JPH048945B2 - - Google Patents
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- JPH048945B2 JPH048945B2 JP57089931A JP8993182A JPH048945B2 JP H048945 B2 JPH048945 B2 JP H048945B2 JP 57089931 A JP57089931 A JP 57089931A JP 8993182 A JP8993182 A JP 8993182A JP H048945 B2 JPH048945 B2 JP H048945B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/67326—Horizontal carrier comprising wall type elements whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising sidewalls
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/67326—Horizontal carrier comprising wall type elements whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising sidewalls
- H01L21/6733—Horizontal carrier comprising wall type elements whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising sidewalls characterized by a material, a roughness, a coating or the like
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は静電防止型収容治具に関する。
半導体装置の製造に用いる半導体薄板(ウエ
ハ)はその取り扱いの便のために、洗浄治具、エ
ツチング治具、保管治具等の収容治具に収容され
て取り扱われる。ウエハのエツチング、洗浄、乾
燥の一連の作業においては、耐薬品性の四ふつ化
エチレン樹脂あるいはポリプロピレン樹脂等の樹
脂収容治具が一般に用いられている。
ハ)はその取り扱いの便のために、洗浄治具、エ
ツチング治具、保管治具等の収容治具に収容され
て取り扱われる。ウエハのエツチング、洗浄、乾
燥の一連の作業においては、耐薬品性の四ふつ化
エチレン樹脂あるいはポリプロピレン樹脂等の樹
脂収容治具が一般に用いられている。
ところで、洗浄後の乾燥作業では、収容治具全
体をたとえば1200r.p.m.で高速回転させて収容治
具内のウエハの乾燥を図つている。
体をたとえば1200r.p.m.で高速回転させて収容治
具内のウエハの乾燥を図つている。
しかし、樹脂収容治具およびウエハは絶縁体で
あることから、高速回転時の空気との摩擦で静電
気が帯電する。このため、周囲の浮遊異物などが
引き付けられ、ウエハの表面に付着し、ウエハに
整列配置形成された電気回路素子の不良原因とな
る。たとえば、5μm幅配線の5mm□ ペレツトの
LSIの外観不良率のうちの約70%が静電気に起因
する不良となる。
あることから、高速回転時の空気との摩擦で静電
気が帯電する。このため、周囲の浮遊異物などが
引き付けられ、ウエハの表面に付着し、ウエハに
整列配置形成された電気回路素子の不良原因とな
る。たとえば、5μm幅配線の5mm□ ペレツトの
LSIの外観不良率のうちの約70%が静電気に起因
する不良となる。
したがつて、本発明の目的は被収容物である半
導体ウエハおよび収容治具が帯電しない構造の収
容治具を提供することにある。
導体ウエハおよび収容治具が帯電しない構造の収
容治具を提供することにある。
このような目的を達成するために本発明は、半
導体ウエハを収容する収容治具であつて、前記収
容治具は少なくともその表面をパーフルオロアル
キルビニールエーテルとテトラフルオロエチレン
の共重合体にカーボンを含ませて導電性でかつ耐
酸性となつた複合材料によつて構成されてなるも
のであつて、以下実施例により本発明を説明す
る。
導体ウエハを収容する収容治具であつて、前記収
容治具は少なくともその表面をパーフルオロアル
キルビニールエーテルとテトラフルオロエチレン
の共重合体にカーボンを含ませて導電性でかつ耐
酸性となつた複合材料によつて構成されてなるも
のであつて、以下実施例により本発明を説明す
る。
図面は本発明の一実施例による収容治具を示す
斜視図である。この収容治具1はパーフルオロア
ルキルビニールエーテルとテトラフルオロエチレ
ンの共重合体(PFA)にカーボン繊維を混合さ
せた複合材料によつて形作られ、耐酸性と導電性
を有している。収容治具1は箱型枠構造からなる
とともに、対面する内側壁には対応して複数の収
容溝2が設けられている。そして、対面する1対
の収容溝2に1枚のウエハ3の周縁を挿入して収
容がなされるようになつている。また、側壁4に
は窓5が設けられ、収容治具1内に洗浄液等が流
入し易いようになつている。
斜視図である。この収容治具1はパーフルオロア
ルキルビニールエーテルとテトラフルオロエチレ
ンの共重合体(PFA)にカーボン繊維を混合さ
せた複合材料によつて形作られ、耐酸性と導電性
を有している。収容治具1は箱型枠構造からなる
とともに、対面する内側壁には対応して複数の収
容溝2が設けられている。そして、対面する1対
の収容溝2に1枚のウエハ3の周縁を挿入して収
容がなされるようになつている。また、側壁4に
は窓5が設けられ、収容治具1内に洗浄液等が流
入し易いようになつている。
このような収容治具では、回転乾燥時に帯電し
ても、収容治具が導電性となつていることから、
帯電後極めて短時間内に除電される。たとえば、
4KVのコロナ放電を30秒行なつた後(回転1000
〜1500rpm)の帯電後の減衰率測定によれば、従
来の四ふつ化エチレン樹脂収容治具の場合は、
60V程度の帯電量が1時間経過後でも変化しない
のに対して、本実施例収容治具では60V程度の帯
電量が10秒後には16〜24Vと約1/3となり、120秒
後には5Vとなり、その後完全に除電された。
ても、収容治具が導電性となつていることから、
帯電後極めて短時間内に除電される。たとえば、
4KVのコロナ放電を30秒行なつた後(回転1000
〜1500rpm)の帯電後の減衰率測定によれば、従
来の四ふつ化エチレン樹脂収容治具の場合は、
60V程度の帯電量が1時間経過後でも変化しない
のに対して、本実施例収容治具では60V程度の帯
電量が10秒後には16〜24Vと約1/3となり、120秒
後には5Vとなり、その後完全に除電された。
このような実施例によれば、回転乾燥時の帯電
も数十秒後には除電されるため、ウエハへの浮遊
異物の付着は起きにくくなり、静電気に起因する
不良の発生を低減できるようになる。
も数十秒後には除電されるため、ウエハへの浮遊
異物の付着は起きにくくなり、静電気に起因する
不良の発生を低減できるようになる。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。た
