JPH0481983B2 - - Google Patents
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- JPH0481983B2 JPH0481983B2 JP59230467A JP23046784A JPH0481983B2 JP H0481983 B2 JPH0481983 B2 JP H0481983B2 JP 59230467 A JP59230467 A JP 59230467A JP 23046784 A JP23046784 A JP 23046784A JP H0481983 B2 JPH0481983 B2 JP H0481983B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D207/24—Oxygen or sulfur atoms
- C07D207/26—2-Pyrrolidones
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、式
〔式中、Ｒは水素、（C1〜C4）アルキル又はベン
ジルを表わし、そしてｎは整数１、２、３又は４
を表わす〕 の誘導体の製造に当り、 (a) 式 のＮ−オキシド誘導体を、適当な有機溶媒にお
いて塩基の存在下に且つ少くとも100℃の温度
で分解し； (b) このようにして得られる式の化合物を、そ
れ自体公知の方法によつて回収する、 ことからなる上記式の誘導体の製造方法に関す
る。
ジルを表わし、そしてｎは整数１、２、３又は４
を表わす〕 の誘導体の製造に当り、 (a) 式 のＮ−オキシド誘導体を、適当な有機溶媒にお
いて塩基の存在下に且つ少くとも100℃の温度
で分解し； (b) このようにして得られる式の化合物を、そ
れ自体公知の方法によつて回収する、 ことからなる上記式の誘導体の製造方法に関す
る。
式の化合物は、CNS−抑制活性
（depressant activity）並びに他の薬理学活性を
有することが知られている式 HOOC−（CH2）o−CH（NHR）−CH＝CH2 のオレフイン性アミノ酸の製造における中間体と
して使用することができる。これらの化合物は例
えば米国特許第3960927号及び第4039549号に記述
されている。
（depressant activity）並びに他の薬理学活性を
有することが知られている式 HOOC−（CH2）o−CH（NHR）−CH＝CH2 のオレフイン性アミノ酸の製造における中間体と
して使用することができる。これらの化合物は例
えば米国特許第3960927号及び第4039549号に記述
されている。
式のラクタム誘導体の式の化合物への変換
は、ラクタム誘導体を普通の方法で加水分解する
ことによつて達成できる。
は、ラクタム誘導体を普通の方法で加水分解する
ことによつて達成できる。
式の出発Ｎ−オキシドは、式
〔式中、Ｒ及びｎは上述の通りである〕
のジメチルアミン誘導体を過酸化水素で酸化する
ことで製造しうる。
ことで製造しうる。
式のジメチルアミン誘導体は、水素化触媒の
存在下及び水素の加圧下に式 のシアニドをジメチルアミンと反応させることに
よつて順次製造される。反応温度は約30psiの水
素圧に対して約40℃である。
存在下及び水素の加圧下に式 のシアニドをジメチルアミンと反応させることに
よつて順次製造される。反応温度は約30psiの水
素圧に対して約40℃である。
式のようなシアニドの製造は、本明細書に参
考文献として引用するJ.Org.Chem.45、815〜818
（1980）に開示されている。
考文献として引用するJ.Org.Chem.45、815〜818
（1980）に開示されている。
第３級アミンのＮ−オキシドの分解反応による
オレフイン及びジアルキルヒドロキシルアミンの
製造は、A.C.Copeら、J.Am.Chem.Soc.、71、
3929（1949）から公知である。Copeによつて記述
されている分解は85〜165℃の温度で行なう熱分
解である。一般に用いる溶媒には特に重要性がな
く、事実反応は適当な装置を用いていずれの溶媒
も用いることなく行なうことができる（参照：
A.C.Copeら、J.Am.Chem.Soc.79、4720（1957）、
第１図）。
オレフイン及びジアルキルヒドロキシルアミンの
製造は、A.C.Copeら、J.Am.Chem.Soc.、71、
3929（1949）から公知である。Copeによつて記述
されている分解は85〜165℃の温度で行なう熱分
解である。一般に用いる溶媒には特に重要性がな
く、事実反応は適当な装置を用いていずれの溶媒
も用いることなく行なうことができる（参照：
A.C.Copeら、J.Am.Chem.Soc.79、4720（1957）、
第１図）。
一般にこの熱分解は塩基の存在下に行なうこと
ができない。事実この種の分解について提案され
ている反応機構は、技術的に常識のあるものにと
つて、この反応段階での塩基が不用であるように
見える「本質的に平面の擬５員環」（an
essentially planar quasi fivemembered ring）
付加物によつて特徴づけられる遷移状態（参照：
