JPH0411314A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0411314A JPH0411314A JP11272690A JP11272690A JPH0411314A JP H0411314 A JPH0411314 A JP H0411314A JP 11272690 A JP11272690 A JP 11272690A JP 11272690 A JP11272690 A JP 11272690A JP H0411314 A JPH0411314 A JP H0411314A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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-
- G—PHYSICS
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- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置に装備される薄
膜磁気ヘッドに関するものである。
膜磁気ヘッドに関するものである。
（従来の技術）
従来、磁気記録媒体の複数本のトラックに対して同時に
信号の記録又は再生が可能な磁気ヘッドとして、第６図
に示す如きマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドが提案され
ている （特開昭６２−３１０１３（Ｇ１１Ｂ５／２９
） ）。
信号の記録又は再生が可能な磁気ヘッドとして、第６図
に示す如きマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドが提案され
ている （特開昭６２−３１０１３（Ｇ１１Ｂ５／２９
） ）。
該磁気ヘッドは、表面が階段状に加工された磁性基板（
８）の各階段面（８１）上に夫々上部磁性コア（８２）
を形成し、上部磁性コア（８２）の先端部と基板（８）
との間に磁気ギャップ部（８４）を介装すると共に、上
部磁性コア（８２）の後部を包囲してコイル導体（８３
）を形成したものである。
８）の各階段面（８１）上に夫々上部磁性コア（８２）
を形成し、上部磁性コア（８２）の先端部と基板（８）
との間に磁気ギャップ部（８４）を介装すると共に、上
部磁性コア（８２）の後部を包囲してコイル導体（８３
）を形成したものである。
所謂アジマス記録を行なう場合、上記磁気ヘッドは、基
板（８）の階段面（８１）の表面が磁気記録媒体のトラ
ック長手方向（以下、各図中に矢印Ａで示す）に対して
所定のアジマス角度だけ傾斜する姿勢で回転ヘッドシリ
ンダーに装備される。
板（８）の階段面（８１）の表面が磁気記録媒体のトラ
ック長手方向（以下、各図中に矢印Ａで示す）に対して
所定のアジマス角度だけ傾斜する姿勢で回転ヘッドシリ
ンダーに装備される。
この場合、該磁気ヘッドにおいては、第８図に示す様に
各上部磁性コア（８２）を図中の破線で示す所定の帯状
領域内に一列に配置し、且つトラック幅Ｔ１トラックピ
ッチＰ及びアジマス角度θの間にＰ＝Ｔ／ｃｏｓθの関
係が成立する必要がある。
各上部磁性コア（８２）を図中の破線で示す所定の帯状
領域内に一列に配置し、且つトラック幅Ｔ１トラックピ
ッチＰ及びアジマス角度θの間にＰ＝Ｔ／ｃｏｓθの関
係が成立する必要がある。
又、階段面（８１）の幅Ｗの領域中、磁気ギャップ部の
占める割合をαとすると、Ｔ＝αＷｃｏｓθの関係をも
満たす必要ある。従って、第８図の磁気ヘッドでは、上
記関係式によって各諸元か一義的に決定され、自由な設
計が困難である問題かあった。
占める割合をαとすると、Ｔ＝αＷｃｏｓθの関係をも
満たす必要ある。従って、第８図の磁気ヘッドでは、上
記関係式によって各諸元か一義的に決定され、自由な設
計が困難である問題かあった。
又、基板（８）に階段面（８１）を形成する工程が煩雑
となる。
となる。
そこで、第７図に示す様に、基板（９）上に複数の７字
状溝（９１）を凹設し、該溝（９１）の片側の斜面に上
部磁性コア（９２）を形成したマルチチャンネル薄膜磁
気ヘッドが提案されている（特開昭６３−２２５９０９
（Ｇ１１Ｂ５７３１） ）。該磁気ヘッドにおいても
、基板（９）と上部磁性コア（９２）先端部の間に磁気
ギャップ部（９４）を設け、上部磁性コア（９２）の後
部を包囲してコイル導体（９３）が形成されている。
状溝（９１）を凹設し、該溝（９１）の片側の斜面に上
部磁性コア（９２）を形成したマルチチャンネル薄膜磁
