JPH0487010A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はＶＴＲ用薄膜磁気ヘッド及びその製法に関する
ものである。

（従来の技術） 従来、ＶＴＲに於て、静止画再生、スロー再生等の特殊
機能を高画質で行なうために、１つのへラドベースにア
ジマス角の異なる２個のヘッドチップを配置した所謂ダ
ブルアジマス磁気ヘッドが用いられている。２つのへッ
トチップの磁気ギャップの間隔は、磁気テープ上に記録
されたビデオ信号の水平走査線の１本分（ＩＨ）もしく
は２本分（２Ｈ）に設定され、数１００μｍの距離とな
る。

第４図は特開昭６２−１１７１２３号公報、特開昭６１
−１５０１１３号公報に記載されているバルクタイプの
ダブルアジマス磁気ヘッドを示したもので、リングコア
型の２個のへラドチップ（７）（７）を１つのへラドベ
ース（７１）に貼付け、夫々のへラドチップの巻線窓（
７２）（７２）にコイル（７３）　（７３）を巻線して
いる。

第５図は特開昭５５−８４０２０号公報、特開昭５６−
１３７５１４号公報に記載されている薄膜型ダブルアジ
マス磁気ヘッドを示したもので、基板（７０）上にフォ
トリソグラフィー技術を用いてヘッドチップ（７）（７
）を形成している。

（発明が解決しようとする課題） 第４図のバルクタイプの磁気ヘッドは、磁性コア（２）
の体積が大きく、コイル（７３）の巻回半径が大きくな
ることから、２個のヘッドチップ（７）（７）間の磁束
の洩れが増大し、クロストークが大きい問題があり、両
ヘッドチップの間隔が狭くなるとこの傾向は顕著となる
。

又、ダブルアジマス磁気ヘッドでは２個のへラドチップ
（７）（７）にミクロンオーダの位置精度が要求される
が、ヘッドチップの位置合わせが困難であり、取付は治
具も複雑となり、更に、単に２個のヘッドチップをヘッ
ドベース（７１）に取付けただけでは、形状精度、取付
は精度のバラツキにより位置精度が出す、シリンダ取付
は後に押ネジ等により再度トラックセンター、ヘッド間
隔の位置調整をしていた。

更に、２個のへラドチップ（７）（７）を取付けた後、
巻線を行なって性能チエツクを行なうため、性能のバラ
ツキによりヘッド歩留りを低下させていた。

第５図の薄膜磁気ヘッドはヘッドチップ（７）（７）の
極小化が可能となり、又、コイル（図示せず）の巻回も
その半径を小さくできる。従ってダブルアジマス磁気ヘ
ッドに於てはクロストークの少ない高性能の磁気ヘッド
が得られる。

しかし、薄膜磁気ヘッドをＶＴＲ用ダブルアジマス磁気
ヘッドに適用した場合、ヘッドチップ（７）のコイル電
極（７４）とリード線（７５）との接続が困難となる。

即ち、薄膜磁気ヘッドは磁性コア（７６）とコイル電極
（７４）が同一基板（７０）上に形成されており、２つ
の磁性コア（７６）（７６）を対向させて配置したダブ
ルアジマス磁気ヘッドでは、コイル電極（７４）（７４
）も対向する。

従って、コイル電極（７４）に対するリード線（７５）
の接続は２つのへラドチップ（７）（７）間で行なう必
要がある。

しかし、ヘッドチップ（７）　（７）の間隔が数１００
μｍと狭く、更にコイル電極（７４）（７４）が対向し
ているため、　又、第４図、第５図の何れの場合でも、
２個のヘッドチップ（７）（７）を正確に位置決めする
ためのへラドベースが必要となるため、取付はスペース
の関係によって回転シリンダに取付ける磁気ヘッドの数
を多く出来ない問題があった。

本発明は、上記問題を解決する薄膜磁気ヘッド及びその
製法を明らかにするものである。

（課題を解決する手段） 本発明の薄膜磁気ヘッドは、基板（１）上に磁性コア（
２）、ギャップスペーサ（３）、導体コイル（４）が積
層され、該積層体に保護板（６）を接合して構成される
薄膜磁気ヘッドであって、導体コイル（４）に通じる通
電用ターミナル（１３）が基板（１）内に形成され、該
ターミナルは基板（１）の前記積層面とは反対側の側面
に露出している。