Copeの上記文献を含む。実際当業者は上述の如
き分子内反応機構に特色のある系に塩基を添加す
ることは必ずしも必要でないか又は有用でないと
いうことを知つている。塩基は事実電子不足の基
質部分に対してＮ−オキシドの求核部分と競合
し、多分反応過程を変えるであろう。
ができない。事実この種の分解について提案され
ている反応機構は、技術的に常識のあるものにと
つて、この反応段階での塩基が不用であるように
見える「本質的に平面の擬５員環」（an
essentially planar quasi fivemembered ring）
付加物によつて特徴づけられる遷移状態（参照：
Copeの上記文献を含む。実際当業者は上述の如
き分子内反応機構に特色のある系に塩基を添加す
ることは必ずしも必要でないか又は有用でないと
いうことを知つている。塩基は事実電子不足の基
質部分に対してＮ−オキシドの求核部分と競合
し、多分反応過程を変えるであろう。
驚くべきことに、式のＮ−オキシド誘導体
の、適当な有機溶媒中及び塩基の存在下における
分解反応は、式の対応するオレフインをかなり
の高収率で与えることが発見された。この収率は
溶媒又は塩基のいずれかの不存在下におけよりも
いずれの場合にも高かつた。
の、適当な有機溶媒中及び塩基の存在下における
分解反応は、式の対応するオレフインをかなり
の高収率で与えることが発見された。この収率は
溶媒又は塩基のいずれかの不存在下におけよりも
いずれの場合にも高かつた。
有機溶媒は一般にワツクス或いは100℃よりも
高沸点の芳香族溶媒のような非プロトン性溶媒で
ある。それらの代表的な例はジメチルホルムアミ
ド、キシレン、トルエンなどである。好適な溶媒
はジメチルホルムアミド及びキシレンであり、最
も好適な溶媒はキシレンである。塩基は有機並び
に無機塩基であることができる。代表的な有機塩
基は第３級アミン例えばジメチルピペラジンであ
り、一方無機塩基はアルカリ金属水酸化物又は炭
酸塩例えば水酸化カリウム又はナトリウム、炭酸
カリウム又はナトリウムなどである。好適な塩基
は無機塩基であり、最も好適な塩基は炭酸カリウ
ムである。塩基は一般に式のＮ−オキシド誘導
体に対して１：10〜３：１のモル量で使用され
る。好適な塩基／Ｎ−オキシドの比は約１：１〜
約１：２である。
高沸点の芳香族溶媒のような非プロトン性溶媒で
ある。それらの代表的な例はジメチルホルムアミ
ド、キシレン、トルエンなどである。好適な溶媒
はジメチルホルムアミド及びキシレンであり、最
も好適な溶媒はキシレンである。塩基は有機並び
に無機塩基であることができる。代表的な有機塩
基は第３級アミン例えばジメチルピペラジンであ
り、一方無機塩基はアルカリ金属水酸化物又は炭
酸塩例えば水酸化カリウム又はナトリウム、炭酸
カリウム又はナトリウムなどである。好適な塩基
は無機塩基であり、最も好適な塩基は炭酸カリウ
ムである。塩基は一般に式のＮ−オキシド誘導
体に対して１：10〜３：１のモル量で使用され
る。好適な塩基／Ｎ−オキシドの比は約１：１〜
約１：２である。
反応温度は一般に100℃以上、好ましくは100〜
145℃である。最も好適な反応温度は110℃〜130
℃である。反応生成物の精製は種々の公知の精製
法の１つを用いて行なうことができる。好適な精
製法は、式の粗生成物の酸洗浄及び蒸留を含
む。しかしながら一般に本方法で得られる式の
化合物は、更に精製しないで次の反応工程に供す
るのに十分なだけ純粋である。事実、本方法の更
なる利点は、次の反応段階を妨害するかも知れな
い或いはいずれの場合にも異なる精製工程によつ
て式の最終生成物から除去することが必要であ
る式のアミンで表わされる不純物を実質的に含
有しない式の主生成物を生成することである。
多くの場合、本方法はアミン不純物が約１％又は
それ以下であり且つ一般に決して10％より高くな
い生成物を与える。異なる方法を用いる場合、こ
の不純物の普通の量は約10％又はそれ以上であ
る。本反応方法に対する式の生成物の収率は75
％以上、また多くの場合には80〜85％又はそれ以
上である。
145℃である。最も好適な反応温度は110℃〜130
℃である。反応生成物の精製は種々の公知の精製
法の１つを用いて行なうことができる。好適な精
製法は、式の粗生成物の酸洗浄及び蒸留を含
む。しかしながら一般に本方法で得られる式の
化合物は、更に精製しないで次の反応工程に供す
るのに十分なだけ純粋である。事実、本方法の更
なる利点は、次の反応段階を妨害するかも知れな
い或いはいずれの場合にも異なる精製工程によつ
て式の最終生成物から除去することが必要であ
る式のアミンで表わされる不純物を実質的に含
有しない式の主生成物を生成することである。
多くの場合、本方法はアミン不純物が約１％又は
それ以下であり且つ一般に決して10％より高くな
い生成物を与える。異なる方法を用いる場合、こ
の不純物の普通の量は約10％又はそれ以上であ
る。本反応方法に対する式の生成物の収率は75
％以上、また多くの場合には80〜85％又はそれ以
上である。
本方法の条件下では、光学活性化合物のラセミ
化が見られない。それ故に、式の光学活性のＮ
−オキシドから始めると、同一の光学的配置を保
持した式の対応するオレフインが得られる。
