JPH1190355A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH1190355A JPH1190355A JP27806997A JP27806997A JPH1190355A JP H1190355 A JPH1190355 A JP H1190355A JP 27806997 A JP27806997 A JP 27806997A JP 27806997 A JP27806997 A JP 27806997A JP H1190355 A JPH1190355 A JP H1190355A
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- Japan
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- cleaning
- waterproof pan
- bottom plate
- rotating shaft
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄の際のシール性能を向上させて、例え薬
液を使った洗浄であっても、この雰囲気が駆動機構側に
達してしまうことがないようにする。 【解決手段】 防水パン６０の底板５６の複数の挿通孔
５６ａをそれぞれ挿通して複数の回転軸１６とこれを取
り囲むスリーブ３４が設けられ、前記回転軸１６の上端
に基板Ｗを回転自在に把持する把持部１０が、前記防水
パンの下側に前記回転軸及びスリーブを水平方向に移動
しかつ回転軸を回転させる駆動機構２０が設けられた洗
浄装置において、前記スリーブの上端側と前記回転軸の
間にはシール部材５０が設けられ、前記スリーブの上端
側と前記防水パンの底板の挿通孔の間にはこれらの間の
隙間を水密的に覆う柔軟性のある筒状被覆部材６６が設
けられている。
液を使った洗浄であっても、この雰囲気が駆動機構側に
達してしまうことがないようにする。 【解決手段】 防水パン６０の底板５６の複数の挿通孔
５６ａをそれぞれ挿通して複数の回転軸１６とこれを取
り囲むスリーブ３４が設けられ、前記回転軸１６の上端
に基板Ｗを回転自在に把持する把持部１０が、前記防水
パンの下側に前記回転軸及びスリーブを水平方向に移動
しかつ回転軸を回転させる駆動機構２０が設けられた洗
浄装置において、前記スリーブの上端側と前記回転軸の
間にはシール部材５０が設けられ、前記スリーブの上端
側と前記防水パンの底板の挿通孔の間にはこれらの間の
隙間を水密的に覆う柔軟性のある筒状被覆部材６６が設
けられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハ等の被洗浄物を保持しつつ回転させて、この表面また
は裏面を洗浄するのに使用して最適な洗浄装置に関す
る。
ハ等の被洗浄物を保持しつつ回転させて、この表面また
は裏面を洗浄するのに使用して最適な洗浄装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの高集積化が進むにつれ
て回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭くなりつ
つあり、半導体基板の平坦化の方法としてメカノケミカ
ルポリッシングが用いられる場合がある。このような半
導体基板上に配線間距離より大きなダストが存在する
と、配線がショートする等の不具合が生じるため、半導
体ウエハ上に許容される残留ダストの大きさも配線間距
離に比べて十分に小さいものでなければならない。
て回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭くなりつ
つあり、半導体基板の平坦化の方法としてメカノケミカ
ルポリッシングが用いられる場合がある。このような半
導体基板上に配線間距離より大きなダストが存在する
と、配線がショートする等の不具合が生じるため、半導
体ウエハ上に許容される残留ダストの大きさも配線間距
離に比べて十分に小さいものでなければならない。
【０００３】ポリッシングの終了した半導体ウエハを洗
浄する方法としては、ナイロン、モヘア等のブラシやＰ
ＶＡ（ポリビニルアルコール）等からなるスポンジで半
導体ウエハの表面を擦って洗浄する、いわゆるスクラビ
ング洗浄、超音波の振動エネルギーを与えた水をウエハ
表面に噴射して洗浄する超音波洗浄、またはキャビテー
ションを有する高圧水をウエハに噴射して洗浄する方法
等が一般に知られており、これらの洗浄方法を複数段に
組み合わせた洗浄が広く行われている。
浄する方法としては、ナイロン、モヘア等のブラシやＰ
ＶＡ（ポリビニルアルコール）等からなるスポンジで半
導体ウエハの表面を擦って洗浄する、いわゆるスクラビ
ング洗浄、超音波の振動エネルギーを与えた水をウエハ
表面に噴射して洗浄する超音波洗浄、またはキャビテー
ションを有する高圧水をウエハに噴射して洗浄する方法
等が一般に知られており、これらの洗浄方法を複数段に
組み合わせた洗浄が広く行われている。
【０００４】スクラビング洗浄装置の一つとして、図６
に示すような洗浄装置が知られている。これは、略円筒
状の複数（図６では６個）の回転子１０を円周上に配置
し、この回転子１０の外周面に設けたＶ字状の溝１２に
半導体ウエハ等の被洗浄物Ｗの外周縁部を差し込んで該
被洗浄物Ｗを保持し、回転子１０を回転駆動して被洗浄
物Ｗを回転させつつ、ロールブラシ等の洗浄部材１４を
被洗浄物Ｗの表面及び／又は裏面に摺接させるようにし
たものである。
に示すような洗浄装置が知られている。これは、略円筒
状の複数（図６では６個）の回転子１０を円周上に配置
し、この回転子１０の外周面に設けたＶ字状の溝１２に
半導体ウエハ等の被洗浄物Ｗの外周縁部を差し込んで該
被洗浄物Ｗを保持し、回転子１０を回転駆動して被洗浄
物Ｗを回転させつつ、ロールブラシ等の洗浄部材１４を
被洗浄物Ｗの表面及び／又は裏面に摺接させるようにし
たものである。
【０００５】前記各回転子１０は、各回転軸１６の上端
にこれと一体に回転するように連結され、また、図示で
は、各３個の回転子１０からなる回転子群１８ａ，１８
ｂが、互いに閉じる方向または開く方向に一体となって
同時に水平に移動し、これによって、被洗浄物Ｗの保持
及び洗浄後の開放を行う（または被洗浄物を本装置にセ
ットするときに両回転子群が互いに開く方向に移動す
る）ようになっている。
にこれと一体に回転するように連結され、また、図示で
は、各３個の回転子１０からなる回転子群１８ａ，１８
ｂが、互いに閉じる方向または開く方向に一体となって
同時に水平に移動し、これによって、被洗浄物Ｗの保持
及び洗浄後の開放を行う（または被洗浄物を本装置にセ
ットするときに両回転子群が互いに開く方向に移動す
る）ようになっている。
【０００６】この洗浄装置には、前記各回転子群１８
ａ，１８ｂ毎に、図７に示すような駆動機構２０が備え
られている。すなわち、中央に位置する回転子１０の回
転軸１６の下端に駆動モータ２２が連結され、この駆動
モータ２２の駆動に伴って、この中央に位置する回転子
１０の回転軸１６が回転し、更にこの回転軸１６に固着
したプーリ２４と他の回転軸１６に固着したプーリ２６
及びベルト２８を介して他の回転軸１６が回転するよう
になっている。
ａ，１８ｂ毎に、図７に示すような駆動機構２０が備え
られている。すなわち、中央に位置する回転子１０の回
転軸１６の下端に駆動モータ２２が連結され、この駆動
モータ２２の駆動に伴って、この中央に位置する回転子
１０の回転軸１６が回転し、更にこの回転軸１６に固着
したプーリ２４と他の回転軸１６に固着したプーリ２６
及びベルト２８を介して他の回転軸１６が回転するよう
になっている。
【０００７】この種の洗浄装置にあっては、被洗浄物Ｗ
の洗浄の際における前記駆動機構２０側への漏水を防止
する必要があり、このため、例えば図７及び図８に示す
ような構成が備えられている。
の洗浄の際における前記駆動機構２０側への漏水を防止
する必要があり、このため、例えば図７及び図８に示す
ような構成が備えられている。
【０００８】すなわち、前記各回転軸１６の周囲には、
レール３０に沿って図８の上下方向に走行自在な基台３
２の上面に固着されたスリーブ３４が配置され、これら
のスリーブ３４の上部にはフランジ３６が連結され、こ
のフランジ３６を介して防水板３８が取り付けられてい
る。防水板３８は、平板部４０と該平板部４０の周縁部
から下方に延出して３本の回転軸１６の周囲を囲繞する
薄肉で扁平な筒状の側壁部４２とから構成され、前記平
板部４０に設けられた開口４０ａ内に前記フランジ３６
の上部を挿通させた状態で各フランジ３６にビス止めさ
れている。
レール３０に沿って図８の上下方向に走行自在な基台３
２の上面に固着されたスリーブ３４が配置され、これら
のスリーブ３４の上部にはフランジ３６が連結され、こ
のフランジ３６を介して防水板３８が取り付けられてい
る。防水板３８は、平板部４０と該平板部４０の周縁部
から下方に延出して３本の回転軸１６の周囲を囲繞する
薄肉で扁平な筒状の側壁部４２とから構成され、前記平
板部４０に設けられた開口４０ａ内に前記フランジ３６
の上部を挿通させた状態で各フランジ３６にビス止めさ
れている。
【０００９】更に、洗浄の際に被洗浄物Ｗの周囲を覆う
上下動自在な薄肉略円筒状の移動カップ４４が備えら
れ、この移動カップ４４の下端には、各回転子群１８
ａ，１８ｂを囲む位置に開口部４６ａが設けられた底板
４６が取り付けられている。さらに、この開口部４６ａ
の縁部には前記防水板３８の側壁部４２の内側に入り込
む形状及び大きさに形成された薄肉で扁平筒状の入り子
板４８が３本の回転軸１６の周囲を囲むように上方に延
びて取り付けられている。
上下動自在な薄肉略円筒状の移動カップ４４が備えら
れ、この移動カップ４４の下端には、各回転子群１８
ａ，１８ｂを囲む位置に開口部４６ａが設けられた底板
４６が取り付けられている。さらに、この開口部４６ａ
の縁部には前記防水板３８の側壁部４２の内側に入り込
む形状及び大きさに形成された薄肉で扁平筒状の入り子
板４８が３本の回転軸１６の周囲を囲むように上方に延
びて取り付けられている。
【００１０】これによって、被洗浄物Ｗの洗浄の際に、
回転軸１６の周囲をスリーブ３４で包囲するとともに、
スリーブ３４の上部外周を防水板３８で包囲し、更にこ
の防水板３８の側壁部４２の内部に入り子板４８が入り
込むようにして、前記駆動機構２０側へ湿気が行かない
ようになっている。
回転軸１６の周囲をスリーブ３４で包囲するとともに、
スリーブ３４の上部外周を防水板３８で包囲し、更にこ
の防水板３８の側壁部４２の内部に入り子板４８が入り
込むようにして、前記駆動機構２０側へ湿気が行かない
ようになっている。
【００１１】被洗浄物Ｗの洗浄の際には、移動カップ４
４上端は図７のＬ1の高さ、底板４６はＬ3の高さにあ
り、移動カップ４４により洗浄中の水が洗浄装置外へ飛
散しないようになっている。非洗浄時は移動カップ４４
上端は図７のＬ2の高さ、底板４６はＬ4の高さに位置す
る。非洗浄時においても、入り子板４８上端と、側壁部
４２下端とはオーバーラップし、駆動機構２０側へ湿気
が行かないようになっている。
４上端は図７のＬ1の高さ、底板４６はＬ3の高さにあ
り、移動カップ４４により洗浄中の水が洗浄装置外へ飛
散しないようになっている。非洗浄時は移動カップ４４
上端は図７のＬ2の高さ、底板４６はＬ4の高さに位置す
る。非洗浄時においても、入り子板４８上端と、側壁部
４２下端とはオーバーラップし、駆動機構２０側へ湿気
が行かないようになっている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例にあっては、スリーブ３４の外周の遮蔽が十分では
なく、例えば薬液を使って被洗浄物Ｗの表面側や裏面側
を洗浄する際に、この薬液の雰囲気が、図７に矢印Ａで
示すように、移動カップ４４と防水板３８の側壁部４２
との間から該側壁部４２と入り子板４８との間を通って
スリーブ３４の周囲に達してしまっていた。しかも、回
転子１０は、防水板３８の上方に完全に露出した状態で
配置されているとともに、回転子１０と回転軸１６の周
囲を覆うスリーブ３４の上部に取付けたフランジ３６と
の間に隙間Ｂがあり、このため、例えば薬液洗浄の際の
薬液雰囲気がこの隙間Ｂから回転軸１６の周囲を伝わり
駆動機構２０側に達してしまうといった問題があった。
来例にあっては、スリーブ３４の外周の遮蔽が十分では
なく、例えば薬液を使って被洗浄物Ｗの表面側や裏面側
を洗浄する際に、この薬液の雰囲気が、図７に矢印Ａで
示すように、移動カップ４４と防水板３８の側壁部４２
との間から該側壁部４２と入り子板４８との間を通って
スリーブ３４の周囲に達してしまっていた。しかも、回
転子１０は、防水板３８の上方に完全に露出した状態で
配置されているとともに、回転子１０と回転軸１６の周
囲を覆うスリーブ３４の上部に取付けたフランジ３６と
の間に隙間Ｂがあり、このため、例えば薬液洗浄の際の
薬液雰囲気がこの隙間Ｂから回転軸１６の周囲を伝わり
駆動機構２０側に達してしまうといった問題があった。
【００１３】本発明は上記に鑑み、シール性能を向上さ
せて薬液洗浄の雰囲気が駆動機構側に達してしまうこと
がないようにした洗浄装置を提供することを目的とす
る。
せて薬液洗浄の雰囲気が駆動機構側に達してしまうこと
がないようにした洗浄装置を提供することを目的とす
る。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、防水パンの底板の挿通孔を挿通して複数の回転軸が
設けられ、前記回転軸に基板を回転自在に把持する把持
部が設けられた洗浄装置において、前記複数の回転軸の
取り付けてある取付部材と、前記挿通孔との間には、こ
れらの間の隙間を水密的に覆う被覆部材が設けられてい
ることを特徴とする洗浄装置である。これにより、防水
パンの内側の洗浄空間と取付部材とが被覆部材により仕
切られ、回転軸の駆動機構等に洗浄空間からのミストが
浸入しない。
