JPH0477515A - 放射線硬化型オリゴマー - Google Patents
放射線硬化型オリゴマーInfo
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- JPH0477515A JPH0477515A JP2184330A JP18433090A JPH0477515A JP H0477515 A JPH0477515 A JP H0477515A JP 2184330 A JP2184330 A JP 2184330A JP 18433090 A JP18433090 A JP 18433090A JP H0477515 A JPH0477515 A JP H0477515A
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は硬化特性及び機械特性に優れる新規な放射線硬
化型オリゴマーに関する。
化型オリゴマーに関する。
(従来の技術)
従来、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタン(メ
タ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリ
レートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレート
オリゴマー等種々のものが知られており、これらの中で
も特にウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、ウ
レタン基の分子間力によって強靭性、機械的強度、耐薬
品性等の優れた硬化皮膜が得られるものである。また、
密着性、加工性等も良いことから、放射線硬化型塗料、
インキ、コーティング剤、接着剤などの各種用途への応
用が期待されている。
タ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリ
レートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレート
オリゴマー等種々のものが知られており、これらの中で
も特にウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、ウ
レタン基の分子間力によって強靭性、機械的強度、耐薬
品性等の優れた硬化皮膜が得られるものである。また、
密着性、加工性等も良いことから、放射線硬化型塗料、
インキ、コーティング剤、接着剤などの各種用途への応
用が期待されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかし従来のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー
は、実際には種類が極めて少なく、未だ開発途上にある
のが現状である。
は、実際には種類が極めて少なく、未だ開発途上にある
のが現状である。
即ち、ポリオール化合物を単にジイソシアネート化合物
でウレタン化した、伸長率は大きいが引張強度が著しく
小さいソフトタイプ及び、低分子量のグリコールを単に
ジイソシアネート化合物でウレタン化した、引張強度は
大きいが伸長率が全くないハードタイプの2種類のいず
れかに偏っていた。
でウレタン化した、伸長率は大きいが引張強度が著しく
小さいソフトタイプ及び、低分子量のグリコールを単に
ジイソシアネート化合物でウレタン化した、引張強度は
大きいが伸長率が全くないハードタイプの2種類のいず
れかに偏っていた。
また、引張強度も伸長率も兼ね備えた性能を充分満足し
ている放射線硬化型オリゴマーは、まだ得られていない
。
ている放射線硬化型オリゴマーは、まだ得られていない
。
従って、従来の放射線硬化型オリゴマー、特にウレタン
(メタ)アクリレートオリゴマーは使用対象物、使用条
件が制限されるという問題があった。
(メタ)アクリレートオリゴマーは使用対象物、使用条
件が制限されるという問題があった。
本発明の目的は、広範囲な用途を有し、引張強度が高く
、柔軟性が良好な新規な放射線硬化型オリゴマーを提供
することにある。
、柔軟性が良好な新規な放射線硬化型オリゴマーを提供
することにある。
(発明が解決しようとする課題)
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究の結果、
分子量300以下の2価アルコールとジイソシアネート
化合物とからなるウレタン結合をもつハードセグメント
と、ポリオール化合物のソフトセグメントとを交互に反
応させ、両末端に感光基を導入することにより、得られ
る放射線硬化型オリゴマーが硬化速度、強靭性、柔軟性
及び密着性等の点において従来にみられないような高性
能を示すことを見いだし、本発明を達成するに至った。
分子量300以下の2価アルコールとジイソシアネート
化合物とからなるウレタン結合をもつハードセグメント
と、ポリオール化合物のソフトセグメントとを交互に反
応させ、両末端に感光基を導入することにより、得られ
る放射線硬化型オリゴマーが硬化速度、強靭性、柔軟性
及び密着性等の点において従来にみられないような高性
能を示すことを見いだし、本発明を達成するに至った。
即ち、本発明の放射線硬化型オリゴマーは、次の一般式
; 〔式中のRは炭素数2〜8個のアルキレン基、R1はH
又はCH3基、R2はジイソシアネート残基、R1は2
価アルコールの水酸基を除いた残基、Pはポリオールの
水酸基を除いた残部、lは1〜4の整数、mは1≦m≦
10(但し、ポリオールがポリブタジェン系ポリオール
の場合にはm=1を除く)、nは1〜12の整数を示す
〕で表される成分から成る。
; 〔式中のRは炭素数2〜8個のアルキレン基、R1はH
又はCH3基、R2はジイソシアネート残基、R1は2
価アルコールの水酸基を除いた残基、Pはポリオールの
水酸基を除いた残部、lは1〜4の整数、mは1≦m≦
10(但し、ポリオールがポリブタジェン系ポリオール
の場合にはm=1を除く)、nは1〜12の整数を示す
〕で表される成分から成る。
以下本発明についてその構成に基づき詳細に説明する。
本発明の放射線硬化型オリゴマーは分子1i1000〜
10000のポリオール、ジイソシアネート化合物、分