気ヘッドが提案されている（特開昭６３−２２５９０９
（Ｇ１１Ｂ５７３１） ）。該磁気ヘッドにおいても
、基板（９）と上部磁性コア（９２）先端部の間に磁気
ギャップ部（９４）を設け、上部磁性コア（９２）の後
部を包囲してコイル導体（９３）が形成されている。
該磁気ヘッドにおいては、第９図に示す如くアジマス角
度θと７字状溝（９１）の斜面の幅Ｗが予め設定された
場合でも、７字状溝（９１）の斜面の開き角度φと溝形
状を適当に設定することにより、比較的自由な設計が可
能である。
度θと７字状溝（９１）の斜面の幅Ｗが予め設定された
場合でも、７字状溝（９１）の斜面の開き角度φと溝形
状を適当に設定することにより、比較的自由な設計が可
能である。
（解決しようとする課題）
しかしながら、第７図及び第９図に示す磁気ヘッドでは
、第６図及び第８図に示す磁気ヘッドと同様、基板上に
複数の斜面を凹設する工程が煩雑であり、その上、全て
の７字状溝（９１）の傾斜角度を所定値に精度良く設定
することが極めて困難でり、歩留りが悪い等の問題があ
った。
、第６図及び第８図に示す磁気ヘッドと同様、基板上に
複数の斜面を凹設する工程が煩雑であり、その上、全て
の７字状溝（９１）の傾斜角度を所定値に精度良く設定
することが極めて困難でり、歩留りが悪い等の問題があ
った。
本発明の目的は、基板上に階段面や斜面を形成すること
なく、磁気ギャップ部に正確なアジマス角度を形成出来
、然もマルチチャンネル化を図る場合にも各線形状に高
い精度が得られる薄膜磁気ヘッドの構造及びその製造方
法を提供することである。
なく、磁気ギャップ部に正確なアジマス角度を形成出来
、然もマルチチャンネル化を図る場合にも各線形状に高
い精度が得られる薄膜磁気ヘッドの構造及びその製造方
法を提供することである。
（課題を解決する為の手段）
本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、第１図の如く平板状の
下部磁性層（２）の上に、上部ヘッド素子（５０）及び
コイル導体（３）を具えている。
下部磁性層（２）の上に、上部ヘッド素子（５０）及び
コイル導体（３）を具えている。
上部ヘッド素子（５０）は、一対の上部磁性コア半体（
５）（５１）を磁気ギャップ部（４）を介して突き合わ
せて形成され、上部磁性コア半体（５）（５１）の突合
せ面は下部磁性層（２）の表面に対して略直交し、両上
部磁性コア半体（５）（５１）の表面に記録媒体との対
接面が形成される。
５）（５１）を磁気ギャップ部（４）を介して突き合わ
せて形成され、上部磁性コア半体（５）（５１）の突合
せ面は下部磁性層（２）の表面に対して略直交し、両上
部磁性コア半体（５）（５１）の表面に記録媒体との対
接面が形成される。
又、コイル導体（３）は、下部磁性層（２）と接合され
た上部ヘッド素子（５０）の両端部の内、少なくとも一
方の端部を包囲して渦巻き状に形成されている。
た上部ヘッド素子（５０）の両端部の内、少なくとも一
方の端部を包囲して渦巻き状に形成されている。
コイル導体（３）は、上部ヘッド素子（５０）の両端部
の夫々を包囲し且つ互いに逆向きの渦巻き状に形成され
た第１及び第２の導体膜（３２） （３３）と、これら
の導体膜（３２）（３３）を互いに連結する第３の導体
膜（３４）とから構成することも可能である。
の夫々を包囲し且つ互いに逆向きの渦巻き状に形成され
た第１及び第２の導体膜（３２） （３３）と、これら
の導体膜（３２）（３３）を互いに連結する第３の導体
膜（３４）とから構成することも可能である。
マルチチャンネル化を図る場合には、下部磁性層（２）
の表面には複数個の上部ヘッド素子（５０）を同一平面
上に間隔をおいて配列する。
の表面には複数個の上部ヘッド素子（５０）を同一平面
上に間隔をおいて配列する。
各上部ヘッド素子（５０）の上部磁性コア半体（５）（
５１）の突合せ面は、上部ヘッド素子（５０）の配列方
向に対して所定のアジマス角度だけ傾斜している。
５１）の突合せ面は、上部ヘッド素子（５０）の配列方
向に対して所定のアジマス角度だけ傾斜している。
本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法は、第１工程（
第２図（ａ ）（ｂ ）（ｃ ）、第３図参照）におい
て、平板状下部磁性層（２）上に、互いに隣接し且つ逆
回りの渦巻き状パターンに形成された第１及び第２の導
体膜（３２）（３３）と、これらの導体膜（３２）（３
３）を互いに連結する第３の導体膜（３４）とを形成す
る。
第２図（ａ ）（ｂ ）（ｃ ）、第３図参照）におい
て、平板状下部磁性層（２）上に、互いに隣接し且つ逆
