JP3953682B2 - ウエハ洗浄装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造工程で使用されるウエハ洗浄装置に関し、特に洗浄装置内のシール構造及び筐体構造に特徴のあるウエハ洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体デバイスの高集積化が進むにつれて回路の配線が微細化し、配線距離もより狭くなりつつある。特に配線間距離が0.5μm以下の光リソグラフィの場合は、焦点深度が浅くなるためにステッパの結像面の高い平坦度を必要とする。またウエハ上に配線間距離より大きなパーティクルが存在すると、配線がショートするなどの不具合が生じるので、ウエハの処理においては、平坦化とともに清浄化を図ることが重要となる。このような事情は、マスクなどに用いるガラス基板、或いは液晶パネルなどの各種ウエハのプロセス処理においても同様である。清浄化を図るためには洗浄装置を用いてウエハを洗浄することとなるが、従来のウエハ洗浄装置には以下のような問題点があった。
【0003】
即ちウエハ洗浄装置内のウエハを洗浄する洗浄室内に配置される各部品は、主に樹脂材料、セラミック材料などの、洗浄薬液などに対して耐腐食性に富む材料が一般的に用いられる。
【0004】
しかしながら前記ウエハや洗浄具を駆動するモータやエアシリンダなどの動力部においては、各部品に要求される加工精度,強度などの点から、金属製の部品を使用せざるを得ない場合が多々ある。このような金属部品に対しては樹脂コーティングなどの表面処理を行なう場合もあるが、摺動部や高精度の嵌め合い部では表面処理が困難な場合もある。従って洗浄室内に金属部分が露出しないように、洗浄室と動力部とを確実に信頼性のある方法で分離してシールし、動力部への洗浄薬液の接触を防止することが重要である。
【0005】
そして前記シールの方法として、動作を伴わない部分に対しては、ガスケットやOリング等によってシールを行うことができる。一方動作を伴う部分の場合は、柔軟性のある樹脂素材で作られた密閉シール部材を用いて遮蔽を行えばよい。
【0006】
しかしながら樹脂素材の密閉シール部材は、経時的変化や繰り返し動作による応力の付加により、亀裂が発生しシール性が損なわれる恐れがある。
【0007】
また前記ガスケットやOリングを使用したシール部も、メンテナンス時など、分解や組み立てを繰り返し行う間に、部品に傷、打痕などが付き、洗浄液をにじみ打させるレベルでシール性を損なう危険性は充分に考えられる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述の点に鑑みてなされたものでありその目的は、たとえ密閉シール部材のシール性が損なわれても、装置全体に亘る故障を未然に防止することができるウエハ洗浄装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するため本発明にかかるウエハ洗浄装置は、第1筐体の内部にウエハを回転しながら洗浄手段によって洗浄する洗浄室を形成し、第1筐体の外周を第2筐体で囲むことで第2筐体の内部に中間室を形成し、さらに第2筐体の下側に動力部を設置し、前記第1筐体の底板である仕切り部材に設けた開口部と、前記第2筐体に設けた開口部を通して、前記動力部に連結された動力伝達機構を洗浄室内に挿入することで動力部の動力を洗浄室内に伝達して洗浄室内の洗浄手段を駆動し、前記第2筐体の開口部周囲の部分から筒状に堰を突出して動力伝達機構の周囲を囲むとともに前記仕切り部材の開口部を介して洗浄室内に突入し、一方前記堰の上部を覆うとともに堰の上端よりも下方まで延びる筒状の庇を設け、洗浄室側の堰と庇を囲む部分に仕切り部材の開口部を密閉する柔軟性のある密閉シール部材を取り付け、さらに前記洗浄室から密閉シール部材と堰との間に漏れて第2筐体内に排水されてきた漏液を検知するセンサーを設けたことを特徴とする。
また本発明は、第1筐体に第1排気孔を設けると共に第2筐体に第2排気孔を設け、これら第1,第2排気孔から同一の排気管によって排気する排気設備を設置し、第2排気孔の排気抵抗を第1排気孔の排気抵抗よりも大きく構成することで、第2筐体内部の圧力に対して第1筐体内部の圧力の方をより負圧に保つことを特徴とする。