子量300以下の2価アルコール及び、水酸基を有する
ビニル系不飽和単量体を化学量論量で反応させることに
より得られる。
10000のポリオール、ジイソシアネート化合物、分
子量300以下の2価アルコール及び、水酸基を有する
ビニル系不飽和単量体を化学量論量で反応させることに
より得られる。
上記式中のmはソフトセグメントとハードセグメントの
繰り返し数を示し、これは1≦m≦10であるがポリオ
ールがポリブタジェン系ポリオールの場合にはm=1を
除く。m〉10では、分子量が太き(なるため溶解性が
悪く、取扱いが困難になり、更に光重合密度が低下し好
ましくない。また、nはジイソシアネート化合物と2価
アルコールとからなるウレタン結合の繰り返し単位数で
ハードセグメントを形成する部分の長さを意味し、1〜
12の整数である。n=0ではハードセグメントが存在
しないために、オリゴマーは伸びを有するが強度が小さ
く脆くなってしまう。またn〉12ではハードセグメン
トが長くなりすぎて硬くなりすぎ柔軟性が失われてしま
う。
繰り返し数を示し、これは1≦m≦10であるがポリオ
ールがポリブタジェン系ポリオールの場合にはm=1を
除く。m〉10では、分子量が太き(なるため溶解性が
悪く、取扱いが困難になり、更に光重合密度が低下し好
ましくない。また、nはジイソシアネート化合物と2価
アルコールとからなるウレタン結合の繰り返し単位数で
ハードセグメントを形成する部分の長さを意味し、1〜
12の整数である。n=0ではハードセグメントが存在
しないために、オリゴマーは伸びを有するが強度が小さ
く脆くなってしまう。またn〉12ではハードセグメン
トが長くなりすぎて硬くなりすぎ柔軟性が失われてしま
う。
上記ポリオールとしては、ポリエーテル系グリコール、
ポリエステル系グリコール、ポリカーボネート系グリコ
ール、アクリルポリオール、ポリブタジェン系ポリオー
ル等の分子量1000〜10000の重合体があり、こ
れらを単独若しくは混合して使用することができる。
ポリエステル系グリコール、ポリカーボネート系グリコ
ール、アクリルポリオール、ポリブタジェン系ポリオー
ル等の分子量1000〜10000の重合体があり、こ
れらを単独若しくは混合して使用することができる。
また、上記水酸基を有するビニル性不飽和単量体として
は、例えば、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート等があり、これらを単独で若しくは混合して用いる
ことができる。
は、例えば、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート等があり、これらを単独で若しくは混合して用いる
ことができる。
更に、上記ジイソシアネート化合物としては、トリレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
タレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、4,4′ −ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、p−フェニレンジイソ
シアネート、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキ
サン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、リジ
ンジイソシアネート等があり、これらを単独で若しくは
混合して用いることができる。
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
タレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、4,4′ −ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、p−フェニレンジイソ
シアネート、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキ
サン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、リジ
ンジイソシアネート等があり、これらを単独で若しくは
混合して用いることができる。
分子量300以下の上記2価アルコールとしては、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−
プロピレングリコール、L4−ブタンジオール、1,5
−ベンタンジオール、1.6−ヘキサンジオール、ジオ
キサングリコール、ネオペンチルグリコール、ジエチレ
ングリコール、ブチルエチルグリコール等があり、これ
らを単独で若しくは混合して用いることができる。
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−
プロピレングリコール、L4−ブタンジオール、1,5
−ベンタンジオール、1.6−ヘキサンジオール、ジオ
キサングリコール、ネオペンチルグリコール、ジエチレ
ングリコール、ブチルエチルグリコール等があり、これ
らを単独で若しくは混合して用いることができる。
上記4成分を後述の実施例で具体的に示すように、窒素
雰囲気中、温度40〜70″C1好ましくは50〜60
°Cで均一に混合反応させることにより、本発明の放射
線硬化型オリゴマーを得ることができる。
雰囲気中、温度40〜70″C1好ましくは50〜60
°Cで均一に混合反応させることにより、本発明の放射
線硬化型オリゴマーを得ることができる。
必要に応じ、ジラウリル酸ジー°n−ブチル、トリエチ
レンジアミン、スズオフテート、テトラメチルブタンジ
アミン等の触媚、またメトキシフェノール、ハイドロキ
ノン、フェノチアジン等の熱重合禁止剤を用いることが
できる。
レンジアミン、スズオフテート、テトラメチルブタンジ
アミン等の触媚、またメトキシフェノール、ハイドロキ
ノン、フェノチアジン等の熱重合禁止剤を用いることが
できる。
(実施例)
以下本発明を次の実施例及び比較例により説明する。
1施炎上
撹拌機、温度調節器、温度計、コンデンサーを備えた1
1反応器に、2.4−トリレンジイソシアネート56.
