JPS6018472B2 - 回転式超音波洗浄装置 - Google Patents
回転式超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6018472B2 JPS6018472B2 JP13704577A JP13704577A JPS6018472B2 JP S6018472 B2 JPS6018472 B2 JP S6018472B2 JP 13704577 A JP13704577 A JP 13704577A JP 13704577 A JP13704577 A JP 13704577A JP S6018472 B2 JPS6018472 B2 JP S6018472B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning liquid
- cleaned
- cleaning
- drain port
- cleaning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、超音波振動を洗浄液に付加する超音波洗浄装
置に関する。
置に関する。
従来のこの種、超音波洗浄装置は、被洗浄物を静止状態
か、又は直線的移動、或は電動による回転運動で洗浄を
行なっていた。
か、又は直線的移動、或は電動による回転運動で洗浄を
行なっていた。
そのため、超音波振動により被洗浄物に付加される洗浄
力の方向が一定範囲に限定されてしまい、多数の超状や
微少な隙間を有する物体を洗浄する場合には長時間洗浄
したり或は被洗浄物の姿勢を転換したりしないと、塵挨
や異物を完全に除去出来なかった。また電動式の場合、
洗浄槽が複雑になったり、大きな電力を費すなどの欠点
があった。本発明の目的はこれらの欠点を除去し、多数
の超状や微少な隙間を有する物体でも、この物体に超音
波振動による洗浄力の外に、洗浄液の頃射撃更に回転運
動等によって多方面から流動圧を付加することにより、
短時間で清浄な洗浄を遂行し、且つ洗浄槽の簡素化され
た低消費電力の超音波洗浄装置を提供することにある。
力の方向が一定範囲に限定されてしまい、多数の超状や
微少な隙間を有する物体を洗浄する場合には長時間洗浄
したり或は被洗浄物の姿勢を転換したりしないと、塵挨
や異物を完全に除去出来なかった。また電動式の場合、
洗浄槽が複雑になったり、大きな電力を費すなどの欠点
があった。本発明の目的はこれらの欠点を除去し、多数
の超状や微少な隙間を有する物体でも、この物体に超音
波振動による洗浄力の外に、洗浄液の頃射撃更に回転運
動等によって多方面から流動圧を付加することにより、
短時間で清浄な洗浄を遂行し、且つ洗浄槽の簡素化され
た低消費電力の超音波洗浄装置を提供することにある。
本発明の回転式超音波洗浄装置は洗浄液が入れられた洗
浄槽と、前記洗浄液に超音波振動を付加する振動子と、
前記洗浄槽内で被洗浄物が設置される支軸と、前記洗浄
液を排出する排水口と、前記洗浄液を噴射させるノズル
と、前記排水口から排出された前記洗浄液を前記ノズル
まで循環させるポンプと、前記排水口から排出された前
記洗浄液を櫨過するフィル夕とを備え、前記被洗浄物に
前記ノズルから前記洗浄液を噴射することにより、前記
被洗浄物を回転させることを特徴とする。
浄槽と、前記洗浄液に超音波振動を付加する振動子と、
前記洗浄槽内で被洗浄物が設置される支軸と、前記洗浄
液を排出する排水口と、前記洗浄液を噴射させるノズル
と、前記排水口から排出された前記洗浄液を前記ノズル
まで循環させるポンプと、前記排水口から排出された前
記洗浄液を櫨過するフィル夕とを備え、前記被洗浄物に
前記ノズルから前記洗浄液を噴射することにより、前記
被洗浄物を回転させることを特徴とする。
以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す正面図、第２図はその
断面図である。振動子６によって超音波振動が付加され
ている洗浄液１内において回転可能な支軸２に被洗浄物
３が設置される。洗浄液１はポンプ８によって排水口７
から吸引され、フィル夕９を通して循環路１０に送られ
、上記支軸２に対し対称なる様に設置されたノズル４，
４′から図中の点線で示す様に被洗浄物３に対し噴射さ
れる。従って該流動圧により、被洗浄物３に回転力が発
生し、被洗浄物３は回転運動を行う。この時付随して洗
浄液１内に乱流が発生し、この波及効果も作用し、被洗
浄物３に多方向から流動圧が付加されることになる。尚
本発明は噴射用ノズルの数量及び噴射方向を制限するも
のではなく又洗浄液の噴射方法を、連続的でもパルス的
でも良い。
断面図である。振動子６によって超音波振動が付加され
ている洗浄液１内において回転可能な支軸２に被洗浄物
３が設置される。洗浄液１はポンプ８によって排水口７
から吸引され、フィル夕９を通して循環路１０に送られ
、上記支軸２に対し対称なる様に設置されたノズル４，
４′から図中の点線で示す様に被洗浄物３に対し噴射さ
れる。従って該流動圧により、被洗浄物３に回転力が発
生し、被洗浄物３は回転運動を行う。この時付随して洗
浄液１内に乱流が発生し、この波及効果も作用し、被洗
浄物３に多方向から流動圧が付加されることになる。尚
本発明は噴射用ノズルの数量及び噴射方向を制限するも
のではなく又洗浄液の噴射方法を、連続的でもパルス的
でも良い。
以上説明したように、本発明は被洗浄物に洗浄液を贋射
撃することにより被洗浄物を回転させるため、構造の簡
素化された洗浄槽内に発生する洗浄液の乱流により複雑
な形状をした物体でも短時間で清浄な洗浄を遂行出来る
。
撃することにより被洗浄物を回転させるため、構造の簡
素化された洗浄槽内に発生する洗浄液の乱流により複雑
な形状をした物体でも短時間で清浄な洗浄を遂行出来る
。
第１図は本発明の一実施例を示す正面図、第２図はその
側面図を示す。 １・・・・・・洗浄液、２・・・・・・支軸、３・・・
・・・被洗浄物、４，４′・・・・・・ノズル、５・・
・・・・洗浄槽、６・・・・・・振動子、７……排水口
、８……ポンプ、９……フィルター、１０・・…・循環