回りの渦巻き状パターンに形成された第１及び第２の導
体膜（３２）（３３）と、これらの導体膜（３２）（３
３）を互いに連結する第３の導体膜（３４）とを形成す
る。
次に第２工程（第２図（ｄ））で、前記第１の導体膜（
３２）のパターン中央部を貫通して下部磁性層（２）と
接合された第１の上部磁性膜（５２）を形成する。
３２）のパターン中央部を貫通して下部磁性層（２）と
接合された第１の上部磁性膜（５２）を形成する。
その後の第３工程（第２図（ｄ））では、前記上部磁性
膜（５２）の先端面に磁気ギャップ部となる非磁性膜（
４１）を形成する。
膜（５２）の先端面に磁気ギャップ部となる非磁性膜（
４１）を形成する。
更に第４工程（ｅ）において、前記第２の導体膜（３３
）のパターン中央部を貫通して下部磁性層（２）と接合
され、且つ前記第１の上部磁性膜（５２）の先端面と非
磁性膜（４１）を介して突き合う第２の上部磁性膜（５
２）を形成する。
）のパターン中央部を貫通して下部磁性層（２）と接合
され、且つ前記第１の上部磁性膜（５２）の先端面と非
磁性膜（４１）を介して突き合う第２の上部磁性膜（５
２）を形成する。
（作 用）
本発明に係る薄膜磁気ヘッドにおいては、下部磁性層（
２）、上部ヘッド素子（５０）の両上部磁性コア半体（
５） （５１）及びコイル導体（３）によって磁気回路
が構成され、両上部磁性コア半体（５）（５１）の表面
に形成された対接面の上を磁気記録媒体が摺動すること
により、磁気ギャップ部（４）が作動して、信号の記録
又は再生が行なわれる。
２）、上部ヘッド素子（５０）の両上部磁性コア半体（
５） （５１）及びコイル導体（３）によって磁気回路
が構成され、両上部磁性コア半体（５）（５１）の表面
に形成された対接面の上を磁気記録媒体が摺動すること
により、磁気ギャップ部（４）が作動して、信号の記録
又は再生が行なわれる。
コイル導体（３）を第１乃至第３の導体膜（３２） （
３３）（３４）から構成した薄膜磁気ヘッドにおいては
、第１導体膜（３２）と第２導体膜（３３）とが一対の
上部磁性コア半体（５）（５１）の夫々を分担して磁気
回路を構成するから、高い記録再生効率が得られる。
３３）（３４）から構成した薄膜磁気ヘッドにおいては
、第１導体膜（３２）と第２導体膜（３３）とが一対の
上部磁性コア半体（５）（５１）の夫々を分担して磁気
回路を構成するから、高い記録再生効率が得られる。
又、マルチチャンネル化を図った薄膜磁気へ・ソドにお
いては、下部磁性層（２）上の同一平面上に形成された
各上部ヘッド素子（５０）が記録媒体に対して同時に動
作し、夫々のトラックに対して所定のアジマス角度で信
号の記録又は再生が行なわれる。
いては、下部磁性層（２）上の同一平面上に形成された
各上部ヘッド素子（５０）が記録媒体に対して同時に動
作し、夫々のトラックに対して所定のアジマス角度で信
号の記録又は再生が行なわれる。
本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法においては、第
１工程を経て第１乃至第３の導体膜（３２）（３３）
（３４）からなるコイル導体（３）が形成され、第２工
程では第１の上部磁性膜（５２）によって一方の上部磁
性コア半体（５）が形成される。第３工程では非磁性膜
（４１）によって磁気ギャップ部（４）が形成される。
１工程を経て第１乃至第３の導体膜（３２）（３３）
（３４）からなるコイル導体（３）が形成され、第２工
程では第１の上部磁性膜（５２）によって一方の上部磁
性コア半体（５）が形成される。第３工程では非磁性膜
（４１）によって磁気ギャップ部（４）が形成される。
更に第４工程では、第２の上部磁性膜（５２）によって
他方の上部磁性コア半体（５１）が形成される。
他方の上部磁性コア半体（５１）が形成される。
（発明の効果）
本発明に係る薄膜磁気ヘッド及びその製造方法によれば
、周知の薄膜形成技術を用いることによって上部ヘッド
素子（５０）の磁気ギャップ部（４）に正確なアジマス
角度を形成出来る。
、周知の薄膜形成技術を用いることによって上部ヘッド
素子（５０）の磁気ギャップ部（４）に正確なアジマス
角度を形成出来る。
又、マルチチャンネル化を図る場合にも、下部磁性層の
表面に階段面や７字状溝を形成する必要がなく、全ての
上部ヘッド素子（５０）は同一平面上に薄膜形成技術に
よって形成されるから、各上部ヘッド素子（５０）を高
い精度で形成出来るばかりでなく、トラック幅、トラッ
クピッチ及びアジマス角度について自由な設計が可能で
ある。
表面に階段面や７字状溝を形成する必要がなく、全ての