化が見られない。それ故に、式の光学活性のＮ
−オキシドから始めると、同一の光学的配置を保
持した式の対応するオレフインが得られる。
次の実施例は本発明を例示するものであるが、
これを制限するものとして見做すべきでない。
これを制限するものとして見做すべきでない。
参考例 １
５−〔２−（ジメチルアミノエチル）〕−２−ピロ
リジノンの製造 ５−（シアノメチル）−２−ピロリジノン（10
ｇ、0.008モル）をエタノール（100ml）に溶解
し、これにエタノール中27％（ｗ／ｖ）ジメチル
アミン（0.16モル）を添加した。次いで５％Pd／
Al2O3を添加し、水素化を約40℃の温度下に約
30psiの圧力で行なつた。そして水素の消費が終
るまで撹拌を続けた。次いで触媒を過によつて
回収し、液を濃縮した。油状残渣を蒸留し、沸
点130〜135℃／１mmHgの画分を回収した。
リジノンの製造 ５−（シアノメチル）−２−ピロリジノン（10
ｇ、0.008モル）をエタノール（100ml）に溶解
し、これにエタノール中27％（ｗ／ｖ）ジメチル
アミン（0.16モル）を添加した。次いで５％Pd／
Al2O3を添加し、水素化を約40℃の温度下に約
30psiの圧力で行なつた。そして水素の消費が終
るまで撹拌を続けた。次いで触媒を過によつて
回収し、液を濃縮した。油状残渣を蒸留し、沸
点130〜135℃／１mmHgの画分を回収した。
参考例 ２
５−〔２−（ジメチルアミノエチル）〕−２−ピロ
リジノン、Ｎ−オキシドの製造 ５−〔２−（ジメチルアミノエチル）〕−２−ピロ
リジノン（７ｇ；0.045モル）を水（20ml）に溶
解し、これに36％（ｗ／ｖ）過酸化水素（5.04
ｇ）を撹拌しながら約20℃で添加した。約２時間
後、36％（ｗ／ｖ）過酸化水素5.04ｇの更なる部
分を反応混合物に添加し、24時間撹拌を続けた。
混合物のPHが約8.5又は8.5以下になつた時反応が
終了したと考えた。H2O2の過剰量の粉末の白金
の添加によつて分解した。次いで水を減圧下に蒸
発させ、残渣をエタノールに入れ、溶媒を再び蒸
発させた。得られる白色の吸湿性固体は次の反応
工程に対して使用できた。融点137℃（アセトニ
トリル）。
リジノン、Ｎ−オキシドの製造 ５−〔２−（ジメチルアミノエチル）〕−２−ピロ
リジノン（７ｇ；0.045モル）を水（20ml）に溶
解し、これに36％（ｗ／ｖ）過酸化水素（5.04
ｇ）を撹拌しながら約20℃で添加した。約２時間
後、36％（ｗ／ｖ）過酸化水素5.04ｇの更なる部
分を反応混合物に添加し、24時間撹拌を続けた。
混合物のPHが約8.5又は8.5以下になつた時反応が
終了したと考えた。H2O2の過剰量の粉末の白金
の添加によつて分解した。次いで水を減圧下に蒸
発させ、残渣をエタノールに入れ、溶媒を再び蒸
発させた。得られる白色の吸湿性固体は次の反応
工程に対して使用できた。融点137℃（アセトニ
トリル）。
実施例 １
５−ビニル−２−ピロリジノンの製造
５−〔２−（ジメチルアミノエチル）〕−２−ピロ
リジノン、Ｎ−オキシド（11.25ｇ）をサシレン
（170ml）及び炭酸カリウム（3.95ｇ）に添加し
た。炭酸カリウムは好ましくは粒径分布の80％が
300μｍ以下の粉末K2CO3である。反応混合物の
温度を約２時間約125℃に保つた。次いで懸濁液
を過し、回収された表題の粗生成物を酸（好ま
しくは鉱酸例えば37％塩酸）で洗浄して混合物の
PHを約３に調節した。105〜110℃／1.5mmHgで蒸
留後、白いロウ状の化合物を得た。収率85％、融
点21℃、〔α〕20 D＝＋61°（ｃ＝２、H2O）。
リジノン、Ｎ−オキシド（11.25ｇ）をサシレン
（170ml）及び炭酸カリウム（3.95ｇ）に添加し
た。炭酸カリウムは好ましくは粒径分布の80％が
300μｍ以下の粉末K2CO3である。反応混合物の
温度を約２時間約125℃に保つた。次いで懸濁液
を過し、回収された表題の粗生成物を酸（好ま
しくは鉱酸例えば37％塩酸）で洗浄して混合物の
PHを約３に調節した。105〜110℃／1.5mmHgで蒸
留後、白いロウ状の化合物を得た。収率85％、融
点21℃、〔α〕20 D＝＋61°（ｃ＝２、H2O）。
分析した時、これは表題の化合物であることが
わかつた。この純度は、更に精製しないで加水分
解できるようなものであつた。特に、その参考例
１のアミンの含量は１％以下であつた。
わかつた。この純度は、更に精製しないで加水分
解できるようなものであつた。特に、その参考例
１のアミンの含量は１％以下であつた。
比較例 １
５−ビニル−２−ピロリジノンの、塩基触媒の
不存在下における製造 ５−〔２−（ジメチルアミノエチル）〕−２−ピロ
リジノン、Ｎ−オキシド（11.25ｇ）をキシレン
（170ml）に添加した。この反応混合物の温度を約
２時間約135℃に保つた。次いで懸濁液を過し、
回収された表題の化合物を酸（好ましくは鉱酸例
えば37％塩酸）で洗浄し、混合物のPHを約３に調
節した。105〜110℃／1.5mmHgで蒸留後、白色ロ
ウ状の化合物を得た。収率75％、融点21℃、〔α〕
20 D＝＋61°（ｃ＝２、H2O）。
不存在下における製造 ５−〔２−（ジメチルアミノエチル）〕−２−ピロ