5g、ネオペンチルグリコール16.9 gをジオキサ
ン250gに溶かし、窒素雰囲気下で溶液温度を50〜
60°Cに保ち3時間反応させた。その後、これにポリ
テトラメチレングリコール(分子量2000) 270
g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0.15g、メトキ
シフェノール0.15 g 、ジオキサン270gを加
え、窒素雰囲気下、50〜60″Cにて4時間反応させ
た。次いで同様の条件下、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート6.3gを更に加え、4時間反応させた。反応は
赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収(22
50cm−’)が消えたことを確認して終了とした。そ
の後、真空乾燥機(ヤマト科学(株)製スペースDP−
22型)によりジオキサンを除去し、固体状のオリゴマ
ーを得た。赤外線吸収スペクトルの測定の結果、330
0.29201710、1640 cm−’に特性吸収
が認められた。
1反応器に、2.4−トリレンジイソシアネート56.
5g、ネオペンチルグリコール16.9 gをジオキサ
ン250gに溶かし、窒素雰囲気下で溶液温度を50〜
60°Cに保ち3時間反応させた。その後、これにポリ
テトラメチレングリコール(分子量2000) 270
g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0.15g、メトキ
シフェノール0.15 g 、ジオキサン270gを加
え、窒素雰囲気下、50〜60″Cにて4時間反応させ
た。次いで同様の条件下、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート6.3gを更に加え、4時間反応させた。反応は
赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収(22
50cm−’)が消えたことを確認して終了とした。そ
の後、真空乾燥機(ヤマト科学(株)製スペースDP−
22型)によりジオキサンを除去し、固体状のオリゴマ
ーを得た。赤外線吸収スペクトルの測定の結果、330
0.29201710、1640 cm−’に特性吸収
が認められた。
裏脂賀1
実施例1と同じ反応器に、2.4−トリレンジイソシア
ネート94.0g、 1.4−ブタンジオール40.5
gをジオキサン250gに溶かし、窒素雰囲気下で溶液
温度を50〜60°Cに保ち3時間反応させた。
ネート94.0g、 1.4−ブタンジオール40.5
gをジオキサン250gに溶かし、窒素雰囲気下で溶液
温度を50〜60°Cに保ち3時間反応させた。
その後、これにポリテトラメチレングリコール(分子量
2000) 150 g、ジラウリル酸ジーn−ブチル
0.15g、メトキシフェノール0.15g、ジオキサ
ン150gを加え、窒素雰囲気下、50〜60°Cにて
4時間反応させた。次いで同様の条件下、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート3.5gを更に加え4時間反応さ
せた。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基
の吸収(2250cm−’ )が消えたことを確認して
終了とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除
去し、固体状のオリゴマーを得た。赤外線吸収スペクト
ルの測定の結果、3300゜2920、1710.16
40 cm−’に特性吸収が認められた。
2000) 150 g、ジラウリル酸ジーn−ブチル
0.15g、メトキシフェノール0.15g、ジオキサ
ン150gを加え、窒素雰囲気下、50〜60°Cにて
4時間反応させた。次いで同様の条件下、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート3.5gを更に加え4時間反応さ