また本発明は、ウエハの被加工面を研磨工具の研磨面に当接して研磨する研磨機と、前記研磨機で研磨したウエハを洗浄する洗浄機とを具備する研磨装置において、前記洗浄機として前記ウエハ洗浄装置を用いたことを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】
ここでまず本発明にかかるウエハ洗浄装置を用いて構成した洗浄部付きの化学的機械研磨装置(CMP装置)について説明する。
【0011】
図4はこの種の研磨装置の1例を示す全体概略構成図である。同図に示すようにこの研磨装置は、2基の同じ構成の研磨機110(110a,110b)が左右対称に配置されている。洗浄部126には、2基の1次洗浄機126a1,126a2と、2基の2次洗浄機126b1,126b2と、2基の反転機128a1,128a2とがそれぞれ各研磨機110a,110bに対応して左右対称に設置され、また搬送機124a,124bも2基設置されている。またロードアンロード部122,122も左右対称に2基設置されている。
【0012】
研磨機110a,110bは、上面にクロス(研磨布)を貼り付けた研磨テーブル112a,112bと、下面に保持した半導体ウエハを研磨テーブル112a,112bに押し付けて研磨するトップリング113a,113bとを具備している。
【0013】
このような構成の研磨装置では、ウエハをロード・アンロード部122から搬送機124a,124bを用いて受渡台138a(又は138b)を介してトップリング113a(又は113b)の下面に吸着し、研磨テーブル112a(又は112b)上に移動する。112a,112bの上面には、表面に研磨面を備える研磨パッド又は砥石等の研磨工具が取り付けられている。ここで所定の砥液(Siウエハ上の絶縁膜(酸化膜)を研磨する場合には所定の粒径の砥粒をアルカリ水溶液に浮遊させたもの)を供給しつつ、研磨テーブル112a(又は112b)とトップリング113a(又は113b)をそれぞれ回転させながらウエハを該研磨面に押圧してウエハの研磨を行う。研磨を終えたウエハは、洗浄・乾燥工程を経てロード・アンロード部122に戻される。
【0014】
1次洗浄機126a1,126a2は、ウエハを取り囲むように複数の直立したローラ130を配置し、ローラ130の上部外周に形成した溝によってウエハの外周縁部を保持し、ローラ130の回転によってウエハを回転させる低速回転型の洗浄機であり、上下からローラ型やペンシル型のスポンジなどからなる洗浄部材がウエハに接触・退避可能に設けられている。2次洗浄機126b1,126b2は、回転軸の上端にウエハを把持するアームを放射状に延ばして形成された高速回転型の洗浄機である。
【0015】
前記ウエハ研磨工程の後の洗浄工程は以下のようにして行われる。まず1次洗浄機126a1(又は126a2)でウエハを回転させながらその表裏面に洗浄液を供給しつつ洗浄部材を擦りつけてスクラブ洗浄を行う。
【0016】
次に2次洗浄機126b1(又は126b2)において洗浄を行い、その後高速回転させて乾燥工程を行う。洗浄・乾燥工程を終えたウエハは搬送機124bの清浄なハンドによってロード・アンロード部122に戻される。
【0017】
この研磨装置では、ウエハを2基の研磨機110a,110bでそれぞれ個別に研磨する並列運転方法と、1枚の基板を2基の研磨機110a,110bに順次搬送して別の処理を行う直列運転方法の2つの方法を採用することができる。
【0018】
並列運転方法では、それぞれの研磨機110a,110bで研磨剤を使用する通常研磨と仕上げ研磨を目的とし、研磨剤を使用せず水のみを供給する水ポリッシングを互いにタイミングをずらせて行い、搬送機124a,124bによるウエハの搬送を効率的に行うようにする。この研磨装置では2つの研磨機110a,110bと第1次,第2次洗浄機126a1,126a2,126b1,126b2が設けられているので、研磨機110aを使用した研磨工程と、1次洗浄機126a1を使用した1次洗浄工程と、2次洗浄機126b1を使用した2次洗浄工程とを順次行う第1ウエハ処理ラインと、研磨機110bを使用した研磨工程と、1次洗浄機126a2を使用した1次洗浄工程と、2次洗浄工程126b2を使用した2次洗浄工程とを順次行う第2ウエハ処理ラインの2つのウエハ処理ラインを構成することができ、従ってウエハの搬送ラインが交錯することなく全く独立に並列運転することができ、稼動効率を高めることができる。