リジノン、Ｎ−オキシド（11.25ｇ）をキシレン
（170ml）に添加した。この反応混合物の温度を約
２時間約135℃に保つた。次いで懸濁液を過し、
回収された表題の化合物を酸（好ましくは鉱酸例
えば37％塩酸）で洗浄し、混合物のPHを約３に調
節した。105〜110℃／1.5mmHgで蒸留後、白色ロ
ウ状の化合物を得た。収率75％、融点21℃、〔α〕
20 D＝＋61°（ｃ＝２、H2O）。
分析した時、これは13.8％の参考例１のアミン
の含量を有する表題の化合物であることがわかつ
た。
の含量を有する表題の化合物であることがわかつ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 ［式中、Ｒは水素、（C1〜C4）アルキル又はベン
ジルを表わし、そしてｎは整数１、２、３又は４
を表わす］ の誘導体を製造するにあたり、 (a) 式 ［式中、Ｒ及びｎは上記の意味を有する］ のＮ−オキシド誘導体を、適当な有機溶媒中に
おいて塩基の存在下に且つ少くとも100℃の温
度で分解し； (b) このようにして得られる式の化合物を、そ
れ自体既知の方法によつて回収する、 ことを特徴とする前記の誘導体の製造方法。 ２ 塩基がアルカリ金属水酸化物又は炭酸塩であ
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 塩基が炭酸カリウムである特許請求の範囲第
１項記載の方法。 ４ 塩基が300μｍより小さい粒径分布のものを
少くとも約80％有する炭酸カリウムである特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ５ 溶媒がキシレンである特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ６ 反応温度が100〜145℃である特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ７ 反応温度が110〜135℃である特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ８ 塩基と式のＮ−オキシド基質の比が１：10
〜３：１である特許請求の範囲第１項記載の方
法。 ９ 塩基と式のＮ−オキシド基質の比が１：１
〜２：１である特許請求の範囲第１項記載の方
法。 １０ ５−ビニル−２−ピロリジノンを製造する
ための特許請求の範囲第１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US549365 | 1983-11-04 | ||
| US06/549,365 US4632994A (en) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | Process for decomposing N-oxide derivatives producing 5-vinyl-2-pyrrolidones |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60172961A JPS60172961A (ja) | 1985-09-06 |
| JPH0481983B2 true JPH0481983B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=24192720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59230467A Granted JPS60172961A (ja) | 1983-11-04 | 1984-11-02 | オレフイン誘導体の製造に有用なｎ−オキシド誘導体の分解方法 |
Country Status (21)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4632994A (ja) |
| EP (1) | EP0144664B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60172961A (ja) |
| KR (1) | KR910007881B1 (ja) |
| AR (1) | AR241714A1 (ja) |
| AT (1) | ATE62476T1 (ja) |
| AU (1) | AU570511B2 (ja) |
| CA (1) | CA1219863A (ja) |
| DE (1) | DE3484425D1 (ja) |
| DK (1) | DK165333C (ja) |
| ES (1) | ES8603403A1 (ja) |
| FI (1) | FI81086C (ja) |
| GR (1) | GR80611B (ja) |
| HU (1) | HU192998B (ja) |
| IE (1) | IE57906B1 (ja) |
| IL (1) | IL73336A (ja) |
| NO (1) | NO166443C (ja) |
| NZ (1) | NZ210080A (ja) |
