２は回転体３の外周部に設けられたロータ磁性
体１２ｂと固定体４の内周部に該ロータ磁性体１２ｂに
対向した配置されたステータフィル１２ａからなる。
転体３の上下に設けられたリング状の回転側の磁性体部
材７ｂ、８ｂと前記固定体４の上下に磁性体部材７ｂ、
８ｂに対向して設けられた固定側の電磁フィル７ａ、８
ａにより構成されている。ラジアル磁気軸受５とラジア
ル磁気軸受６の間には電動機１２が配置されている。該
電動機１２は回転体３の外周部に設けられたロータ磁性
体１２ｂと固定体４の内周部に該ロータ磁性体１２ｂに
対向した配置されたステータフィル１２ａからなる。
スラスト磁気軸受７を構成する磁性体部材７ｂと電磁コ
イル７ａの間隙及びスラスト磁気軸受８を構成する磁性
体部材８ｂと電磁コイル８ａの間隙はスラスト方向間隙
センサ９により検出＃れるようになっている。また、ラ
ジアル磁気軸受５を構成する磁性体部材５ｂと電磁コイ
ル５ａの間隙はラジアル方向間隙センサ１０で検知され
、ラジアル磁気軸受６を構成する磁性体部材６ｂと電磁
コイル６ａの間隙はラジアル方向間隙センサ１１で検知
されるようになっている。
イル７ａの間隙及びスラスト磁気軸受８を構成する磁性
体部材８ｂと電磁コイル８ａの間隙はスラスト方向間隙
センサ９により検出＃れるようになっている。また、ラ
ジアル磁気軸受５を構成する磁性体部材５ｂと電磁コイ
ル５ａの間隙はラジアル方向間隙センサ１０で検知され
、ラジアル磁気軸受６を構成する磁性体部材６ｂと電磁
コイル６ａの間隙はラジアル方向間隙センサ１１で検知
されるようになっている。
外側にはノズル１３と回転ブラシ１４とが配置されてお
り、回転体３の内側にはノズル１５と回転ブラシ１６と
が配置されている。ウェハ１の表面にはノズル１３から
ジェット液流１３ａが噴射されるようになっており、更
に回転ブラシ１４が当接するようになっている。また、
ウェハ１の裏面にはノズル１５からジェット液流１５ａ
が噴射されるようになっており、更に回転ブラシ１６が
当接するようになっている。なお、前記固定体４は装置
の枠体１７内に固定きれている。また、１８は汚れた洗
浄液等を排出するための排出口である。
り、回転体３の内側にはノズル１５と回転ブラシ１６と
が配置されている。ウェハ１の表面にはノズル１３から
ジェット液流１３ａが噴射されるようになっており、更
に回転ブラシ１４が当接するようになっている。また、
ウェハ１の裏面にはノズル１５からジェット液流１５ａ
が噴射されるようになっており、更に回転ブラシ１６が
当接するようになっている。なお、前記固定体４は装置
の枠体１７内に固定きれている。また、１８は汚れた洗
浄液等を排出するための排出口である。
上記構成のウェハ洗浄装置において、スラスト方向間隙
センサ９の出力信号によりスラスト磁気軸受７の電磁コ
イル７ａ及びスラスト磁気軸受８ノ電磁フイル８ａに流
れる励磁電流を制御することにより、電磁コイル７ａと
磁性体部材７ｂの間隙及び電磁コイル８ａと磁性体部材
８ｂの間隙が所定の値に保持きれる。また、ラジアル方
向間隙センサ１０の出力信号によりラジアル磁気軸受５
の電磁コイル５ａに流れる励磁電流を制御することによ
り、該電磁コイル５ａと磁性体部材５ｂの間隙が所定の
値に保持され、ラジアル方向間隙センサ１１の出力信号
によりラジアル磁気軸受６の電磁コイル６ａに流れる励
磁電流を制御することにより、該電磁コイル６ａと磁性
体部材６ｂの間隙が所定の値に保持される。そして、電
動機１２のステータコイル１２ａに駆動電流を供給する
ことにより、電動機１２は駆動し、回転体３が回転する
。これにより、ウェハ１の表面はノズル１３からのジェ
ット液流１３ａと回転ブラシ１４により洗浄されると共
に、ウェハ１の裏面はノズル１５からのジェット液流１
５ａと回転ブラシ１６により洗浄される。即ち、ウェハ
１の表裏両面が同時に洗浄されることになる。洗浄後は
回転体３の回転速度を高めることによりウェハ１の面の
水分を遠心力で振り切って乾燥させることができる。
センサ９の出力信号によりスラスト磁気軸受７の電磁コ
イル７ａ及びスラスト磁気軸受８ノ電磁フイル８ａに流
れる励磁電流を制御することにより、電磁コイル７ａと
磁性体部材７ｂの間隙及び電磁コイル８ａと磁性体部材
８ｂの間隙が所定の値に保持きれる。また、ラジアル方
向間隙センサ１０の出力信号によりラジアル磁気軸受５
の電磁コイル５ａに流れる励磁電流を制御することによ
り、該電磁コイル５ａと磁性体部材５ｂの間隙が所定の
値に保持され、ラジアル方向間隙センサ１１の出力信号
によりラジアル磁気軸受６の電磁コイル６ａに流れる励
磁電流を制御することにより、該電磁コイル６ａと磁性
体部材６ｂの間隙が所定の値に保持される。そして、電
動機１２のステータコイル１２ａに駆動電流を供給する
ことにより、電動機１２は駆動し、回転体３が回転する
。これにより、ウェハ１の表面はノズル１３からのジェ
ット液流１３ａと回転ブラシ１４により洗浄されると共
に、ウェハ１の裏面はノズル１５からのジェット液流１
５ａと回転ブラシ１６により洗浄される。即ち、ウェハ
１の表裏両面が同時に洗浄されることになる。洗浄後は
回転体３の回転速度を高めることによりウェハ１の面の
水分を遠心力で振り切って乾燥させることができる。
なお、上記実施例では、５軸制御型磁気軸受けを例とし
て挙げており、ラジアル方向間隙センサ１０．１１とラ
ジアル磁気軸受５，６、スラスト方向間隙センサ９とス
ラスト磁気軸受７，８及び電動機１２を第１図に示すよ
うな配置とすることにより構成しているが、磁気軸受及
び電動機の構成はこの他にも種々の形式が考えられ、こ
の例に限定きれるものでないことは当然である。
て挙げており、ラジアル方向間隙センサ１０．１１とラ
ジアル磁気軸受５，６、スラスト方向間隙センサ９とス
ラスト磁気軸受７，８及び電動機１２を第１図に示すよ