【0019】
この研磨装置では並列運転方法としてさらに2つの方法がある。第1の方法は、ロードアンロード部122の1つのカセットから取り出したウエハを研磨機110a,110bに交互に振り分ける方法である。この形態を取れば、1つのカセットの処理時間を約1/2にすることができる。第2の方法は一方のカセットを一方のウエハ処理ライン専用とし、別のカセットを他方のウエハ処理ライン専用とする方法である。この時のウエハは全く同じものでも良いし、異なったものでも良い。さらにカセットを4個載置可能とすることにより連続的な処理が可能となる。
【0020】
直列運転方法では、一方の研磨機110aでウエハの通常研磨を行った後、ウエハを他方の研磨機110bに移送して水ポリッシングを行う。研磨機上でのコンタミが問題とならない場合には、一方の研磨機110aから他方の研磨機110bに搬送機124aを介して移送しても良い。コンタミが問題となる場合には、一方の研磨機110aでウエハの通常研磨を行った後、ウエハを搬送機124aにより1次洗浄機126a1に移送して洗浄を行い、他方の研磨機110bに移送して水ポリッシングを行う。また1次洗浄機126a1では、一方の研磨機110aで使用したスラリーの種類に応じた好適な薬液を添加しながら洗浄を行ってもよい。この直列運転方法では、通常研磨と水ポリッシングをそれぞれ別の研磨テーブル112a,112bで行うので、研磨テーブル上の砥液や純水がその都度入れ替えられることなく、工程時間のロスや砥液や純水の消費量の増加を招かない。
【0021】
そして本発明にかかるウエハ洗浄装置は、前記1次洗浄機126a1,126a2として使用している。ここで図1は本発明にかかるウエハ洗浄装置の基本的動作説明図である。即ちこのウエハ洗浄装置は、4つ(3つ以上であれば良い)のローラ12の溝12aにウエハWの外周を保持し、少なくとも何れかのローラ12の下方にモータ14を連結して構成されている。モータ14は制御装置7より出力される信号に応じて自転可能となっている。各ローラ12は洗浄室Aの底板となる仕切り部材A1を貫通して下方に突出し、その部分を密閉シール部材28で密閉することで仕切り部材A1の下側の空間に洗浄液などが浸入しないように構成されている。また各ローラ12は、同図に矢印Dで示すように、ウエハWの水平面内において平行に半径方向に向けて移動可能となっており、これによってウエハWの保持・開放を可能としている。
【0022】
一方ウエハWの上下面には、上面用ロールスポンジ(洗浄部材)2と下面用ロールスポンジ(洗浄部材)3とが設置されている。両ロールスポンジ2,3の駆動モータ6a,6b(同図には図示せず)は、洗浄室Aの外部にその側壁A4を貫通して取り付けられている。
【0023】
上面用ロールスポンジ2は同図に示す矢印aのようにL字状に移動して点線で示す退避位置に移動可能となるように、側壁A4にはL字状の開口A2が設けられている。そして側壁A4の外側には前記開口A2を開閉する平板状のシャッター22が上下動可能に設置されている。
【0024】
下面用ロールスポンジ3は同図には図示しないが仕切り部材A1を貫通して接続されたエアシリンダ4bによって上下動自在とされている。
【0025】
そしてウエハWの外周をローラ12の溝12aに保持してモータ14を駆動することでウエハWを回転し、ウエハWの上下面に両ロールスポンジ2,3を回転しながら擦りつけ、同時に図示しない純水供給手段より純水を供給することでウエハWの上下面の双方を同時に洗浄してダストを除去する。両ロールスポンジ2,3による洗浄が終了すると、上面用ロールスポンジ2は開口A2内を矢印aのように移動して点線で示す位置に退避し、シャッター22が開口A2を閉じる。一方下面用ロールスポンジ3はそのまま少し下方に移動してウエハWから離れる。この状態で別途洗浄室A内に設置した図示しない薬液供給手段より薬液(例えばフッ酸(HF)や希フッ酸(DHF))をウエハWに供給して金属のイオンを除去する。最後に再び純水供給手段より純水を供給してウエハW上下面の薬液を純水に置換し、これによってこの洗浄室Aでの洗浄処理が完了する。そして各ローラ12を矢印D方向に移動してウエハWの保持を解除し、ウエハWを洗浄室Aから取り出して次の工程に移行する。
【0026】
図2,図3はこのウエハ洗浄装置の具体的構成の詳細を示す概略縦断面図であり、相互に略直交する部分で切断した部分を示している。両図に示すようにこのウエハ洗浄装置は、第1筐体100によってその内部に洗浄室Aを形成し、第1筐体100の外周を第2筐体200で囲むことで第2筐体200の内部の空間に中間室Bを形成し、さらに第2筐体200の下側に動力室Cを設けて構成されている。洗浄室AはウエハWを洗浄するためHFなどの腐食性に富んだ薬品を溶かした洗浄液を散布可能としている。
【0027】
洗浄室A内に設置された上面側ロールスポンジ2と下面側ロールスポンジ3は、それぞれ支持アーム21a,21bによって支持されるとともに第1筐体100に設けた開口A2(図1参照)から外部に設置されたモータ6a,6bに連結されている。開口A2の上部には前述のように洗浄薬液を散布中に開口A2を閉止するシャッター22が設置されている。また図2に示すように支持アーム21bに取り付けた平板状の遮蔽部材22´は、開口A2の下部の部分を塞ぐためのものである。
【0028】
第2筐体200は、第1筐体100とモータ6a,6bを囲むように設置され、第1筐体100から漏れ出した洗浄液を外部に出さないようにしている。そしてモータ6aはアーム51によって第2筐体200の1側面に設けた開口部24の外部に設置された上ロールスポンジ移動機構23に連結されている。開口部24は堰25と庇26とによって上方向を向くように形成されており、これによって万一、装置破損によって第1筐体100側から第2筐体200内に洗浄液が飛散しても、この開口部24から第2筐体200の外部に漏液しない構造となっている。なお開口部24は紙面手前側から紙面奥側に向かって直線状に形成されている。そしてこの開口部24を通過するためにアーム51はクランク状に屈曲している。アーム51には直動ガイド53が取り付けられ、またその端部にはエアシリンダ4aが取り付けられることで上下動自在とされており、さらにこのエアシリンダ4aがリニア駆動機構55上に載置されることでエアシリンダ4aや上面側ロールスポンジ2等全体が紙面手前側と奥側に向かってリニア駆動可能に構成されている。即ちこれらエアシリンダ4aやリニア駆動機構55によって上面側ロールスポンジ2を水平・上下方向に移動させる上ロールスポンジ移動機構23が構成される。
【0029】
一方下面用ロールスポンジ3の支持アーム21bに取り付けた棒状の連結部材(動力伝達機構)60は、第1筐体100の仕切り部材(底板)A1に設けた開口部34aと、第2筐体200に設けた開口部61aと、その下の基台68に設けた開口部68aを貫通してその下側の動力室Cに設置した下ロールスポンジ上下動機構63に連結されている。
【0030】
下ロールスポンジ上下動機構63は、エアシリンダ4bを前記連結部材60に連結することで下面用ロールスポンジ3を上下動してウエハWに接離するように構成されている。65は直動ガイドである。
【0031】
第1筐体100の開口部34a内には、前記連結部材60の周囲を囲む堰31が突入している。この堰31は第2筐体200の開口部61aの周囲の部分を上方向に筒状に突出することで構成されている。一方支持アーム21bからは前記連結部材60の周囲を囲んで堰31の上端部よりも下方まで延びる筒状の庇33が突出して設けられている。この庇33の下端は、支持アーム21bが最も上昇した位置(即ち図示の位置)においても堰31の上端部の位置よりも下の位置になるように設計されている。又開口部34aの周囲にも上方向に向かう筒状の堰101が設けられている。
【0032】