せた。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基
の吸収(2250cm−’ )が消えたことを確認して
終了とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除
去し、固体状のオリゴマーを得た。赤外線吸収スペクト
ルの測定の結果、3300゜2920、1710.16
40 cm−’に特性吸収が認められた。
尖詣■ユ
実施例1と同じ反応器に、イソホロンジイソシアネー)
77.7 g、ネオペンチルグリコール18.1gを
ジオキサン250gに溶かし、窒素雰囲気下で溶液温度
を50〜60°Cに保ち3時間反応させた。その後、こ
れにポリカーボネートジオール(分子量2000) 2
61 g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0.15g1メ
トキシフェノール0.15 g、ジオキサン260gを
加え窒素雰囲気下、50〜60°Cにて4時間反応させ
た。次いで同様の条件下、−ヒドロキシエチルアクリレ
ートIO,Igを更に加え4時間反応させた。反応は赤
外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収(225
0cm−’)が消えたことを確認して終了とした。その
後、真空乾燥機によりジオキサンを除去し、固体状のオ
リゴマーを得た。赤外線吸収スペクトルの測定の結果、
3300.2920.1710、1640 cm−’
に特性吸収が認められた。
77.7 g、ネオペンチルグリコール18.1gを
ジオキサン250gに溶かし、窒素雰囲気下で溶液温度
を50〜60°Cに保ち3時間反応させた。その後、こ
れにポリカーボネートジオール(分子量2000) 2
61 g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0.15g1メ
トキシフェノール0.15 g、ジオキサン260gを
加え窒素雰囲気下、50〜60°Cにて4時間反応させ
た。次いで同様の条件下、−ヒドロキシエチルアクリレ
ートIO,Igを更に加え4時間反応させた。反応は赤
外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収(225
0cm−’)が消えたことを確認して終了とした。その
後、真空乾燥機によりジオキサンを除去し、固体状のオ
リゴマーを得た。赤外線吸収スペクトルの測定の結果、
3300.2920.1710、1640 cm−’
に特性吸収が認められた。
尖施拠土
実施例1と同じ反応器に、2.4−)リレンジイソシア
ネート92.7 g 、ネオペンチルグリコール50.
5 gをジオキサン400gに溶かし、窒素雰囲気下で
溶液温度を50〜60℃に保ち3時間反応させた。
ネート92.7 g 、ネオペンチルグリコール50.
5 gをジオキサン400gに溶かし、窒素雰囲気下で
溶液温度を50〜60℃に保ち3時間反応させた。
その後、これにポリテトラメチレングリコール(分子量
2000) 52g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0.
15 g 、メトキシフェノール0.15 g、ジオキ
サン50gを加え窒素雰囲気下、50〜60°Cにて4
時間反応させた。次いで同様の条件下、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート3.0 gを更に加え4時間反応さ
せた。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基
の吸収(2250cm−’)が消えたことを確認して終
了とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除去
し、固体状のオリゴマーを得た。
2000) 52g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0.