は、防水パンの底板の挿通孔を挿通して複数の回転軸が
設けられ、前記回転軸に基板を回転自在に把持する把持
部が設けられた洗浄装置において、前記複数の回転軸の
取り付けてある取付部材と、前記挿通孔との間には、こ
れらの間の隙間を水密的に覆う被覆部材が設けられてい
ることを特徴とする洗浄装置である。これにより、防水
パンの内側の洗浄空間と取付部材とが被覆部材により仕
切られ、回転軸の駆動機構等に洗浄空間からのミストが
浸入しない。
【００１５】請求項２に記載の発明は、前記取付部材が
水平方向に移動可能であり、前記被覆部材が柔軟性のあ
る筒状被覆部材であることを特徴とする請求項１に記載
の洗浄装置である。これにより、柔軟性のある筒状被覆
部材を介して防水パンと回転軸との相対的な移動を吸収
し、基板の把持動作を安定に行なうことができる。
水平方向に移動可能であり、前記被覆部材が柔軟性のあ
る筒状被覆部材であることを特徴とする請求項１に記載
の洗浄装置である。これにより、柔軟性のある筒状被覆
部材を介して防水パンと回転軸との相対的な移動を吸収
し、基板の把持動作を安定に行なうことができる。
【００１６】請求項３に記載の発明は、防水パンの底板
の挿通孔を挿通して複数の回転軸が設けられ、前記回転
軸に基板を回転自在に把持する把持部が設けられた洗浄
装置において、前記複数の回転軸の取り付けてある取付
部材と、前記回転軸との間にはシール部材が設けられて
いることを特徴とする洗浄装置である。これにより、防
水パンの内側の洗浄空間と回転軸とがシール部材により
仕切られ、回転軸の駆動機構等に洗浄空間からのミスト
が浸入しない。
の挿通孔を挿通して複数の回転軸が設けられ、前記回転
軸に基板を回転自在に把持する把持部が設けられた洗浄
装置において、前記複数の回転軸の取り付けてある取付
部材と、前記回転軸との間にはシール部材が設けられて
いることを特徴とする洗浄装置である。これにより、防
水パンの内側の洗浄空間と回転軸とがシール部材により
仕切られ、回転軸の駆動機構等に洗浄空間からのミスト
が浸入しない。
【００１７】請求項４に記載の発明は、前記シール部材
が、下端が前記取付部材のシール面に接する舌片を有す
ることを特徴とする請求項３に記載の洗浄装置。これに
より、把持部と取付部材との間を塞いで、この間での漏
れを有効に防止する。
が、下端が前記取付部材のシール面に接する舌片を有す
ることを特徴とする請求項３に記載の洗浄装置。これに
より、把持部と取付部材との間を塞いで、この間での漏
れを有効に防止する。
【００１８】請求項５に記載の発明は、前記防水パン
が、前記底板に一体に設けた筒状壁と、該筒状壁に対し
て軸方向移動自在な筒状の内側カバーとを有することを
特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の洗浄装
置である。これにより、被洗浄物の周囲を内側カバーで
包囲して、洗浄液が外方に飛び散ってしまうことを防止
するとともに、内側カバーを下降させて、被洗浄物の回
転子との受け渡しの便を図ることができる。
が、前記底板に一体に設けた筒状壁と、該筒状壁に対し
て軸方向移動自在な筒状の内側カバーとを有することを
特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の洗浄装
置である。これにより、被洗浄物の周囲を内側カバーで
包囲して、洗浄液が外方に飛び散ってしまうことを防止
するとともに、内側カバーを下降させて、被洗浄物の回
転子との受け渡しの便を図ることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、ポリッシング装置で研磨さ
れた半導体ウエハを被洗浄物として洗浄するのに適した
本発明の実施の形態を図１乃至図４を参照して説明す
る。なお、前記図６乃至図８に示す従来例と同一部材に
は同一符号を付して、その説明を省略する。
れた半導体ウエハを被洗浄物として洗浄するのに適した
本発明の実施の形態を図１乃至図４を参照して説明す
る。なお、前記図６乃至図８に示す従来例と同一部材に
は同一符号を付して、その説明を省略する。
【００２０】図２に示すように各回転軸１６は上端が小
径に形成され、これには中心孔が形成された固定部材１
１がボルトにより取り付けられ、さらにこの固定部材の
外周に嵌合するように回転子１０がボルト等により取り
付けられている。回転子１０の下部内側及び固定部材下
部外側にはそれぞれ段差面が形成され、これにより横断
面矩形の環状凹部１０ａが設けられ、この凹部１０ａ内
にシールリング５０が収納されている。
径に形成され、これには中心孔が形成された固定部材１
１がボルトにより取り付けられ、さらにこの固定部材の
外周に嵌合するように回転子１０がボルト等により取り
付けられている。回転子１０の下部内側及び固定部材下
部外側にはそれぞれ段差面が形成され、これにより横断
面矩形の環状凹部１０ａが設けられ、この凹部１０ａ内
にシールリング５０が収納されている。
【００２１】回転軸１６は、基台３２に立設されたスリ
ーブ３４により囲繞され、このスリーブ３４の上端に
は、やや大径のフランジ５１が形成されており、これの
内側に上部軸受５２が取り付けられている。フランジ５
１の上側には、上面に凸面５３ａを有する軸カバー５３
がボルトにより取り付けられ、前記シーリング５０の下
部に形成された薄肉の舌片５４の下端が軸カバー５３の
凸面５３ａに接するようになっている。基台３２は、レ
ール３０上を走行自在にされ、その下側に各回転軸１６
を回転駆動する駆動機構２０が設けられている点は従来
と同様である。
ーブ３４により囲繞され、このスリーブ３４の上端に
は、やや大径のフランジ５１が形成されており、これの
内側に上部軸受５２が取り付けられている。フランジ５
１の上側には、上面に凸面５３ａを有する軸カバー５３
がボルトにより取り付けられ、前記シーリング５０の下
部に形成された薄肉の舌片５４の下端が軸カバー５３の
凸面５３ａに接するようになっている。基台３２は、レ
ール３０上を走行自在にされ、その下側に各回転軸１６
を回転駆動する駆動機構２０が設けられている点は従来
と同様である。
【００２２】一方、図１のように、この基台３２とは別
体として、外部に固定された防水パン６０が設けられて
いる。これは、円板状の底板部５６と該底板部５６の外
周端面に下端内周面を連結した薄肉円筒状の円筒部５８
とを有して上方に開口しており、この底板部５６の所定
の位置には各スリーブ３４が挿通可能な合計６個の挿通
孔５６ａが形成されている。これらの挿通孔５６ａは、
被洗浄物を着脱するためにスリーブ３４が前後移動して
もこれが当接しないような大きさを有している。
体として、外部に固定された防水パン６０が設けられて
いる。これは、円板状の底板部５６と該底板部５６の外
周端面に下端内周面を連結した薄肉円筒状の円筒部５８
とを有して上方に開口しており、この底板部５６の所定
の位置には各スリーブ３４が挿通可能な合計６個の挿通
孔５６ａが形成されている。これらの挿通孔５６ａは、
被洗浄物を着脱するためにスリーブ３４が前後移動して
もこれが当接しないような大きさを有している。
【００２３】また、底板部５６と軸カバー５３の間に
は、スリーブ３４を取り囲むように、ベローズ６２が、
それぞれ取付リング６８，７０を介して取り付けられて
いる。すなわち、本実施例では、ベローズ６２を係止す
るところの取付部材（回転軸１６を取付ける部材）とし
て軸カバー５３を設けている。これは、図３に示す回転
子群１８ａ，１８ｂの水平移動を許容しつつ防水パン６
０の内部空間と駆動機構２０がある下側の空間とを遮蔽
して、被洗浄物Ｗの洗浄の際に、薬液雰囲気等が駆動機
構２０側に達してしまうことを防止する。なお、ベロー
ズ６２は、回転軸１６を取付ける部材と底板部５６との
間に設ければよく、軸カバー５３の代わりにフランジ５
１にベローズ６２の一端を取付けてもよい。
は、スリーブ３４を取り囲むように、ベローズ６２が、
それぞれ取付リング６８，７０を介して取り付けられて
いる。すなわち、本実施例では、ベローズ６２を係止す
るところの取付部材（回転軸１６を取付ける部材）とし
て軸カバー５３を設けている。これは、図３に示す回転
子群１８ａ，１８ｂの水平移動を許容しつつ防水パン６
０の内部空間と駆動機構２０がある下側の空間とを遮蔽
して、被洗浄物Ｗの洗浄の際に、薬液雰囲気等が駆動機
構２０側に達してしまうことを防止する。なお、ベロー
ズ６２は、回転軸１６を取付ける部材と底板部５６との
間に設ければよく、軸カバー５３の代わりにフランジ５
１にベローズ６２の一端を取付けてもよい。
【００２４】防水パン６０の円筒部５８の内側には、被
洗浄物Ｗの周囲を覆う薄肉略円筒状の内側カバー７２が
上下動自在に配置されている。例えば内側カバーの突部
７２ａにシリンダの一部が取付けてあり、シリンダに気
体を吸気、排気することにより内側カバー７２が昇降す
る。この内側カバー７２の外径は、防水パン６０の円筒
部５８の内径より僅かに小さく設定され、また、内側カ
バー７２の昇降は、これが下降した時に、防水パン６０
の内部に完全に収まり、被洗浄物Ｗを回転子１０へ渡す
ことを可能とし、上昇した時に、この下部が防水パン６
０の円筒部５８の上部で所定距離重なり合うように設定
され洗浄中の洗浄液が、洗浄装置外に飛散しないように
なっている。
洗浄物Ｗの周囲を覆う薄肉略円筒状の内側カバー７２が
上下動自在に配置されている。例えば内側カバーの突部
７２ａにシリンダの一部が取付けてあり、シリンダに気
体を吸気、排気することにより内側カバー７２が昇降す
る。この内側カバー７２の外径は、防水パン６０の円筒
部５８の内径より僅かに小さく設定され、また、内側カ
バー７２の昇降は、これが下降した時に、防水パン６０
の内部に完全に収まり、被洗浄物Ｗを回転子１０へ渡す
ことを可能とし、上昇した時に、この下部が防水パン６
０の円筒部５８の上部で所定距離重なり合うように設定
され洗浄中の洗浄液が、洗浄装置外に飛散しないように
なっている。
【００２５】次に、上記のように構成した洗浄装置の作
用を説明する。まず、被洗浄物Ｗを受け取る場合には、
駆動装置２０を停止し、洗浄液の供給を停止して内側カ
バー７２を下降させ、また、回転子群１８ａ，１８ｂを
互いに開いた状態で被洗浄物Ｗをロボットハンド等を用
いて所定位置に運ぶ。そして、回転子群１８ａ，１８ｂ
を閉じて被洗浄物を受け取り、この周囲を包囲する如く
内側カバー７２を上昇させる。そして、駆動装置を動作
させて回転子を回転して被洗浄物を回転させながら洗浄
液を供給し、洗浄部材によるスクラブ洗浄を行なう。
用を説明する。まず、被洗浄物Ｗを受け取る場合には、
駆動装置２０を停止し、洗浄液の供給を停止して内側カ
バー７２を下降させ、また、回転子群１８ａ，１８ｂを
互いに開いた状態で被洗浄物Ｗをロボットハンド等を用
いて所定位置に運ぶ。そして、回転子群１８ａ，１８ｂ
を閉じて被洗浄物を受け取り、この周囲を包囲する如く
内側カバー７２を上昇させる。そして、駆動装置を動作
させて回転子を回転して被洗浄物を回転させながら洗浄
液を供給し、洗浄部材によるスクラブ洗浄を行なう。
【００２６】ここにおいて、回転側である回転子１０の
下面と、固定側の軸カバー５３の上面との間は舌片５４
を有するシールリング５０で完全に塞いでおり、従っ
て、被洗浄物Ｗの洗浄の際の防水パン６０の内側の薬液
雰囲気等がスリーブ３４の内部に達することなく、さら
には駆動装置２０側に到達することが防止される。ま
た、軸カバー５３と底板５６の間にはベローズが配置さ
れているので、防水パン６０の内部空間と駆動装置２０
がある下側の空間とは遮蔽され、挿通孔５６ａを経由し
て薬液雰囲気等が駆動機構２０側に達することも防止さ
れる。勿論、内側カバー７２によって薬液等が外方に飛
び散ってしまうことも防止される。被洗浄物とは半導体
ウエハ、ＬＣＤ等種々考えられる。
下面と、固定側の軸カバー５３の上面との間は舌片５４
を有するシールリング５０で完全に塞いでおり、従っ
て、被洗浄物Ｗの洗浄の際の防水パン６０の内側の薬液
雰囲気等がスリーブ３４の内部に達することなく、さら
には駆動装置２０側に到達することが防止される。ま
た、軸カバー５３と底板５６の間にはベローズが配置さ
れているので、防水パン６０の内部空間と駆動装置２０
がある下側の空間とは遮蔽され、挿通孔５６ａを経由し
て薬液雰囲気等が駆動機構２０側に達することも防止さ
れる。勿論、内側カバー７２によって薬液等が外方に飛
び散ってしまうことも防止される。被洗浄物とは半導体
ウエハ、ＬＣＤ等種々考えられる。
【００２７】図１では底板部５６に、３本の回転軸１６
のための挿通孔を個別に設けたが、本発明はこれに限ら
れず、例えば前述の従来技術のように３本の回転軸１６
に対して共通の挿通孔を１つ設けてもよい（図５参
照）。
のための挿通孔を個別に設けたが、本発明はこれに限ら
れず、例えば前述の従来技術のように３本の回転軸１６
に対して共通の挿通孔を１つ設けてもよい（図５参
照）。
【００２８】以下、図５を参照して説明すると、従来技
術と同様に、防水板３８ａは、平板部４０ａと、平板部
４０ａの周縁部から下方に延出して３本の回転軸１６の
周囲を囲む筒状の側壁部４２ａとから構成されている。
なお、図１と同様の部分には同じ符号を付し、説明は省
略する。
術と同様に、防水板３８ａは、平板部４０ａと、平板部
４０ａの周縁部から下方に延出して３本の回転軸１６の
周囲を囲む筒状の側壁部４２ａとから構成されている。
なお、図１と同様の部分には同じ符号を付し、説明は省
略する。
【００２９】底板部５６と側壁部４２ａとの間には、ス
リーブ３４をとり囲むようにベローズ６２ａが取り付け
られている。すなわち、本実施例では、ベローズ６２ａ
を係止するところの取付部材（回転軸１６を取付ける部
材）として防水板３８ａを設けている。側壁部４２ａを
設けず、ベローズ６２ａを、平板部４０ａと底板部５６
との間に設けてもよい。作用、効果は図１の場合と同様
である。また、図５では各回転軸１６用に個別のスリー
ブ３４を設けているが、これのかわりに３本の回転軸を