本発明の磁気ヘッドの製造方法は、基板（１）内に基板
（１）の厚み方向にターミナル（１３）を形成し、 基板（１）の一方の面に、磁気ヘッドの導体コイル（４
）の基板（１）側の平面部（４１）を形成し、該平面部
（４１）上に絶縁層を介して磁性コア（２）及びギャッ
プスペーサ（３）を積層成形し、該コア（２）の表面に
絶縁層を介して前記導体コイル（４）の残り部分を形成
して導体コイル（４）を完成し、 導体コイル（４）上に保護板（６）を接合し、テープ摺
接面となる部分を曲面加工することを特徴とする。

（作用及び効果） ２個のへラドチップを同一基板（１）上に一体化して形
成するため、形状は極小化し、回転シリンダに取付けで
きる磁気ヘッドの数を増やすことができる。又、２個の
ヘットチップの位置合わせを行なう工程がなくなり、生
産性が向上する。

又、ターミナルは基板（１）の前記積層面とは反対側の
側面に露出しているから、リード線の接続に際し、ワイ
ヤーボンディング方法もしくは半田付法の採用が可能と
なった。

（実施例） 第１図は、ダブルアジマス磁気ヘッドを通電用ターミナ
ル（３）が露出した面から見た図、第２図ｇは第１図の
反対側の面から見た斜面図である。

矩形の基板（１）の長手方向の一側縁に山伏の突出部（
１５）が形成され、該突出部の一方の面にはその両側に
一対のリング状の磁性コア（２）が形成され、磁性コア
（２）上に保護板（６）が貼着される。

上記突出部（１５）の突出側面がテープ摺接面となって
おり、第２図ｅの如く、２つの磁性コア（２）（２）は
、テープ摺接面側はギャップスペーサ（３）を介して鈍
角に突き合わさった傾斜片（２３）　（２３ａ）、両傾
斜片の外端からは基板（１）の他方の長手縁に向けて平
行片（２４）（２４ａ）が延び、平行片の終端から互い
に内向きに対向して屈曲片（２５）（２５）が延びて突
合わさっている。

第２図ｆに示す如く、上記コア（２）の各平行片（２４
）　（２４ａ）に絶縁層を介して巻線コイル（４）が施
され、該コイルに導通するターミナル（１３）は基板（
１）を貫通して、磁性コア（２）形成面と反対側の側面
に露出している。

上記磁気ヘッドは、基板（１）と保護板（６）を除く他
の構成部材は、巻線コイル（４）も含めて、フォトリソ
グラフィー、スパッタリング、蒸着、メツキ等の処理で
形成したものである。

以下、上記磁気ヘッドの製法を説明する。

第２図ｇの如く、矩形の基板（１）にターミナル用の４
つの貫通孔（１１）を開設し、該孔にメ・ツキ等により
導体（１２）を充填する。

第２図すの如く、基板（１）の一方の面にＳｉＯ□等に
て厚さ１μｍの絶縁層（１４）を形成し、更に第２図Ｃ
の如く、ターミナル（１３）と成る部分にの対応して絶
縁層（１４）をエツチングの手法によって除去してスル
ーホール（１６）を開設し、ターミナル（１３）を露出
させる。

スルーホール（１６）を含む絶縁層表面の全面にスパッ
タリング、蒸着、メツキ等の手法でＣｕ。

Ａ１、Ｐｔ等にて厚さ約２μｍの導体層（図示せず）を
形成する。

磁性コア（２）の巻線（４）と成る部分に対応して、基
板（１）側の平面上の部分と対応する巻線部分（４１）
を残してイオンビームエツチングにより上記厚さ約２μ
ｍの導体層を除去する。

第２図ｄの如く、前記コイルの平面部（４１）を含む絶
縁層（図示せず）の全面に５ｉｎ２等の厚さ１〜２μｍ
の絶縁層を形成し、該絶縁層の上からコイルの平面部（
４１）に跨がって、スパッタリング、蒸着、メツキ等に
て厚さ１０〜６０μｍ０ＣＯ系アモルファス等の磁性層
（２０）を形成する。

次でイオンビームエツチングにより、一対の磁性コア（
２）の、夫々外側部分の半休（２１）（２１）に対応す
る部分を残して除去する。この際、各磁性コア半休（２
１）（２１）の傾斜片（２３）の先端に後記する方法に
よってアジマスを形成する。

各磁性コア半休（２１）（２１）の傾斜片（２３）の先
端に５ｉ０２等の絶縁層（図示せず）を０２〜０３μｍ
の厚みに形成してギャップスペーサ（３）となし、上記
と同様にて、残りのコア半体（２２）　（２２）を形成
し、磁性コア（２）を完成する（第２図ｅ）。