15 g 、メトキシフェノール0.15 g、ジオキ
サン50gを加え窒素雰囲気下、50〜60°Cにて4
時間反応させた。次いで同様の条件下、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート3.0 gを更に加え4時間反応さ
せた。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基
の吸収(2250cm−’)が消えたことを確認して終
了とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除去
し、固体状のオリゴマーを得た。
赤外線吸収スペクトルの測定の結果、3300.292
0゜1710、1640cm−’に特性吸収が認メラレ
タ。
0゜1710、1640cm−’に特性吸収が認メラレ
タ。
尖隻五工
実施例1と同じ反応器に、2.4−1−リレンジイソシ
アネート103.1 g、ネオペンチルグリコール51
.2gをジオキサン500gに熔かし、窒素雰囲気下で
溶液温度を50〜60°Cに保ち3時間反応させた。
アネート103.1 g、ネオペンチルグリコール51
.2gをジオキサン500gに熔かし、窒素雰囲気下で
溶液温度を50〜60°Cに保ち3時間反応させた。
その後、これにポリカーボネートジオール(分子量20
00) 43.1g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0、
15 g 、メトキシフェノール0.15 g、ジオキ
サン43gを加え窒素雰囲気下、50〜60°Cにて4
時間反応させた。次いで同様の条件下、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート2.5gを更に加え4時間反応させ
た。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の
吸収(2250cm−’)が消えたことを確認して終了
とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除去し
、固体状のオリゴマーを得た。
00) 43.1g、ジラウリル酸ジーn−ブチル0、
15 g 、メトキシフェノール0.15 g、ジオキ
サン43gを加え窒素雰囲気下、50〜60°Cにて4
時間反応させた。次いで同様の条件下、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート2.5gを更に加え4時間反応させ
た。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の
吸収(2250cm−’)が消えたことを確認して終了
とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除去し
、固体状のオリゴマーを得た。
赤外線吸収スペクトルの測定の結果、3300.292
0゜1710、1640 cm−’に特性吸収が認め
らレタ。
0゜1710、1640 cm−’に特性吸収が認め
らレタ。
止較貫土
実施例1と同じ反応器に、2.4−1−リレンジイソシ
アネート32.4g、ポリテトラメチレングリコール(
分子量2000) 310 g、ジラウリル酸ジーn−
ブチル0.15 g、メトキシフェノール0.15 g
をジオキサン500 gに溶かし、窒素雰囲気下で50
〜60°Cに保ち5時間反応させた。その後同様の条件
下で、これに2−ヒドロキシエチルアクリレート7.2
gを加え4時間反応させた0反応は赤外線吸収スペクト
ルでイソシアネート基の吸収(2250cm−’ )が
消えたことを確認して終了とした。その後、真空乾燥機
によりジオキサンを除去し、固体状のオリゴマーを得た
。赤外線吸収スペクトルの測定の結果、3300.29
20.1710.1640cm−’に特性吸収が認めら
れた。
アネート32.4g、ポリテトラメチレングリコール(
分子量2000) 310 g、ジラウリル酸ジーn−
ブチル0.15 g、メトキシフェノール0.15 g
をジオキサン500 gに溶かし、窒素雰囲気下で50
〜60°Cに保ち5時間反応させた。その後同様の条件
下で、これに2−ヒドロキシエチルアクリレート7.2
gを加え4時間反応させた0反応は赤外線吸収スペクト
ルでイソシアネート基の吸収(2250cm−’ )が
消えたことを確認して終了とした。その後、真空乾燥機
によりジオキサンを除去し、固体状のオリゴマーを得た
。赤外線吸収スペクトルの測定の結果、3300.29
20.1710.1640cm−’に特性吸収が認めら
れた。
ル較拠又
実施例1と同じ反応器に、2.4−)リレンジイソシア
ネート32.4g、2−ヒドロキシエチルアクリレート
23.2gをジオキサン250gに溶かし、窒素雰囲気
下で溶液温度50〜60°Cに保ち2時間反応させた。
ネート32.4g、2−ヒドロキシエチルアクリレート
23.2gをジオキサン250gに溶かし、窒素雰囲気
下で溶液温度50〜60°Cに保ち2時間反応させた。
その後、同様の条件下で、これにポリテトラメチレング
リコール(分子量2000) 200 g、ジラウリル
酸ジーn−ブチル0.15g、メトキシフェノール0.
15gをジオキサン200 gに溶かし、4時間反応さ
せた。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基
の吸収(2250cm−’ )が消えたことを確認して
終了とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除
去し、固体状のオリゴマーを得た。赤外線吸収スペクト
ルの測定の結果、3300 。
リコール(分子量2000) 200 g、ジラウリル
酸ジーn−ブチル0.15g、メトキシフェノール0.