路。 鈴′図 約そ函
側面図を示す。 １・・・・・・洗浄液、２・・・・・・支軸、３・・・
・・・被洗浄物、４，４′・・・・・・ノズル、５・・
・・・・洗浄槽、６・・・・・・振動子、７……排水口
、８……ポンプ、９……フィルター、１０・・…・循環
路。 鈴′図 約そ函
Claims (1)
- １ 洗浄液が入れられた洗浄槽と、前記洗浄液に超音波
振動を付加する振動子と、前記洗浄槽内で被洗浄物が設
置される支軸と、前記洗浄液を排出する排水口と、前記
洗浄液を噴射させるノズルと、前記排水口から排出され
た前記洗浄液を前記ノズルまで循環させるポンプと、前
記排水口から排出された前記洗浄液を濾過するフイルタ
とを備え、前記被洗浄物に前記ノズルから前記洗浄液を
噴射することにより、前記被洗浄物を回転させることを
特徴とする回転式超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13704577A JPS6018472B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 回転式超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13704577A JPS6018472B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 回転式超音波洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5469260A JPS5469260A (en) | 1979-06-04 |
| JPS6018472B2 true JPS6018472B2 (ja) | 1985-05-10 |
Family
ID=15189570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13704577A Expired JPS6018472B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 回転式超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6018472B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5932989A (ja) * | 1982-02-04 | 1984-02-22 | 古野電気株式会社 | 超音波洗浄方法 |
| DE3374526D1 (en) * | 1983-07-06 | 1987-12-23 | Snef Electro Mecanique | Method and apparatus for cleaning big work pieces |
| JPS6028089U (ja) * | 1983-08-02 | 1985-02-25 | 中国省エネ機器販売株式会社 | 噴流式超音波洗浄機 |
| JPH0596254A (ja) * | 1990-05-07 | 1993-04-20 | Haneda Seisakusho:Kk | 超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄槽 |
| US5090432A (en) * | 1990-10-16 | 1992-02-25 | Verteq, Inc. | Single wafer megasonic semiconductor wafer processing system |
| US5520205A (en) * | 1994-07-01 | 1996-05-28 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus for wafer cleaning with rotation |
| US5534076A (en) * | 1994-10-03 | 1996-07-09 | Verteg, Inc. | Megasonic cleaning system |
| US5593505A (en) * | 1995-04-19 | 1997-01-14 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method for cleaning semiconductor wafers with sonic energy and passing through a gas-liquid-interface |
| US6039059A (en) | 1996-09-30 | 2000-03-21 | Verteq, Inc. | Wafer cleaning system |
| US5816274A (en) * | 1997-04-10 | 1998-10-06 | Memc Electronic Materials, Inc. | Apparartus for cleaning semiconductor wafers |
| CN104690034A (zh) * | 2015-04-07 | 2015-06-10 | 黄浩 | 一种用于清洗金属手表带的超声波清洗装置 |
| JP2018015747A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | 日東精工株式会社 | 微細気泡洗浄装置 |
| CN111014172B (zh) * | 2019-12-24 | 2021-04-30 | 广州一品红制药有限公司 | 一种药材加工用超声波清洗器 |
-
1977
- 1977-11-14 JP JP13704577A patent/JPS6018472B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5469260A (en) | 1979-06-04 |
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