磁性コア（２）上に厚み１２μｍの５ｉ０２等の絶縁層
（図示せず）を形成し、該絶縁層上にＣｕ、　Ａｌ、ｐ
ｔの導体層（図示せず）をスパッタリング、蒸着、メツ
キ等で全面に形成し、イオンビームエツチングによって
不必要な部分を除去し導体コイル（４）を完成する（第
２図ｆ）。尚、第２図Ｃに於て形成したコイルの平面部
（４１）と、第２図ｆの工程にて形成するコイル部分と
を電気的に導通させるために、第２図ｆの工程に至るま
でに予め、コイルの平面部（４１）上の絶縁層の一部（
前記電気的導通箇所）を、イオンビームエツチング等に
て除去しておくか、 平面部（４１）上に絶縁層を形成する工程に於て、平面
部（４１）の一部（前記電気的導通箇所）はマスキング
によって絶縁層を省略しておく。

導体コイル（４）上にＳｉＯ２の保護層（図示せず）を
形成し、セラミック、チタン酸バリウム、フェライト等
の保護板（６）をガラス接合又は樹脂接合により接合す
る。

基板（１）及び保護板（６）を第１図に示す形状に切り
出し、テープ摺接面を丸く加工することにより、ダブル
アジマス磁気ヘッドが完成する（第９図ｇ）。

２つのヘッドのトラック幅は磁性膜（２０）の厚みによ
って任意に制御出来る。

第３図は磁気ヘッドのアジマス角を制御する方法を示し
ている。

前記第２図ｄの工程、即ち、基板（１）上に絶縁層（１
４）を介してコア形成用の磁性膜（２０）を形成した後
、レジスト（８）を塗布する。所定の形状に露光した後
、イオンビームエツチングの際にイオンビーム（９）の
入射角θを変えることによりエツチング角、即ち一方の
コア半休（２１）のアジマス角を制御する。その後レジ
スト（８１）（８１）を形成した後、再びイオンビーム
入射角度を制御して他方のコア半休（２１）の逆アジマ
ス角を制御する。

尚、上記磁気ヘッドの基板（１）には、へ・ノドシリン
ダへの取付孔（１０）が必要であるが、予め基板に取付
孔を開設しても或は、第２図ｇの工程で開設しても可い
。

上記の如く、本発明の磁気ヘッドは、２個のへラドチッ
プを同一基板（１）上に一体化して形成できるため、極
小化でき、回転シリンダに取付ける磁気ヘッドの数を増
やすことができる。

又、２個のヘッドチップの位置合わせを行なう工程がな
くなり、生産性が向上する。

本発明は上記実施例の構成に限定されることはなく、特
許請求の範囲に記載の範囲で種々の変形が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気ヘッドの正面図、第２図ａ　−ｇは磁気ヘ
ッドの製造手順を示す説明図、第３図ａ　−ｄはアジマ
ス角の制御方法の説明図、第４図、第５図は従来例の磁
気ヘッドの正面図である。 （１）・・・基板　　　　（２）・・・磁性コア（３）
・・・ギャップスペーサ （４）・・・導体コイル　（６）・・・保護板（Ｉｌｉ
ジ （ｂ） （ヂ） ／３ 第５回 β （の 第ａ図 （Ｃ） （ｄ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］基板（１）上に磁性コア（２）、ギャップスペー
   サ（３）、導体コイル（４）が積層され、該積層体に保
   護板（６）を接合して構成される薄膜磁気ヘッドであっ
   て、導体コイル（４）に通じる通電用ターミナル（１３
   ）は、基板（１）を貫通して形成され、該ターミナルは
   基板（１）の前記積層面とは反対側の側面に露出してい
   る薄膜磁気ヘッド。 ［２］基板（１）内に基板（１）の厚み方向に通電用タ
   ーミナル（１３）を形成し、 基板（１）の一方の面に、磁気ヘッドの導体コイル（４
   ）の基板（１）側の平面部（４１）を形成し、 該平面部（４１）上に絶縁層を介して磁性コア（２）及
   びギャップスペーサ（３）を積層成形し、該コア（２）
   の表面に絶縁層を介して前記導体コイル（４）の残り部
   分を形成して導体コイル（４）を完成し、 導体コイル（４）上に保護板（６）を接合し、テープ摺
   接面となる部分を曲面加工することを特徴とする薄膜磁
   気ヘッドの製法。