15gをジオキサン200 gに溶かし、4時間反応さ
せた。反応は赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基
の吸収(2250cm−’ )が消えたことを確認して
終了とした。その後、真空乾燥機によりジオキサンを除
去し、固体状のオリゴマーを得た。赤外線吸収スペクト
ルの測定の結果、3300 。
2920、1710.1640cm−’に特性吸収が認
められた。
められた。
実施例1.2.3及び比較例1.2で得られたオリゴマ
ーを用いて第1表に示す配合割合で溶液をつくり、この
溶液をガラス板に塗布してテトラヒドロフランを蒸発さ
せ、厚み約500μ霧の皮膜を作製した。その皮膜を、
高圧水銀灯((株)オーク製作新製Q RM 、 20
77 A ) 80 w / c+aを用いて高さ15
cm、 6m/分のコンベアスピードで照射を施して硬
化させ、数平均分子量、感度、硬度の物性及び引張試験
を行ない、その結果を第2表に示した。なお、試験方法
については、次の通りである。
ーを用いて第1表に示す配合割合で溶液をつくり、この
溶液をガラス板に塗布してテトラヒドロフランを蒸発さ
せ、厚み約500μ霧の皮膜を作製した。その皮膜を、
高圧水銀灯((株)オーク製作新製Q RM 、 20
77 A ) 80 w / c+aを用いて高さ15
cm、 6m/分のコンベアスピードで照射を施して硬
化させ、数平均分子量、感度、硬度の物性及び引張試験
を行ない、その結果を第2表に示した。なお、試験方法
については、次の通りである。
(1)数平均分子量Mn
高速液体クロマトグラフィ/ G P C(Water
s製)にて測定した。
s製)にて測定した。
(2)感 度
グレースケール法により測定し、具体的には樹脂の10
%テトラヒドロフラン溶液を銅版上に塗布し、室温で2
時間乾燥した後(皮膜厚み50μm)、コダックステッ
プタブレットNO,2を重ねて、これに高圧水銀灯(8
0w/cm)を用いて、高さ15cm、6m/分のコン
ベアスピードで照射を施し、イソホロンで2分間現像し
て不溶化段数を求めた。
%テトラヒドロフラン溶液を銅版上に塗布し、室温で2
時間乾燥した後(皮膜厚み50μm)、コダックステッ
プタブレットNO,2を重ねて、これに高圧水銀灯(8
0w/cm)を用いて、高さ15cm、6m/分のコン
ベアスピードで照射を施し、イソホロンで2分間現像し
て不溶化段数を求めた。
(3)硬 度
JIS K 6301に準拠して硬度計A型で測定
した。
した。
(4)引張試験(機械的性質)
J r S K 7113に準拠して引張試験を行な
うことにより引張強度、伸び率、ヤング率、引裂強度を
測定(引張速度100 mm7分)した。
うことにより引張強度、伸び率、ヤング率、引裂強度を
測定(引張速度100 mm7分)した。
(発明の効果)
本発明の放射線硬化型オリゴマーは、引張強度が高く伸
長率の大きい柔軟性の良好な特性を有し、これを塗料、
インキ、コーティング剤、接着剤、放射線硬化型成形物
等の一原料として使用した場合、硬化速度が速く、硬化
して得られる樹脂皮膜は機械的強度が高くかつ伸びが大
きい。特に柔軟性を有する被着体の場合において、その
伸縮や屈曲に対する追従性、基材への密着性が優れ、表
面に傷がつきにく(、強靭な皮膜を与えることができる
ため、実用面では使用対象物及び使用条件に制限される
ことなく広範な分野に用途を有するという効果が得られ
る。
長率の大きい柔軟性の良好な特性を有し、これを塗料、
インキ、コーティング剤、接着剤、放射線硬化型成形物
等の一原料として使用した場合、硬化速度が速く、硬化
して得られる樹脂皮膜は機械的強度が高くかつ伸びが大
きい。特に柔軟性を有する被着体の場合において、その
伸縮や屈曲に対する追従性、基材への密着性が優れ、表
面に傷がつきにく(、強靭な皮膜を与えることができる
ため、実用面では使用対象物及び使用条件に制限される
ことなく広範な分野に用途を有するという効果が得られ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中のRは炭素数2〜8個のアルキレン基、R_1は
HまたはCH_3基、R_2はジイソシアネート残基、
R_3は2価アルコールの水酸基を除いた残基、Pはポ
リオールの水酸基を除いた残部、lは1〜4の整数、m
は1≦m≦10(但し、ポリオールがポリブタジエン系
ポリオールの場合にはm=1を除く)、nは1〜12の
整数を示す〕で表されることを特徴とする放射線硬化型
オリゴマー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184330A JPH0477515A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 放射線硬化型オリゴマー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184330A JPH0477515A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 放射線硬化型オリゴマー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0477515A true JPH0477515A (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=16151432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2184330A Pending JPH0477515A (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 放射線硬化型オリゴマー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0477515A (ja) |
Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
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-
1990
- 1990-07-13 JP JP2184330A patent/JPH0477515A/ja active Pending
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