そして堰31を囲む洗浄室A側の部分には、開口部34aを密閉する柔軟性のある密閉シール部材29が取り付けられている。具体的に言えば、庇33と堰101の外周に蛇腹状の密閉シール部材29を密着固定することによってシールしている。この密閉シール部材29は、柔軟性があって洗浄薬液などに対して耐腐食性に富むゴムや合成樹脂製の材料によって構成されている。
【0033】
次に図3に示すローラ12は、ウエハWの外周を保持する溝12aを有し、またその回転軸(動力伝達機構)67は第1筐体100の仕切り部材(底板)A1に設けた開口部34bと、第2筐体200に設けた開口部61bと、基台68に設けた開口部68aとを貫通してその下側の動力室Cに導入されている。回転軸67の少なくとも1本には、モータ14が連結されている。回転軸67の周囲には、これを囲むように筒状の管69が取り付けられ、回転軸67は管69の上部に取り付けた軸受け13によって回転自在に軸支されている。
【0034】
基台68の下面側には、各管69をそれぞれ図1に示す矢印D方向に向けて移動するエアシリンダ15と、直動ガイド27とが設けられている。
【0035】
第1筐体100の開口部34b内には、前記管69の周囲を囲む堰30が突入している。この堰30は第2筐体200の開口部61bの周囲の部分を上方向に筒状に突出することで構成されている。一方管69の上部には管69の周囲を囲んで堰30の上端部よりも下方まで延びる筒状の庇32が設けられている。この庇32は、管69の水平方向の移動とともに移動するが、その際に少なくとも庇32の内周が堰30に当接しないようにその内径を大きく構成している。
【0036】
そして堰30を囲む洗浄室A側の部分には、開口部34bを密閉する柔軟性のある密閉シール部材28が取り付けられている。具体的に言えば、庇32と開口部34bの上面周囲に密閉シール部材28を密着固定することによってシールしている。この密閉シール部材28は、柔軟性があって洗浄薬液などに対して耐腐食性に富むゴムや合成樹脂製の材料を、略円筒状に形成して構成されている。
【0037】
次に第1筐体100の中央には、仕切り部材A1を上下に貫通する排気管70が取り付けられている。そしてその上部を覆う傘71を設置することで、洗浄室A内の第1排気孔20aの開口が絞られている。一方第2筐体200からは上方向に突出する堰76が設けられ、その内部に前記排気管70の下端を挿入することで両者の間の隙間によって第2排気孔20bが形成されている。第2筐体200から引き出される排気管75は、図示しない排気設備に接続されている。つまり第1排気孔20aと第2排気孔20bは同一の排気管75によって排気されるように構成されている。
【0038】
そして第1排気孔20aと第2排気孔20bとは、第2排気孔20bの排気抵抗が第1排気孔20aの排気抵抗よりも大きくなるように、第1排気孔20aの開口面積の方を第2排気孔20bの開口面積よりも大きくしている。これによって排気管75から排気を行った場合、第2筐体200内部の圧力に対して第1筐体100内部の圧力の方をより大きな負圧(陰圧)に保つことができる。
【0039】
また第1筐体100の仕切り部材A1には、通常の排水管103が取り付けられ、また第2筐体200の底面にも排水管36が取り付けられている。排水管36の所定位置には、漏液センサ37が取り付けられている。
【0040】
次にこのウエハ洗浄装置の動作を説明する。まずエアシリンダ15を駆動することで各ローラ12を半径方向外側(図1の矢印D参照)に移動し、その溝12aの部分に外部から挿入したウエハWを位置せしめ、再びエアシリンダ15を駆動することで各ローラ12を半径方向内側に移動してウエハWを把持する。そしてモータ14(図1参照)を駆動することでウエハWを回転する。
【0041】
次にエアシリンダ4a,4bを駆動して上面用と下面用のロールスポンジ2,3をウエハWの上下面に当接する。このとき駆動モータ6a,6bを駆動することで両ロールスポンジ2,3は回転されている。なお図2に示す両ロールスポンジ2,3は、何れも最も上昇したときの位置を示している。
【0042】
