JPH0380535A - 洗浄ホルダ - Google Patents
洗浄ホルダInfo
- Publication number
- JPH0380535A JPH0380535A JP21503189A JP21503189A JPH0380535A JP H0380535 A JPH0380535 A JP H0380535A JP 21503189 A JP21503189 A JP 21503189A JP 21503189 A JP21503189 A JP 21503189A JP H0380535 A JPH0380535 A JP H0380535A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- cleaned
- mask
- static electricity
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 28
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
半導体装置製作に必要なマスクなどを洗浄するときに用
いる洗浄ホルダに関し、 洗浄時に生ずる静電気による被洗浄物の被害を防止する
ことを目的とし、 絶縁材料で形成された洗浄ホルダにおいて、被洗浄物が
接触する部分に導電性材料を用いた導電部を設け、且つ
該導電部を外部にアースできる手段を設けるように構成
する。
いる洗浄ホルダに関し、 洗浄時に生ずる静電気による被洗浄物の被害を防止する
ことを目的とし、 絶縁材料で形成された洗浄ホルダにおいて、被洗浄物が
接触する部分に導電性材料を用いた導電部を設け、且つ
該導電部を外部にアースできる手段を設けるように構成
する。
本発明は半導体装置製作に必要なマスクなどを洗浄する
ときに用いる洗浄ホルダに関する。
ときに用いる洗浄ホルダに関する。
半導体装置の製造に際しては塵埃の付着が半導体装置の
欠陥につながるため、製造作業はりＩＪ ＋ンルーム内
で行ない、半導体基板及び露光に使用するマスク等は薬
液、純水等での洗浄を行ない、極力塵埃の付着を防止し
ている。
欠陥につながるため、製造作業はりＩＪ ＋ンルーム内
で行ない、半導体基板及び露光に使用するマスク等は薬
液、純水等での洗浄を行ない、極力塵埃の付着を防止し
ている。
この洗浄に際してマスク等を保持する洗浄ホルダは、通
常、テフロンまたは石英等の導電性のない材料で形成さ
れ、第４図に示すように、複数枚の被洗浄物１を並列し
て収容できるように両側の壁２，２′には溝３が設けら
れ、底部には棒４゜４′が設けられ、さらに一方の壁に
は把手５が取り付けられている。
常、テフロンまたは石英等の導電性のない材料で形成さ
れ、第４図に示すように、複数枚の被洗浄物１を並列し
て収容できるように両側の壁２，２′には溝３が設けら
れ、底部には棒４゜４′が設けられ、さらに一方の壁に
は把手５が取り付けられている。
上記従来の洗浄ホルダでは、その材料がテフロン、石英
等の絶縁材であるため静電気が発生し易く、ガラス基板
にＣｒ薄膜でパターンを形成したマスクを洗浄する場合
に前記静電気によりパターンの細りが生ずるという問題
があった。これの対策としてカーボン入り樹脂等の導電
性材料を用いて洗浄ホルダを形成することも行なわれて
いるが、耐薬品性に問題があり利用分野が限られる。
等の絶縁材であるため静電気が発生し易く、ガラス基板
にＣｒ薄膜でパターンを形成したマスクを洗浄する場合
に前記静電気によりパターンの細りが生ずるという問題
があった。これの対策としてカーボン入り樹脂等の導電
性材料を用いて洗浄ホルダを形成することも行なわれて
いるが、耐薬品性に問題があり利用分野が限られる。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、耐薬品性を保持し、
且つ静電気による被洗浄物の被害を防止した洗浄ホルダ
を提供することを目的とする。
且つ静電気による被洗浄物の被害を防止した洗浄ホルダ
を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の洗浄ホルダでは、
絶縁材料で形成された洗浄ホルダにおいて、被洗浄物２
０が接触する部分に導電性材料を用いた導電部１６を設
け、且つ該導電部１６を外部にアースできる手段を設け
たことを特徴とする。
絶縁材料で形成された洗浄ホルダにおいて、被洗浄物２
０が接触する部分に導電性材料を用いた導電部１６を設
け、且つ該導電部１６を外部にアースできる手段を設け
たことを特徴とする。
第２図に示すようにマスク２０の周辺部のＣｒパターン
２２を洗浄ホルダｌＯの導電部１６に接触させることに
より、マスク周辺部のＣｒパターン２２を洗浄ホルダと
同電位となし、かつ該導電部１６をアースすることによ
り洗浄ホルダに発生した静電気を外部に逃がすことがで
きるため、マスクパターンへの静電気の影響を防止する
ことがで歩る。
２２を洗浄ホルダｌＯの導電部１６に接触させることに
より、マスク周辺部のＣｒパターン２２を洗浄ホルダと
同電位となし、かつ該導電部１６をアースすることによ
り洗浄ホルダに発生した静電気を外部に逃がすことがで
きるため、マスクパターンへの静電気の影響を防止する
ことがで歩る。
第１図は本発明の実施例を示す図である。
同図において、１０はテフロン、石英等の絶縁物で形成
された洗浄ホルダであり、四周の壁１１゜１１’ 、
１２．１２’ と、底部に設けられた棒１３．１３’
と壁１１に設けられた把手１４とを具備している。また
対向する１対の壁１２．１２’には複数個の被洗浄物を
収容できるように並列した複数条の溝１５が形成されて