| PH (1) | PH22623A (ja) |
| PT (1) | PT79452B (ja) |
| ZA (1) | ZA848408B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3718563A1 (de) * | 1987-06-03 | 1988-12-15 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von substituierten lactamen |
| JP2009148753A (ja) * | 2006-10-24 | 2009-07-09 | Fujika:Kk | スカム除去装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3960927A (en) * | 1975-03-18 | 1976-06-01 | Richardson-Merrell Inc. | Olefinic derivatives of amino acids |
| US4178463A (en) * | 1978-01-30 | 1979-12-11 | Merrell Toraude Et Compagnie | Process for making 4-aminohex-5-enoic acid |
| GB2133002B (en) * | 1982-12-30 | 1986-01-29 | Merrell Toraude & Co | Process for preparing 4-amino-5-hexenoic acid |
-
1983
- 1983-11-04 US US06/549,365 patent/US4632994A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-10-11 GR GR80611A patent/GR80611B/el unknown
- 1984-10-17 AU AU34415/84A patent/AU570511B2/en not_active Expired
- 1984-10-20 DE DE8484112681T patent/DE3484425D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1984-10-20 AT AT84112681T patent/ATE62476T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-10-20 EP EP19840112681 patent/EP0144664B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-10-22 FI FI844144A patent/FI81086C/fi not_active IP Right Cessation
- 1984-10-25 DK DK508984A patent/DK165333C/da not_active IP Right Cessation
- 1984-10-26 IL IL73336A patent/IL73336A/xx not_active IP Right Cessation
- 1984-10-29 AR AR84298419A patent/AR241714A1/es active
- 1984-10-29 ZA ZA848408A patent/ZA848408B/xx unknown
- 1984-10-30 PH PH31386A patent/PH22623A/en unknown
- 1984-10-31 NO NO844329A patent/NO166443C/no not_active IP Right Cessation
- 1984-11-02 ES ES537323A patent/ES8603403A1/es not_active Expired
- 1984-11-02 NZ NZ210080A patent/NZ210080A/xx unknown
- 1984-11-02 PT PT79452A patent/PT79452B/pt unknown
- 1984-11-02 IE IE2824/84A patent/IE57906B1/en not_active IP Right Cessation
- 1984-11-02 HU HU844081A patent/HU192998B/hu unknown
- 1984-11-02 CA CA000466931A patent/CA1219863A/en not_active Expired
- 1984-11-02 JP JP59230467A patent/JPS60172961A/ja active Granted
- 1984-11-02 KR KR1019840006857A patent/KR910007881B1/ko not_active IP Right Cessation
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |