JPH03292753A - 静電チャック - Google Patents
静電チャックInfo
- Publication number
- JPH03292753A JPH03292753A JP2094662A JP9466290A JPH03292753A JP H03292753 A JPH03292753 A JP H03292753A JP 2094662 A JP2094662 A JP 2094662A JP 9466290 A JP9466290 A JP 9466290A JP H03292753 A JPH03292753 A JP H03292753A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- electrodes
- attracted
- protrusions
- electrostatic chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 abstract 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は絶縁体内に対をなす電極を設けた静電チャック
に関する。
に関する。
（従来の技術）
静電チャックには一つの電極の表面を絶縁層で覆い、こ
の絶縁層上に半導体ウェハ等の被吸着体を載置し、電極
と被吸着体間に電圧を印加する形式のものと、電源の一
方の極に接続する電極と他方の極に接続する電極の表面
を絶縁層で覆い、この絶縁層上に半導体ウェハ等の被吸
着体を載置する形式のものがある。
の絶縁層上に半導体ウェハ等の被吸着体を載置し、電極
と被吸着体間に電圧を印加する形式のものと、電源の一
方の極に接続する電極と他方の極に接続する電極の表面
を絶縁層で覆い、この絶縁層上に半導体ウェハ等の被吸
着体を載置する形式のものがある。
一方、電圧の印加を解除して絶縁層表面から被吸着体を
取外す場合に、絶縁層の表面の平滑度か高いと絶縁層表
面に被吸着体か吸い付いたままとなるので、絶縁層の表
面に凹凸部を形成したものかある。
取外す場合に、絶縁層の表面の平滑度か高いと絶縁層表
面に被吸着体か吸い付いたままとなるので、絶縁層の表
面に凹凸部を形成したものかある。
（発明か解決しようとする課題）
一つの電極を用いた静電チャックは被吸着体を電源に接
続して吸着するため、被吸着体か導体または半導体でな
ければならす、表面かＳ ｉＯ２で覆われているウェハ
を吸着することかできない。
続して吸着するため、被吸着体か導体または半導体でな
ければならす、表面かＳ ｉＯ２で覆われているウェハ
を吸着することかできない。
これに対し、対をなす電極を用いた静電チャックは被吸
着体か導体または半導体であるか否かにかかわらす吸着
することかできるが、この静電チャックの原理は被吸着
体表面に生じた分極電荷と絶縁層表面の電荷との間の引
力によって吸着するものであるため、絶縁層表面に吸い
付き防止のために形成した凹凸部の凹部と電極とが平面
視で重なる部分においては、互いに引合う電荷間の距離
が大きくなり、十分な吸着力を発揮できず、或いは吸着
力が不均一となる。
着体か導体または半導体であるか否かにかかわらす吸着
することかできるが、この静電チャックの原理は被吸着
体表面に生じた分極電荷と絶縁層表面の電荷との間の引
力によって吸着するものであるため、絶縁層表面に吸い
付き防止のために形成した凹凸部の凹部と電極とが平面
視で重なる部分においては、互いに引合う電荷間の距離
が大きくなり、十分な吸着力を発揮できず、或いは吸着
力が不均一となる。
（課題を解決するための手段）
上記課題を解決すべく本発明は、対をなす電極の表面を
絶縁層（誘電層）で覆うとともに、この絶縁層の表面を
被吸着体の載置面とした静電チャックの前記絶縁体の表
面に凹凸部を形成し、この凸部と前記電極のパターンを
絶縁体の厚み方向から見て、つまり平面視で略重なり合
う形状にした。
絶縁層（誘電層）で覆うとともに、この絶縁層の表面を
被吸着体の載置面とした静電チャックの前記絶縁体の表
面に凹凸部を形成し、この凸部と前記電極のパターンを
絶縁体の厚み方向から見て、つまり平面視で略重なり合
う形状にした。
（作用）
絶縁層表面の凸部と絶縁層内部の電極が平面視で略重な
るパターンとなっているため、凸部表面に被吸着体の表
面の分極電荷と引合う電荷が集中する。
るパターンとなっているため、凸部表面に被吸着体の表
面の分極電荷と引合う電荷が集中する。
（実施例）
以下に本発明の実施例を添付図面に基いて説明する。
第１図は本発明に係る静電チャックの断面図、第２図（
Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ第１図のＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ
線断面図、第３図は第１図の拡大図である。
Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ第１図のＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ
線断面図、第３図は第１図の拡大図である。
静電チャック１はセラミック製の基板２の表面に、電源
３の一方の極に接続する電極４ａと他方の極に接続する
電極４ｂを形成している。これら電極４ａ、４ｂは同心
円を８等分した形状をなし、それぞれの電極４ａ、４ｂ
が交互に隣接している。
３の一方の極に接続する電極４ａと他方の極に接続する
電極４ｂを形成している。これら電極４ａ、４ｂは同心
円を８等分した形状をなし、それぞれの電極４ａ、４ｂ
が交互に隣接している。
また基板２の上面には電極４ａ、４ｂを覆うセラミック
製絶縁層５を形成し、この絶縁層５の表面を半導体ウェ