上部ヘッド素子（５０）は同一平面上に薄膜形成技術に
よって形成されるから、各上部ヘッド素子（５０）を高
い精度で形成出来るばかりでなく、トラック幅、トラッ
クピッチ及びアジマス角度について自由な設計が可能で
ある。
（実施例）
以下、本発明をマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドに実施
した一例について説明する。尚、実施例は本発明を説明
するためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明
を限定し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。
した一例について説明する。尚、実施例は本発明を説明
するためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明
を限定し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。
第１図に示す如くマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドは、
磁性或いは非磁性の基板（１）の表面に、センダスト、
アモルファス合金等からなる下部磁性層（２）を形成し
、該下部磁性層（２）の表面にチャンネル数に応じた複
数の上部へ・ソド素子（５０）を配列している。又、下
部磁性層（２）上には上部へ・ソド素子（５０）の両端
部を包囲して、Ｃｕ等からなるコイル導体（３）が形成
されている。該コイル導体（３）は両端にターミナル（
３１） （３１）を具えている。
磁性或いは非磁性の基板（１）の表面に、センダスト、
アモルファス合金等からなる下部磁性層（２）を形成し
、該下部磁性層（２）の表面にチャンネル数に応じた複
数の上部へ・ソド素子（５０）を配列している。又、下
部磁性層（２）上には上部へ・ソド素子（５０）の両端
部を包囲して、Ｃｕ等からなるコイル導体（３）が形成
されている。該コイル導体（３）は両端にターミナル（
３１） （３１）を具えている。
上部ヘッド素子（５０）は、一対の上部磁性コア半体（
５）（５１）を磁気ギャップ部（４）を介して突き合わ
せて形成されている。上部磁性コア半体（５）（５１）
の突合せ面は、下部磁性層（２）の表面に対して略直交
し、且つ上部ヘッド素子（５０）の配列方向に対して所
定のアジマス角度だけ傾斜している。両上部磁性コア半
体（５）（５１）の表面が記録媒体との対接面となる。
５）（５１）を磁気ギャップ部（４）を介して突き合わ
せて形成されている。上部磁性コア半体（５）（５１）
の突合せ面は、下部磁性層（２）の表面に対して略直交
し、且つ上部ヘッド素子（５０）の配列方向に対して所
定のアジマス角度だけ傾斜している。両上部磁性コア半
体（５）（５１）の表面が記録媒体との対接面となる。
上記薄膜磁気ヘッドは、第１図に示す構成の他、コイル
導体（３）を包囲する絶縁膜等（図示省略）を具えてい
るが、これらの細部の構造については後述の製造方法の
説明において言及する。
導体（３）を包囲する絶縁膜等（図示省略）を具えてい
るが、これらの細部の構造については後述の製造方法の
説明において言及する。
以下、第１図の薄膜磁気ヘッドの製造方法について、第
２図、第３図の工程図及び第４図のフローチャートに沿
って説明する。尚、一つの上部ヘッド素子（５０）のみ
について図示及び説明を行なうが、以下の薄膜形成工程
により、必要数の上部ヘッド素子（５０）が同時に並行
して形成される。
２図、第３図の工程図及び第４図のフローチャートに沿
って説明する。尚、一つの上部ヘッド素子（５０）のみ
について図示及び説明を行なうが、以下の薄膜形成工程
により、必要数の上部ヘッド素子（５０）が同時に並行
して形成される。
第２図（ａ）に示す様に、フェライト等の磁性材或いは
セラミック等の非磁性材からなる基板（１）の表面に、
スパッタリング等の薄膜形成技術を用いてセンダスト、
ＣＯ系アモルファス合金等からなる下部磁性層（２）を
５〜１０μｍの厚さに形成し、更に該下部磁性層（２）
の表面に５ｉＯｚ等からなる絶縁膜（６）を１〜２μｍ
の厚さに形成する。
セラミック等の非磁性材からなる基板（１）の表面に、
スパッタリング等の薄膜形成技術を用いてセンダスト、
ＣＯ系アモルファス合金等からなる下部磁性層（２）を
５〜１０μｍの厚さに形成し、更に該下部磁性層（２）
の表面に５ｉＯｚ等からなる絶縁膜（６）を１〜２μｍ
の厚さに形成する。
次に前記絶縁膜（６）の表面にＣｕ等の導体層を１〜２
μｍの厚さに形成し、該導体層をパターンエツチングし