そしてウエハWに純水などの洗浄液を供給することでウエハWの洗浄を行う。前記洗浄終了後、エアシリンダ4a,4bを駆動することで両ロールスポンジ2,3をウエハWの上下面から離し、さらに上面側のロールスポンジ2は上ロールスポンジ移動機構23によって、図1に点線で示す退避位置まで移動する。そしてシャッター22が開口A2を閉じ、前記ローラ12によって回転しているウエハWに薬液を供給して金属のイオンを除去し、最後に再び純水を供給してウエハW上下面の薬液を純水に置換する。そして前記エアシリンダ15を駆動することで各ローラ12を半径方向外側に移動してウエハWの保持を解除し、洗浄室AからウエハWを取り出して次の工程に移行する。
【0043】
ところで前記純水やその他の薬液などの洗浄液によってウエハWを洗浄しても、開口部34a,34bは密閉シール部材28,29によって密閉されているので、この部分から外部に洗浄液が漏れ出すことはない。しかもたとえ密閉シール部材28,29が経時的劣化などによって破損して開口部34a,34bから洗浄液が漏れ出しても、堰30,31があるので、漏れ出した洗浄液は中間室Bに流れて留まり、第2筐体200の下側の動力室Cに漏れ出す恐れはない。特にこの実施形態の場合、堰30,31の上部にこれを覆う庇32,33(何れも堰30,31の上端よりも下側まで延びている)を設けているので、洗浄液が堰30,31の上方から入り込もうとするのを防止でき、従って動力室Cに漏れ出すことはない。
【0044】
一方中間室Bに溜まった漏液は第2筐体200の排水管36から排水されるが、その際漏液があることを漏液センサ37が検出するので、これによって前記密閉シール部材28,29が破損したことを安全に検知でき、漏液事故を未然に防止することができ、機器や人体に対する影響を最小にとどめることができる。
【0045】
ところで洗浄液より揮発したHFやDHF等の腐食性に富んだガスは、洗浄室Aの内部に充満しないよう、排気孔20aから排気管75に排気される。また漏液等によって中間室Bの内部に溜まるガスも中間室Bに充満しないように且つ第2筐体200の外部に流出しないように、排気孔20bから排気管75に排気される。その際前述のように排気孔20aの排気抵抗は排気孔20bの排気抵抗よりも小さくなるようにしているので、洗浄室A内の気圧はその外側の中間室B内の気圧に対して、より負圧(陰圧)に保たれる。従って第1筐体100内部の洗浄室Aからその外部へ前記腐食性に富んだガスが流出することを阻止することが可能となる。
【0046】
以上本発明の実施形態を詳細に説明したが本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体に記載された技術的思想の範囲内で種々の変形が可能である。例えばウエハを回転する駆動機構やウエハを洗浄する洗浄手段には種々の方法があり、要はウエハを回転しながら洗浄手段によって洗浄する構造であればどのような構造のものを用いても良い。またウエハを駆動したり洗浄手段を駆動したりする機構も種々の変形が可能であり、要は洗浄室内の各部材を駆動する動力部であれば良い。密閉シール部材も種々の変形が可能であり、要は仕切り部材の開口部を密閉する柔軟性のある密閉シール部材であればどのような構造・材質のものであっても良い。さらに堰や庇の形状・構造も種々の変形が可能である。また上記実施形態においては排水管36の所定位置に漏液センサ37を取り付けたが、漏液センサを取り付ける位置はこの位置に限定されず、要は堰と密閉シール部材の間に漏れてきた漏液を検知する位置であれば他の位置に設置しても良い。
【0047】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように本発明によれば以下のような優れた効果を有する。
(1)仕切り部材の開口部の部分に、開口部に侵入する液体を第2筐体内に排水する堰を設けると同時に、開口部を密閉する密閉シール部材を取り付けたので、たとえ密閉シール部材のシール性が損なわれて洗浄液が漏れ出しても、洗浄液は動力部に浸入せず、これによって装置全体に亘る故障を未然に防止することができる。また人体に対する影響も最小限にとどめることができる。
