JPH0473825A - 多層リードフレームおよびその製造方法 - Google Patents

多層リードフレームおよびその製造方法

Info

Publication number
JPH0473825A
JPH0473825A JP18499390A JP18499390A JPH0473825A JP H0473825 A JPH0473825 A JP H0473825A JP 18499390 A JP18499390 A JP 18499390A JP 18499390 A JP18499390 A JP 18499390A JP H0473825 A JPH0473825 A JP H0473825A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating sheet
insulating
lead frame
plane
ground plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP18499390A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2828326B2 (ja
Inventor
Mitsuharu Shimizu
清水 満晴
Koichi Totani
公一 戸谷
Yoshiki Takeda
武田 吉樹
Yukinori Sakumoto
作本 征則
Shigeyuki Yokoyama
茂幸 横山
Akihiro Shibuya
渋谷 章広
Atsushi Koshimura
淳 越村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd, Tomoegawa Paper Co Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority to JP2184993A priority Critical patent/JP2828326B2/ja
Publication of JPH0473825A publication Critical patent/JPH0473825A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2828326B2 publication Critical patent/JP2828326B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Insulating Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は絶縁シート、これを用いた多層リードフレーム
およびその製造方法に関する。
(従来の技術) 高速で消費電力も2〜3Wと大きいマイクロプロセッサ
やゲート・アレイなどの半導体素子を搭載するパッケー
ジは従来セラミック類のピン・グリッド・アレイ(PG
A)タイプのものしか使えなかったが、近年これに代わ
り得る樹脂封止型パンケージが出現した。
この樹脂封止型パッケージは、第1図に示すような多層
リードフレーム10を用いる。この多層リードフレーム
10は、ダイパッドのないリードフレーム12(信号層
)と、この信号層12の窓より少し小さめの窓があいた
枠状の電源プレーン14と、接地プレーン16の3層か
らなり、各層を枠状の絶縁シート18a、18bを介し
て積層している。絶縁シート18a、18bは、ポリイ
ミドフィルムの両面に接着剤を塗布したものを用いてい
る。
上記の多層リードフレーム10によれば、パッケージ内
に信号層12と別に面積の大きな電源プレーン14と接
地プレーン16をもっているため、信号層に対してはマ
イクロストリップ・ラインとしてクロストークを抑えら
れるうえ、電源系に対してはインダクタンスが低くなる
ため、また電源プレーン14と接地プレーン16との間
に絶縁シートを介してデカップリング・コンデンサが形
成されるため、バウンスとよばれる一種の電源雑音を小
さくできる。半導体素子のスイッチングに伴って生ずる
電源系、接地系の電位変動を小さくできる。また、接地
プレーンI6を銅系の合金で形成することにより、放熱
性を高められ、熱抵抗を小さくすることができる。さら
にはセラミックパッケージに比べて大幅なコストダウン
が実現できるなどの多大なメリットを有する。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、昨今のデバイスの益々の高速化により、
入出カバソファの同時スイッチングによる電源系、接地
系に生ずる電圧降下が大きくなっており、誤動作するお
それが高くなっている。
すなわち、上記の電圧降下(E = Ldi/dt)は
、高速化による急激な立ち上がりによる時間当りの電流
変化分d i / d tが大きくなってきていること