て第２図（ｂ）及び第３図に示す如く第１及び第２の導
体膜（３２） （３３）を互いに逆回りの渦巻き状に形
成する。尚、第３図の如く第１及び第２の導体膜導体膜
（３２） （３３）の一端は夫々下部磁性層（２）の端
部へ向って平行に伸し、その先端部に夫々ターミナル（
３１）を形成する。
μｍの厚さに形成し、該導体層をパターンエツチングし
て第２図（ｂ）及び第３図に示す如く第１及び第２の導
体膜（３２） （３３）を互いに逆回りの渦巻き状に形
成する。尚、第３図の如く第１及び第２の導体膜導体膜
（３２） （３３）の一端は夫々下部磁性層（２）の端
部へ向って平行に伸し、その先端部に夫々ターミナル（
３１）を形成する。
上記両導体膜（３２） （３３）を覆って絶縁膜（６）
の表面に第２の絶縁膜（６１）を形成した後、該絶縁膜
（６１）に対し、第２図（ｂ）の如く両導体膜（３２）
（３２）の連結部となる２箇所に夫々エツチングを施し
てスルーホール（７）を開設し、導体膜（３２） （３
３）の端部を露出せしめる。
の表面に第２の絶縁膜（６１）を形成した後、該絶縁膜
（６１）に対し、第２図（ｂ）の如く両導体膜（３２）
（３２）の連結部となる２箇所に夫々エツチングを施し
てスルーホール（７）を開設し、導体膜（３２） （３
３）の端部を露出せしめる。
その後、上記絶縁膜（６１）を覆って更にＣｕ等の導体
層を１〜２μｍの厚さに形成し、該導体層をパターンエ
ツチングして、第２図（Ｃ）及び第３図に示す様に、前
記第１及び第２の導体膜（３２）（３３）を互いに連結
する第３の導体膜（３４）を形成する。
層を１〜２μｍの厚さに形成し、該導体層をパターンエ
ツチングして、第２図（Ｃ）及び第３図に示す様に、前
記第１及び第２の導体膜（３２）（３３）を互いに連結
する第３の導体膜（３４）を形成する。
これによって第１図に示すコイル導体（３）が形成され
ることになる。
ることになる。
次に第２図（ｃ）の如く上記コイル導体（３）を覆って
５ｉｎ２の絶縁膜（６２）を形成した後、該絶縁膜（６
２）に対して下部磁性層（２）の表面へ至る工・ソチン
グを施してスルーホール（７１）を開設し、下部磁性層
（２）を露出せしめる。
５ｉｎ２の絶縁膜（６２）を形成した後、該絶縁膜（６
２）に対して下部磁性層（２）の表面へ至る工・ソチン
グを施してスルーホール（７１）を開設し、下部磁性層
（２）を露出せしめる。
露出した下部磁性層（２）及び絶縁膜（６２）を覆って
センダスト等の軟磁性材を薄膜形成技術によって１０〜
２０μｍの厚さに形成した後、該磁性膜にパターンエツ
チングを施して第２図（ｄ）及び第３図に示す如く一方
の上部磁性膜（５２）を形成する。
センダスト等の軟磁性材を薄膜形成技術によって１０〜
２０μｍの厚さに形成した後、該磁性膜にパターンエツ
チングを施して第２図（ｄ）及び第３図に示す如く一方
の上部磁性膜（５２）を形成する。
該上部磁性膜（５２）は第１図に示す上部磁性コア半体
（５１）となる。
（５１）となる。
上記工程を経て第１図に示す如く下部磁性層（２）上に
複数の上部磁性コア半体（５１）を形成する際、該上部
磁性コア半体（５１）のパターンを種々に変更すること
により、後述の工程を経て最終的に得られるマルチチャ
ンネル磁気ヘッドのトラック幅、トラックピッチ及びア
ジマス角度を自由に設定することが可能である。
複数の上部磁性コア半体（５１）を形成する際、該上部
磁性コア半体（５１）のパターンを種々に変更すること
により、後述の工程を経て最終的に得られるマルチチャ
ンネル磁気ヘッドのトラック幅、トラックピッチ及びア
ジマス角度を自由に設定することが可能である。
第２図（ｄ）の如く上部磁性膜（５２）の先端面にＳｉ
Ｏ＋＋からなる非磁性膜（４１）を形成する。該非磁性
膜（４１）が第１図の磁気ギャップ部（４）となる。
Ｏ＋＋からなる非磁性膜（４１）を形成する。該非磁性
膜（４１）が第１図の磁気ギャップ部（４）となる。
第２図（ｄ）の如く下部磁性層（２）上の絶縁膜（６３
）に対して下部磁性層（２）の表面へ至るエツチングを
施してスルーホール（７２）を開設し、下部磁性層（２
）を露出せしめる。
）に対して下部磁性層（２）の表面へ至るエツチングを
施してスルーホール（７２）を開設し、下部磁性層（２
）を露出せしめる。
露出した下部磁性層（２）及び絶縁膜（６３）を覆つて
センダスト等の軟磁性材を薄膜形成技術によって１０〜
２０μｍの厚さに形成した後、該磁性膜にパターンエツ
チングを施して第２図（ｅ）及び第３図に示す如く他方
の上部磁性膜（５３）を形成する。
センダスト等の軟磁性材を薄膜形成技術によって１０〜
２０μｍの厚さに形成した後、該磁性膜にパターンエツ