【0048】
(2) 密閉シール部材と堰との間に漏れて第2筐体内に排出されてきた漏液をセンサーによって検知するように構成したので、密閉シール部材の破損を即座に検知することができ、より迅速且つ確実に装置の故障を未然に防止できる。
【0049】
▲3▼洗浄室を第1筐体で囲み、さらに第1筐体の外側を第2筐体で囲むことによって2重筐体構造としたので、例え第1筐体から洗浄液が漏れ出してもこれを第2筐体内部に保持でき、従ってそれ以上外部に漏液が漏れ出すことを防止できる。
【0050】
▲4▼第2排気孔の排気抵抗を第1排気孔の排気抵抗よりも大きくすることで第2筐体内部の圧力に対して第1筐体内部の圧力の方をより負圧に保つように構成したので、第1筐体内において洗浄液より揮発した腐食性に富んだガスが、第2筐体へ流出することを阻止でき、同時に第2筐体内部の気体も排気するので第2筐体内にもガスが充満することはない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるウエハ洗浄装置の基本的動作説明図である。
【図2】本発明にかかるウエハ洗浄装置の具体的構成の詳細を示す概略縦断面図である。
【図3】本発明にかかるウエハ洗浄装置の具体的構成の詳細を示す概略縦断面図である。
【図4】本発明を適用する研磨装置の1例を示す全体概略構成図である。
【符号の説明】
W ウエハ
A 洗浄室
A1 仕切り部材
A2 開口
A4 側壁
B 中間室
C 動力室
100 第1筐体
200 第2筐体
2 上面用ロールスポンジ(洗浄手段)
3 下面用ロールスポンジ(洗浄手段)
4a,4b エアシリンダ(動力部)
6a,6b 駆動モータ
12 ローラ
12a 溝
14 モータ(動力部)
15 エアシリンダ(動力部)
20a 第1排気孔
20b 第2排気孔
22 シャッター
23 上ロールスポンジ移動機構
28,29 密閉シール部材
30,31 堰
32,33 庇
34a,34b 開口部
36 排水管
37 漏液センサ
60 連結部材(動力伝達機構)
61a,61b 開口部
63 下ロールスポンジ上下動機構(動力部)
67 回転軸(動力伝達機構)
68 基台
69 管
75 排気管
110(110a,110b) 研磨機
112a,112b 研磨テーブル(研磨部材)
126 洗浄部
126a1,126a2 1次洗浄機
126b1,126b2 2次洗浄機
Claims (3)
- 第1筐体の内部にウエハを回転しながら洗浄手段によって洗浄する洗浄室を形成し、第1筐体の外周を第2筐体で囲むことで第2筐体の内部に中間室を形成し、さらに第2筐体の下側に動力部を設置し、
前記第1筐体の底板である仕切り部材に設けた開口部と、前記第2筐体に設けた開口部を通して、前記動力部に連結された動力伝達機構を洗浄室内に挿入することで動力部の動力を洗浄室内に伝達して洗浄室内の洗浄手段を駆動し、
前記第2筐体の開口部周囲の部分から筒状に堰を突出して動力伝達機構の周囲を囲むとともに前記仕切り部材の開口部を介して洗浄室内に突入し、一方前記堰の上部を覆うとともに堰の上端よりも下方まで延びる筒状の庇を設け、洗浄室側の堰と庇を囲む部分に仕切り部材の開口部を密閉する柔軟性のある密閉シール部材を取り付け、
さらに前記洗浄室から密閉シール部材と堰との間に漏れて第2筐体内に排水されてきた漏液を検知するセンサーを設けたことを特徴とするウエハ洗浄装置。 - 第1筐体に第1排気孔を設けると共に第2筐体に第2排気孔を設け、これら第1,第2排気孔から同一の排気管によって排気する排気設備を設置し、第2排気孔の排気抵抗を第1排気孔の排気抵抗よりも大きく構成することで、第2筐体内部の圧力に対して第1筐体内部の圧力の方をより負圧に保つことを特徴とする請求項1に記載のウエハ洗浄装置。
- ウエハの被加工面を研磨工具の研磨面に当接して研磨する研磨機と、前記研磨機で研磨したウエハを洗浄する洗浄機とを具備する研磨装置において、
前記洗浄機として請求項1又は2に記載のウエハ洗浄装置を用いたことを特徴とする研磨装置。
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