おり、線溝には白金等の耐薬品性がある導電性材料で導
電部１６が設けられ、これらの各導電部１６は該導電部
と同じ材料の導線１７で接続され、さらに該導線１７が
把手１４まで延びて該把手１４の表面に露出した電極１
８に接続されている。
された洗浄ホルダであり、四周の壁１１゜１１’ 、
１２．１２’ と、底部に設けられた棒１３．１３’
と壁１１に設けられた把手１４とを具備している。また
対向する１対の壁１２．１２’には複数個の被洗浄物を
収容できるように並列した複数条の溝１５が形成されて
おり、線溝には白金等の耐薬品性がある導電性材料で導
電部１６が設けられ、これらの各導電部１６は該導電部
と同じ材料の導線１７で接続され、さらに該導線１７が
把手１４まで延びて該把手１４の表面に露出した電極１
８に接続されている。
このように構成された本実施例の作用を次に説明する。
第４図に示した従来の洗浄ホルダでは洗浄時にかなりマ
イナスにチャージする。これにより、第３図（ａ）に示
すように洗浄ホルダ内のマスクを例にとると、マスクの
Ｃｒパターン２１−Ｉ〜２１１において、左右のパター
ン２１−、 、２１−２はほぼ同様にチャージし、上下
のパターン２１−、 、２１−、はそれぞれ上部がｅ、
下部がΦに静電誘導される。このため薬品とＣｒとの酸
化還元反応により第３図（ｂ）に示すようにパターン２
１１のｅにチャージした部分が溶解する。ところが第３
図（Ｃ）に示すように外周の各パターン２２をワイヤ２
３で電気的に接続し、外側のパターンを外部にアースさ
せることにより前記のようなパターンの破壊は静電遮蔽
効果により発生しなくなることが実験で確かめられた。
イナスにチャージする。これにより、第３図（ａ）に示
すように洗浄ホルダ内のマスクを例にとると、マスクの
Ｃｒパターン２１−Ｉ〜２１１において、左右のパター
ン２１−、 、２１−２はほぼ同様にチャージし、上下
のパターン２１−、 、２１−、はそれぞれ上部がｅ、
下部がΦに静電誘導される。このため薬品とＣｒとの酸
化還元反応により第３図（ｂ）に示すようにパターン２
１１のｅにチャージした部分が溶解する。ところが第３
図（Ｃ）に示すように外周の各パターン２２をワイヤ２
３で電気的に接続し、外側のパターンを外部にアースさ
せることにより前記のようなパターンの破壊は静電遮蔽
効果により発生しなくなることが実験で確かめられた。
第１図のように構成された本発明の実施例では、第２図
に示すように溝１５に設けられた導電部１６にマスク２
０の外周パターン２２を接触させ、且つ把手部に設けた
電極１８を外部にアースさせることにより前記実験結果
と同様にしてパターンの破壊を防止することができる。
に示すように溝１５に設けられた導電部１６にマスク２
０の外周パターン２２を接触させ、且つ把手部に設けた
電極１８を外部にアースさせることにより前記実験結果
と同様にしてパターンの破壊を防止することができる。
以上説明した様に、本発明によれば、被洗浄物のパター
ンを外部にアースできるようにしたことにより、被洗浄
物のパターンが洗浄ホルダのチャージにより破壊される
のを防止することができ、洗浄歩留りの向上に寄与する
ことろ大である。
ンを外部にアースできるようにしたことにより、被洗浄
物のパターンが洗浄ホルダのチャージにより破壊される
のを防止することができ、洗浄歩留りの向上に寄与する
ことろ大である。
第１図は本発明の実施例を示す斜視図、第２図は本発明
の実施例の作用を説明するための図、 第３図はマスクのＣｒパターンの静電気による破壊を説
明するための図、 第４図は従来の洗浄ホルダを示す斜視図である。 図において、 １０は洗浄ホルダ、 １１、１１’ 、 １２．１２’ は壁、１３．１３
’ は棒、 １４は把手、 １５は溝、 １６は導電部、 １７は導線、 １８は電極、 ２０はマスク（被洗浄物） ２１．２２．２４はパターン、 を示す。
の実施例の作用を説明するための図、 第３図はマスクのＣｒパターンの静電気による破壊を説
明するための図、 第４図は従来の洗浄ホルダを示す斜視図である。 図において、 １０は洗浄ホルダ、 １１、１１’ 、 １２．１２’ は壁、１３．１３
’ は棒、 １４は把手、 １５は溝、 １６は導電部、 １７は導線、 １８は電極、 ２０はマスク（被洗浄物） ２１．２２．２４はパターン、 を示す。
Claims (1)
- １、絶縁材料で形成された洗浄ホルダにおいて、被洗浄
物（２０）が接触する部分に導電性材料を用いた導電部
（１６）を設け、且つ該導電部（１６）を外部にアース
できる手段を設けたことを特徴とする洗浄ホルダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21503189A JPH0380535A (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 洗浄ホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21503189A JPH0380535A (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 洗浄ホルダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0380535A true JPH0380535A (ja) | 1991-04-05 |
Family
ID=16665605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21503189A Pending JPH0380535A (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 洗浄ホルダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0380535A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH043426A (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-08 | Nec Yamagata Ltd | 半導体装置の製造装置 |
| CN110026372A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-07-19 | 云谷（固安）科技有限公司 | 一种掩模版清洗装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58207651A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-03 | Hitachi Ltd | 静電防止型収容治具 |
| JPS626937A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-13 | 豊和工業株式会社 | 空気噴射式織機 |
-
1989
- 1989-08-23 JP JP21503189A patent/JPH0380535A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58207651A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-03 | Hitachi Ltd | 静電防止型収容治具 |
| JPS626937A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-13 | 豊和工業株式会社 | 空気噴射式織機 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH043426A (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-08 | Nec Yamagata Ltd | 半導体装置の製造装置 |
| CN110026372A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-07-19 | 云谷（固安）科技有限公司 | 一种掩模版清洗装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106489121B (zh) | 触摸面板用导电膜及触摸面板 | |
| CN109976578A (zh) | 触控基板及其制作方法、触控显示装置 | |
| CN206301110U (zh) | 显示基板及显示装置 | |
| WO2002001930A3 (en) | Electrostatic methods and apparatus for mounting and demounting particles from a surface having an array of tacky and non-tacky areas | |
| CN107037688A (zh) | 光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法 | |
| JPH0380535A (ja) | 洗浄ホルダ | |
| US6127289A (en) | Method for treating semiconductor wafers with corona charge and devices using corona charging | |
| CN104571757B (zh) | 电容式触摸屏的制作方法 | |
| JP3257668B2 (ja) | 電極組立体、カソード装置及びメッキ装置 | |
| JPS633302B2 (ja) | ||
| JPH027019A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JP2016151695A (ja) | フォトマスクブランクおよびその製造方法 | |
| JPH02103046A (ja) | 半導体製造用マスクの製作方法及びハードマスクブランク載置台 | |
| JPS63265246A (ja) | レチクル | |
| JP2000131823A (ja) | 半導体レチクル・マスク | |
| JPH03292753A (ja) | 静電チャック | |
| JPH02201926A (ja) | ウエット洗浄用ホルダ及びウエット洗浄方法 | |
| JPH07105373B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JPH03103850A (ja) | レチクル | |
| JP2000270929A (ja) | 洗浄用ブラシ | |
| JPH0797217B2 (ja) | ホトマスクの製造方法 | |
| JP3170836B2 (ja) | ウエハのウェット処理方法及び半導体素子の製造方法 | |
| JPS5984244A (ja) | ホトマスク | |
| JPH0338036A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP2772172B2 (ja) | レチクル |