チングを施して第２図（ｅ）及び第３図に示す如く他方
の上部磁性膜（５３）を形成する。
該上部磁性膜（５３）は第１図に示す上部磁性コア半体
（５）となる。
（５）となる。
最後に必要に応じて上部磁性膜（５２） （５３）を覆
うＳｉｎｇ等の保護層（図示省略）を形成し、第１図に
示すマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドを完成する。
うＳｉｎｇ等の保護層（図示省略）を形成し、第１図に
示すマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドを完成する。
上記マルチチャンネル薄膜磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、第５図に示す如く各上部ヘッド素子（５０）のトラ
ック幅Ｔ１アジマス角度θの設定、及びトラックピッチ
Ｐの設定が相互の関連なく独立して行なえるから、ヘッ
ド設計の自由度が従来に比べて遥かに大きくなる。
ば、第５図に示す如く各上部ヘッド素子（５０）のトラ
ック幅Ｔ１アジマス角度θの設定、及びトラックピッチ
Ｐの設定が相互の関連なく独立して行なえるから、ヘッ
ド設計の自由度が従来に比べて遥かに大きくなる。
然も第６図及び第７図に示す如き階段面、７字状溝等の
機械加工は不要であり、全ての工程が薄膜形成技術のみ
で構成可能であるから、極めて高い精度のマルチチャン
ネル磁気ヘッドの製造が可能である。
機械加工は不要であり、全ての工程が薄膜形成技術のみ
で構成可能であるから、極めて高い精度のマルチチャン
ネル磁気ヘッドの製造が可能である。
又、コイル導体（３）は、上部ヘッド素子（５０）の両
端部を包囲して所謂バランス巻きされているから、ヘッ
ド効率の点でも優れている。
端部を包囲して所謂バランス巻きされているから、ヘッ
ド効率の点でも優れている。
上記実施例の説明は、本発明を説明するためのものであ
って、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲
を減縮する様に解すべきではない。
って、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲
を減縮する様に解すべきではない。
又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
。
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
。
例えば、第１図の如きマルチチャンネル薄膜磁気ヘッド
に限らず、単一チャンネル薄膜磁気ヘッドにも応用出来
るのは勿論である。
に限らず、単一チャンネル薄膜磁気ヘッドにも応用出来
るのは勿論である。
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの斜視図、第２図
は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す工程図
、第３図はコイル導体を構成する第１乃至第３の導体膜
の形状を示す平面図、第４図は第２図の工程を説明する
フローチャート、第５図は本発明に係る薄膜磁気ヘッド
の利点を説明するための平面図、第６図及び第７図は夫
々従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第８図及び第９図は
夫々従来の薄膜磁気ヘッドの欠点を説明するための正面
図である。
は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す工程図
、第３図はコイル導体を構成する第１乃至第３の導体膜
の形状を示す平面図、第４図は第２図の工程を説明する
フローチャート、第５図は本発明に係る薄膜磁気ヘッド
の利点を説明するための平面図、第６図及び第７図は夫
々従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第８図及び第９図は
夫々従来の薄膜磁気ヘッドの欠点を説明するための正面
図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ［１］平板状下部磁性層（２）の上に、上部ヘッド素子
（５０）及びコイル導体（３）を具え、前記上部ヘッド
素子（５０）は、一対の上部磁性コア半体（５）（５１
）を磁気ギャップ部（４）を介して突き合わせて形成さ
れ、上部磁性コア半体（５）（５１）の突合せ面は下部
磁性層（２）の表面に対して略直交し、両上部磁性コア