支持する部材（各回転軸の両端を支持する都合６個の軸
受を取り付ける部材）を１つ設けるようにしてもよい。
リーブ３４をとり囲むようにベローズ６２ａが取り付け
られている。すなわち、本実施例では、ベローズ６２ａ
を係止するところの取付部材（回転軸１６を取付ける部
材）として防水板３８ａを設けている。側壁部４２ａを
設けず、ベローズ６２ａを、平板部４０ａと底板部５６
との間に設けてもよい。作用、効果は図１の場合と同様
である。また、図５では各回転軸１６用に個別のスリー
ブ３４を設けているが、これのかわりに３本の回転軸を
支持する部材（各回転軸の両端を支持する都合６個の軸
受を取り付ける部材）を１つ設けるようにしてもよい。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数の回転軸の取付けてある取付部材と回転軸との間を
シール部材でシールし、または取付部材と挿通孔との間
の隙間を被覆部材で覆うことにより、防水パンの内側の
洗浄空間と取付部材または回転軸とを仕切り、その結果
該洗浄空間と防水パンの下側の駆動機構を収容する空間
とを仕切り、洗浄空間からの液体やミストが駆動機構に
浸入するのを防止して駆動機構の寿命を伸ばし、また、
装置の安定な稼動を促す。また、柔軟性のある筒状被覆
部材を介して防水パンと回転軸との相対的な移動を吸収
し、基板の把持動作を安定に行わせる。従って、シール
性能を向上させて薬液洗浄の雰囲気が駆動機構側に達し
てしまうことがないようにした洗浄装置を提供すること
ができる。
複数の回転軸の取付けてある取付部材と回転軸との間を
シール部材でシールし、または取付部材と挿通孔との間
の隙間を被覆部材で覆うことにより、防水パンの内側の
洗浄空間と取付部材または回転軸とを仕切り、その結果
該洗浄空間と防水パンの下側の駆動機構を収容する空間
とを仕切り、洗浄空間からの液体やミストが駆動機構に
浸入するのを防止して駆動機構の寿命を伸ばし、また、
装置の安定な稼動を促す。また、柔軟性のある筒状被覆
部材を介して防水パンと回転軸との相対的な移動を吸収
し、基板の把持動作を安定に行わせる。従って、シール
性能を向上させて薬液洗浄の雰囲気が駆動機構側に達し
てしまうことがないようにした洗浄装置を提供すること
ができる。
【図１】本発明の実施の形態の洗浄装置を示す断面図
（図３のＡ−Ａ線断面図）である。
（図３のＡ−Ａ線断面図）である。
【図２】図１の洗浄装置の一部を拡大して拡大して示す
拡大図である。
拡大図である。
【図３】図１の洗浄装置の平面図である。
【図４】図１の洗浄装置の断面図（図３のＢ−Ｂ線断面
図）である。
図）である。
【図５】この発明の他の実施の形態の洗浄装置を示す断
面図である。
面図である。
【図６】洗浄装置の全体を示す概要図である。
【図７】従来の洗浄装置を示す断面図である。
【図８】図７の洗浄装置の平面図である。
１０ 回転子 １０ａ 同凹部 １２ 溝 １６ 回転軸 １８ａ，１８ｂ 回転子群 ２０ 駆動機構 ３８ａ，５３ 取付部材 ５０ シールリング ５１ フランジ ５２ 上部軸受 ５４ 舌片 ５６ 底板部 ５８ 円筒部 ６０ 防水パン ６２ 防水装置 ６６ 蛇腹部 ７２ 内側カバー
Claims (5)
- 【請求項１】 防水パンの底板の挿通孔を挿通して複数
の回転軸が設けられ、前記回転軸に基板を回転自在に把
持する把持部が設けられた洗浄装置において、 前記複数の回転軸の取り付けてある取付部材と、前記挿
通孔との間には、これらの間の隙間を水密的に覆う被覆
部材が設けられていることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 前記取付部材は水平方向に移動可能であ
り、前記被覆部材は柔軟性のある筒状被覆部材であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。 - 【請求項３】 防水パンの底板の挿通孔を挿通して複数
の回転軸が設けられ、前記回転軸に基板を回転自在に把
持する把持部が設けられた洗浄装置において、 前記複数の回転軸の取り付けてある取付部材と、前記回
転軸との間にはシール部材が設けられていることを特徴
とする洗浄装置。 - 【請求項４】 前記シール部材は、下端が前記取付部材
のシール面に接する舌片を有することを特徴とする請求
項３に記載の洗浄装置。 - 【請求項５】 前記防水パンは、前記底板に一体に設け
た筒状壁と、該筒状壁に対して軸方向移動自在な筒状の
内側カバーとを有することを特徴とする請求項１ないし