ハ等の被吸着体Ｗの載置面としている。そして、絶縁層
５の表面には平面視で前記電極４ａ、４ｂと重なるパタ
ーンの凸部５ａを形成し、この凸部５ａに被吸着体Ｗの
下面が接触するようにし、また凸部５８間の凹部５ｂと
被吸着体Ｗの下面との間に隙間６を形成するようにして
いる。
製絶縁層５を形成し、この絶縁層５の表面を半導体ウェ
ハ等の被吸着体Ｗの載置面としている。そして、絶縁層
５の表面には平面視で前記電極４ａ、４ｂと重なるパタ
ーンの凸部５ａを形成し、この凸部５ａに被吸着体Ｗの
下面が接触するようにし、また凸部５８間の凹部５ｂと
被吸着体Ｗの下面との間に隙間６を形成するようにして
いる。
而して、電極４ａ、４ｂ間に電圧を印加すると電極４ａ
、４ｂ間に電界が生じ、これにより第３図に示すように
被吸着体Ｗの絶縁層５との接触面に分極電荷が現れ、ま
たこの分極電荷と反対の電荷が凸部５ａに現れ、これら
電極の引力により被吸着体Ｗが吸着される。
、４ｂ間に電界が生じ、これにより第３図に示すように
被吸着体Ｗの絶縁層５との接触面に分極電荷が現れ、ま
たこの分極電荷と反対の電荷が凸部５ａに現れ、これら
電極の引力により被吸着体Ｗが吸着される。
第４図（Ａ）、（Ｂ）及び第５図（Ａ）、（Ｂ）は別実
施例を示す第２図（Ａ）、（Ｂ）と同様の図であり、い
ずれの実施例にあっても電極４ａ。
施例を示す第２図（Ａ）、（Ｂ）と同様の図であり、い
ずれの実施例にあっても電極４ａ。
４ｂと絶縁層５の表面に形成した凸部５ａとは平面視で
重なり合うようにしている。ただし、第４図（Ａ）、（
Ｂ）に示す実施例にあっては電極４ａ、４ｂと絶縁層５
のパターンを同心円を３等分したものとし、第２図に示
したパターンよりも巾広とし、第５図（Ａ）、（Ｂ）に
示す実施例にあっては電極４ａ、４ｂと絶縁層５のパタ
ーンを同心円を４等分したものとし、最も巾広パターン
としている。
重なり合うようにしている。ただし、第４図（Ａ）、（
Ｂ）に示す実施例にあっては電極４ａ、４ｂと絶縁層５
のパターンを同心円を３等分したものとし、第２図に示
したパターンよりも巾広とし、第５図（Ａ）、（Ｂ）に
示す実施例にあっては電極４ａ、４ｂと絶縁層５のパタ
ーンを同心円を４等分したものとし、最も巾広パターン
としている。
（効果）
以上に説明したように本発明によれば、静電チャックの
絶縁層表面に形成した凸部と、絶縁層内に設けた一対の
電極とが平面視で略重なるパターンとしたため、該凸部
表面に被吸着体の表面の分極電荷と引合う電荷が集中し
、十分な吸着力を発揮するとともに吸着力か絶縁層表面
において均一となる。
絶縁層表面に形成した凸部と、絶縁層内に設けた一対の
電極とが平面視で略重なるパターンとしたため、該凸部
表面に被吸着体の表面の分極電荷と引合う電荷が集中し
、十分な吸着力を発揮するとともに吸着力か絶縁層表面
において均一となる。
第１図は本発明に係る静電チャックの断面図、第２図（
Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ第１図のＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ
線断面図、第３図は第１図の拡大図、第４図（Ａ）及び
（Ｂ）、第５図（Ａ）及び（Ｂ）は別実施例を示す第２
図（Ａ）及び（Ｂ）と同様の図である。 尚、図面中１は静電チャック、４ａ、４ｂは電極、５は
絶縁層、５ａは凸部、５ｂは四部、Ｗは被吸着体である
。
Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ第１図のＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ
線断面図、第３図は第１図の拡大図、第４図（Ａ）及び
（Ｂ）、第５図（Ａ）及び（Ｂ）は別実施例を示す第２
図（Ａ）及び（Ｂ）と同様の図である。 尚、図面中１は静電チャック、４ａ、４ｂは電極、５は
絶縁層、５ａは凸部、５ｂは四部、Ｗは被吸着体である
。
Claims (1)
- 絶縁体内に対をなす電極を埋設するとともに絶縁体の
表面を被吸着体の載置面とした静電チャックにおいて、
前記絶縁体の表面には凹凸部を形成し、更に凸部と前記
電極のパターンを絶縁体の厚み方向から見て略重なり合
う形状にしたことを特徴とする静電チャック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2094662A JPH03292753A (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2094662A JPH03292753A (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 静電チャック |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03292753A true JPH03292753A (ja) | 1991-12-24 |
Family
ID=14116463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2094662A Pending JPH03292753A (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 静電チャック |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03292753A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5643650A (en) * | 1991-09-09 | 1997-07-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Magneto-optical recording medium |
| JPH11233600A (ja) * | 1997-12-08 | 1999-08-27 | Ulvac Corp | 静電吸着装置、及びその静電吸着装置を用いた真空処理装置 |
| JP2011009692A (ja) * | 2009-05-27 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着電極およびその製造方法、ならびに基板処理装置 |
| WO2013047647A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Toto株式会社 | 交流駆動静電チャック |
| KR20220015009A (ko) * | 2020-07-30 | 2022-02-08 | 주식회사 이에스티 | 정전척 및 그 제조방법 |
-
1990
- 1990-04-10 JP JP2094662A patent/JPH03292753A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5643650A (en) * | 1991-09-09 | 1997-07-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Magneto-optical recording medium |
| JPH11233600A (ja) * | 1997-12-08 | 1999-08-27 | Ulvac Corp | 静電吸着装置、及びその静電吸着装置を用いた真空処理装置 |
| JP2011009692A (ja) * | 2009-05-27 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着電極およびその製造方法、ならびに基板処理装置 |
| WO2013047647A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Toto株式会社 | 交流駆動静電チャック |
| JP2013084935A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-09 | Toto Ltd | 交流駆動静電チャック |
| KR101429593B1 (ko) * | 2011-09-30 | 2014-08-12 | 토토 가부시키가이샤 | 교류구동 정전 척 |
| US9093488B2 (en) | 2011-09-30 | 2015-07-28 | Toto Ltd. | AC-driven electrostatic chuck |
| KR20220015009A (ko) * | 2020-07-30 | 2022-02-08 | 주식회사 이에스티 | 정전척 및 그 제조방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5151845A (en) | Electrostatic chuck | |
| KR101403328B1 (ko) | 돌기 모양의 전극 패턴을 가지는 바이폴라 정전척 및 이를이용한 기판 처리 방법 | |
| JP7240497B2 (ja) | 電荷散逸コーティングを施した静電チャック | |
| JPH04186653A (ja) | 静電チャック | |
| JP2018518844A (ja) | 基板を基板キャリアに静電結合するためのフィルムを有する装置 | |
| JPH03292753A (ja) | 静電チャック | |
| JP4159926B2 (ja) | 静電把持装置及びそれを製造する方法 | |
| JP2838810B2 (ja) | 静電チャック | |
| TW201943013A (zh) | 在其部分上具有電極之雙極靜電夾具 | |
| JP2004503450A5 (ja) | ||
| JPH0152899B2 (ja) | ||
| WO2003067677A3 (en) | Organic semiconductor photodetector | |
| JP4056599B2 (ja) | 静電チャックを用いた液晶表示装置用ガラス基板の吸着方法 | |
| JP2574407B2 (ja) | 電子ビーム露光装置用ウェハーホルダ | |
| WO2021028800A8 (en) | Opto-electronic device including an auxiliary electrode and a partition | |
| KR101003118B1 (ko) | 반도체 집적 회로 장치의 패드 구조체 | |
| JPH0691129B2 (ja) | 電極端子の相互接続方法および電気接続構造体の製造方法 | |
| JPH0243752A (ja) | 静電チャック型ウエハホルダ | |
| JPS63299137A (ja) | 試料保持装置 | |
| US20240235477A1 (en) | Crystal oscillator and method for making the same | |
| JP2979425B2 (ja) | 静電チヤツク基板 | |
| JPS61158910U (ja) | ||
| EP0393979A3 (en) | Method for manufacturing edge end emission type electroluminescent device arrays | |
| KR880014690A (ko) | 상부측 기판 접촉부를 갖고 있는 cmos 집적회로 및 이의 제조방법 | |
| JPH0311847Y2 (ja) |