うな配置とすることにより構成しているが、磁気軸受及
び電動機の構成はこの他にも種々の形式が考えられ、こ
の例に限定きれるものでないことは当然である。
また、必要に応じて回転体３、固定体４０表面を金属の
薄板で覆って所謂キャンド型とすることにより、防水、
防錆効果を向上させることができる。
薄板で覆って所謂キャンド型とすることにより、防水、
防錆効果を向上させることができる。
また、上記実施例では、洗浄手段としてノズルからジェ
ット液流を噴射される方法とブラシを当接される方法を
示したが、洗浄手段はこれに限定されるものではなく、
他の方法、例えばドライアイス噴流、超音波液流等を適
用することも可能である。
ット液流を噴射される方法とブラシを当接される方法を
示したが、洗浄手段はこれに限定されるものではなく、
他の方法、例えばドライアイス噴流、超音波液流等を適
用することも可能である。
以上説明したように本発明によれば下記のような優れた
効果が得られる。
効果が得られる。
（１）ウェハを回転されるための回転軸がウェハの表面
側及び裏面側のいずれにも存在しないから、最適な洗浄
手段を各々の面を洗浄するために用いることができる。
側及び裏面側のいずれにも存在しないから、最適な洗浄
手段を各々の面を洗浄するために用いることができる。
（２）ウェハの回転を磁気軸受を用いた非接触で行なう
ため、発塵による汚染が防止できる。
ため、発塵による汚染が防止できる。
第１図は本発明のウェハ洗浄装置の構成を示す断面正面
図、第２図は従来のウェハ洗浄装置の構成を示す断面正
面図であ咎。 図中、１・・・・ウェハ、２・・・・チャック、３・・
・・回転体、４・・・・固定体、５・・・・ラジアル磁
気軸受、６・・・・ラジアル磁気軸受、７・・・・スラ
スト磁気軸受、８・・・・スラスト磁気軸受、９・・・
・スラスト方向間隙センサ、１０・・・・ラジアル方向
間隙センサ、１１・・・・ラジアル方向間隙センサ、１
２・・・・電動機、１３・・・・ノズル、１４・・・・
回転ブラシ、１５・・・・ノズル、１６・自・回転ブラ
シ。 特許出願人 株式会社荏原製作所 代理人 弁理士 熊 谷 隆（外１名）Ａ’７１ 日！
Ｉ ｎ ７ ｘ ｉ、；１４’ｌ Ｘ第１図
図、第２図は従来のウェハ洗浄装置の構成を示す断面正
面図であ咎。 図中、１・・・・ウェハ、２・・・・チャック、３・・
・・回転体、４・・・・固定体、５・・・・ラジアル磁
気軸受、６・・・・ラジアル磁気軸受、７・・・・スラ
スト磁気軸受、８・・・・スラスト磁気軸受、９・・・
・スラスト方向間隙センサ、１０・・・・ラジアル方向
間隙センサ、１１・・・・ラジアル方向間隙センサ、１
２・・・・電動機、１３・・・・ノズル、１４・・・・
回転ブラシ、１５・・・・ノズル、１６・自・回転ブラ
シ。 特許出願人 株式会社荏原製作所 代理人 弁理士 熊 谷 隆（外１名）Ａ’７１ 日！
Ｉ ｎ ７ ｘ ｉ、；１４’ｌ Ｘ第１図
Claims (2)
- （１）ウェハの外周部を保持するチャックを円筒状の回
転体上に設置し、該回転体を磁気軸受により浮上保持し
、さらに回転体に設けられたロータ磁性体と、該ロータ
磁性体に対向して配置されたステータコイルからなる電
動機で前記回転体に回転力を与える構成とし、ウェハの
表面は外側から裏面は前記回転体の内側から洗浄する洗
浄手段を設け前記ウェハの表裏両面を同時洗浄すること
を特徴とするウェハ洗浄装置。 - （２）前記磁気軸受及び電動機を金属薄板で覆い、キャ
ンド構造としたことを特徴とする請求項（１）記載のウ
ェハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21301190A JP2887408B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | ウエハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21301190A JP2887408B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | ウエハ洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0494537A true JPH0494537A (ja) | 1992-03-26 |
| JP2887408B2 JP2887408B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=16632021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21301190A Expired - Fee Related JP2887408B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | ウエハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2887408B2 (ja) |
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| US6423642B1 (en) | 1998-03-13 | 2002-07-23 | Semitool, Inc. | Reactor for processing a semiconductor wafer |
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-
1990
- 1990-08-10 JP JP21301190A patent/JP2887408B2/ja not_active Expired - Fee Related
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