４のいずれかに記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27806997A JP3630538B2 (ja) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27806997A JP3630538B2 (ja) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1190355A true JPH1190355A (ja) | 1999-04-06 |
| JP3630538B2 JP3630538B2 (ja) | 2005-03-16 |
Family
ID=17592224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27806997A Expired - Lifetime JP3630538B2 (ja) | 1997-09-25 | 1997-09-25 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3630538B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6431948B1 (en) | 1999-06-02 | 2002-08-13 | Ebara Corporation | Wafer cleaning apparatus |
| US8795032B2 (en) | 2008-06-04 | 2014-08-05 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method |
| CN109199281A (zh) * | 2018-09-03 | 2019-01-15 | 曹开军 | 具备水力空化机构的清洗器具 |
| CN112264416A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-26 | 何洁媚 | 一种高效的化工设备清洗装置 |
| CN109199281B (zh) * | 2018-09-03 | 2024-06-07 | 曹开军 | 具备水力空化机构的清洗器具 |
-
1997
- 1997-09-25 JP JP27806997A patent/JP3630538B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6431948B1 (en) | 1999-06-02 | 2002-08-13 | Ebara Corporation | Wafer cleaning apparatus |
| US8795032B2 (en) | 2008-06-04 | 2014-08-05 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method |
| US9358662B2 (en) | 2008-06-04 | 2016-06-07 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method |
| US9687957B2 (en) | 2008-06-04 | 2017-06-27 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method |
| US10486285B2 (en) | 2008-06-04 | 2019-11-26 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method |
| US11426834B2 (en) | 2008-06-04 | 2022-08-30 | Ebara Corporation | Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method |
| CN109199281A (zh) * | 2018-09-03 | 2019-01-15 | 曹开军 | 具备水力空化机构的清洗器具 |
| CN109199281B (zh) * | 2018-09-03 | 2024-06-07 | 曹开军 | 具备水力空化机构的清洗器具 |
| CN112264416A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-26 | 何洁媚 | 一种高效的化工设备清洗装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3630538B2 (ja) | 2005-03-16 |
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