とえば、カーボン繊維に代えてカーボンブラツク
等の導電体を混合してもよい。また、収容治具を
形作る母材はPFA以外のものでもよい。さらに、
収容治具はその表面のみを導電性としてもよい。
とえば、カーボン繊維に代えてカーボンブラツク
等の導電体を混合してもよい。また、収容治具を
形作る母材はPFA以外のものでもよい。さらに、
収容治具はその表面のみを導電性としてもよい。
以上のように、本発明によれば、回転乾燥時に
帯電してもその後短時間に除電が成される治具溝
となつていることから、被収容物に浮遊異物が付
着し難くなるため、半導体装置の製造におけるウ
エハの収容治具として用いれば、静電気に起因す
る不良の発生を抑止することができるので歩留の
向上を図ることができる。
帯電してもその後短時間に除電が成される治具溝
となつていることから、被収容物に浮遊異物が付
着し難くなるため、半導体装置の製造におけるウ
エハの収容治具として用いれば、静電気に起因す
る不良の発生を抑止することができるので歩留の
向上を図ることができる。
図面は本発明の一実施例によるウエハ収容治具
の斜視図である。 1…収容治具、2…収容溝、3…ウエハ、4…
側壁、5…窓。
の斜視図である。 1…収容治具、2…収容溝、3…ウエハ、4…
側壁、5…窓。
Claims (1)
- 1 半導体ウエハを収容する収容治具であつて、
前記収容治具は少なくともその表面をパーフルオ
ロアルキルビニールエーテルとテトラフルオロエ
チレンの共重合体にカーボンを含ませて導電性で
かつ耐酸性となつた複合材料によつて構成してい
ることを特徴とする静電防止型半導体ウエハ収容
治具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8993182A JPS58207651A (ja) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | 静電防止型収容治具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8993182A JPS58207651A (ja) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | 静電防止型収容治具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58207651A JPS58207651A (ja) | 1983-12-03 |
JPH048945B2 true JPH048945B2 (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=13984436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8993182A Granted JPS58207651A (ja) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | 静電防止型収容治具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58207651A (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6063941U (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-07 | 信越化学工業株式会社 | 電子材料用ウエ−ハハンドリング用治具類 |
JPH0638413B2 (ja) * | 1984-01-12 | 1994-05-18 | 三井東圧化学株式会社 | ウェハ処理用容器 |
JPS6112099A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-20 | 倉敷紡績株式会社 | 半導体製造用治具 |
JPS6137842A (ja) * | 1984-07-30 | 1986-02-22 | Daikin Ind Ltd | 非帯電性高分子材料 |
JPS6456866U (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-10 | ||
JPH0260954A (ja) * | 1988-08-29 | 1990-03-01 | Daikin Ind Ltd | 非帯電性高分子材料 |
JPH02201926A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-10 | Fujitsu Ltd | ウエット洗浄用ホルダ及びウエット洗浄方法 |
JPH0312949A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-21 | Fujitsu Ltd | ウエハキャリア保持装置 |
JPH0380535A (ja) * | 1989-08-23 | 1991-04-05 | Fujitsu Ltd | 洗浄ホルダ |
ATE308799T1 (de) * | 2001-12-03 | 2005-11-15 | Du Pont | Wafer-transfervorrichtung mit elektrischer leitfähigkeit und verfahren zu dessen herstellung |
CN1978074B (zh) * | 2005-12-02 | 2010-11-10 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镜片清洗治具 |
JP7090482B2 (ja) * | 2018-06-18 | 2022-06-24 | 株式会社Screenホールディングス | チャック部材及び基板処理装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50108880A (ja) * | 1974-02-01 | 1975-08-27 | ||
JPS53114670A (en) * | 1977-03-17 | 1978-10-06 | Toshiba Ceramics Co | Jig for diffusion furnace |
-
1982
- 1982-05-28 JP JP8993182A patent/JPS58207651A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50108880A (ja) * | 1974-02-01 | 1975-08-27 | ||
JPS53114670A (en) * | 1977-03-17 | 1978-10-06 | Toshiba Ceramics Co | Jig for diffusion furnace |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58207651A (ja) | 1983-12-03 |
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