半体（５）（５１）の表面に記録媒体との対接面が形成
され、前記コイル導体（３）は、下部磁性層（２）と接
合された上部ヘッド素子（５０）の両端部の内、少なく
とも一方の端部を包囲して形成されていることを特徴と
する薄膜磁気ヘッド。 ［２］コイル導体（３）は、上部ヘッド素子（５０）の
両端部の夫々を包囲し且つ互いに逆向きの渦巻き状に形
成された第１及び第２の導体膜（３２）（３３）と、こ
れらの導体膜（３２）（３３）を互いに連結する第３の
導体膜（３４）とから構成されている請求項１に記載の
薄膜磁気ヘッド。 ［３］下部磁性層（２）の上には複数個の上部ヘッド素
子（５０）が同一平面上に間隔をおいて配列され、各上
部ヘッド素子（５０）の上部磁性コア半体（５）（５１
）の突合せ面は、上部ヘッド素子（５０）の配列方向に
対して所定のアジマス角度だけ傾斜し、これらの上部ヘ
ッド素子（５０）によってマルチチャンネルの記録又は
再生が可能である請求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。 ［４］平板状の下部磁性層（２）上に、互いに隣接し且
つ逆回りの渦巻き状パターンに形成された第１及び第２
の導体膜（３２）（３３）と、これらの導体膜（３２）
（３３）を互いに連結する第３の導体膜（３４）とを形
成する第１工程と、 下部磁性層（２）上に、前記第１の導体膜（３２）のパ
ターン中央部を貫通して下部磁性層（２）と接合された
第１の上部磁性膜（５２）を形成する第２工程と、 前記上部磁性膜（５２）の先端面に、下部磁性層（２）
の表面と略直交して、磁気ギャップ部となる非磁性膜（
４１）を成膜する第３工程と、下部磁性層（２）上に、
前記第２の導体膜（３３）のパターン中央部を貫通して
下部磁性層（２）と接合され、且つ前記第１の上部磁性
膜（５２）の先端面と非磁性膜（４１）を介して突き合
う第２の上部磁性膜（５２）を形成する第４工程 とを具えたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11272690A JPH0411314A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11272690A JPH0411314A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0411314A true JPH0411314A (ja) | 1992-01-16 |
Family
ID=14594002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11272690A Pending JPH0411314A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0411314A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6139914A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS61151819A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-10 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS63211112A (ja) * | 1987-02-26 | 1988-09-02 | Nec Kansai Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11272690A patent/JPH0411314A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6139914A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS61151819A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-10 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS63211112A (ja) * | 1987-02-26 | 1988-09-02 | Nec Kansai Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
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