から、自己インダクタンスを低下させただけでVt4圧
障下を低く抑えられなくなっているのである。
この電圧降下を低減するためには、電源ラインと接地ラ
イン間にコンデンサを介装すればよいが、従来はこのコ
ンデンサはパッケージ外に設けていたので、パッケージ
内のリードフレームパターンによる電圧鋒下分は避ける
ことができなかった。
パッケージ内の前記電源プレーンI4と接地プレーン1
6との間に絶縁シートを介して形成されるデカップリン
グ・コンデンサも容量が100pF程度の小容量のもの
であるので、高速化による電圧降下は避けられない事情
にある。
そこで本発明は上記問題点を解消すべくなされたもので
あり、その目的とするところは、より高速化に対応しう
る多層リードフレーム、その製造方法およびこれに用い
て好適な絶縁シートを提供するにある。
(課題を解決するための手段) 本発明の絶縁シートは、第2図に示すとおり絶縁性樹脂
層23の単一層からなり、該絶縁性樹脂層23は絶縁性
樹脂21を主成分とし、酸化タンタル粉末またはチタン
酸バリウム粉末22が分散された構成、もしくは第3図
に示すとおり耐熱性フィルム31の両面に絶縁性樹脂層
32a、32bを設けてなり、該絶縁性樹脂層は絶縁性
樹脂33を主成分とし、両面の絶縁性樹脂層の少なくと
も一方に酸化タンタル粉末またはチタン酸バリウム粉末
34が分散された構成からなる。
上記絶縁性樹脂層をBステージ化しておくと好適である
さらに本発明に係る多層リードフレームによれば、信号
層、電源プレーン、接地プレーンが絶縁シートを介して
積層された多層リードフレームにおいて、前記電源プレ
ーンと接地ブレーンとの間の絶縁シートが、上記構成の
絶縁シートであることを特徴としている。
多層リードフレームの製法としては、上記Bステージ化
した絶縁シートを用い、これを電源プレーンと接地プレ
ーンとの間に介在させてキュアーすることにより両者を
接着すると好適である。
(作用) 酸化タンタル粉末およびチタン酸バリウム粉末は優れた
誘電体であり、この酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
リウム粉末を絶縁性樹脂層中に分散した絶縁シートは高
誘電率のものとなる。
この高誘電率を有する絶縁シートを多層リードフレーム
の電源プレーンと接地プレーンとを接着する絶縁シート
として用いることにより、電源プレーンと接地ブレーン
との間、すなわち樹脂封止型半導体装置に形成した際、
パッケージ内となる部位に高容量のデカップリング・コ
ンデンサを形成することができ、リードフレームのパン
ケージ内パターンによる電圧降下を低減することができ
、より高速化に対応できるパッケージを提供できる。
上記絶縁シートはBステージ化してお(ことにより、電
源プレーンと接地ブレーンとを接着する際の接着剤をも
兼用できるので好都合である。
(実施例) 以下では本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて詳
細に説明する。
本発明の絶縁シートは、第2図に示すとおり絶縁性樹脂
層23の単一層からなり、該絶縁性樹脂層23は絶縁性
樹脂21を主成分とし、酸化タンタル粉末またはチタン
酸バリウム粉末22が分散されてなる。
絶縁性樹脂21には、NBR系接着剤、ポリエステル系
接着剤、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤を用い
ることができる。接着剤が硬化型の場合にはBステージ
の半硬化状態になるまで乾燥すればよい。
絶縁シートの厚さは5〜50μm程度が好適である。
絶縁シートを作成するには、絶縁性樹脂中に酸化タンタ
ル粉末またはチタン酸バリウム粉末を分散させた分散物
を離型性シート上に溶融混練して押し出し、または塗布
乾燥して絶縁性樹脂層を形成させ、しかるのち該離型性
シートから絶縁性樹脂層を剥離して該絶縁性樹脂層の単
一層からなる本発明の絶縁シートを得る。
また本発明の絶縁シートは第3図に示すように、耐熱性
フィルム31の両面に絶縁性樹脂層32a、32bを設
けてなり、該絶縁性樹脂層は絶縁性樹脂33を主成分と
し、両面の絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸化タンタ
ル粉末またはチタン酸バリウム粉末34が分散されてな
る。
耐熱性フィルム31には、厚さ5〜300μm、好まし
くは12.5〜150μmの例えば、ポリイミド、ホリ
エーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリパラバン酸、ポリエチレン
テレフタレート等の耐熱性フィルムや、エポキシ樹脂−
ガラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−ガラスクロ
ス等の複合耐熱フィルムを使用できる。
絶縁性樹脂33には、NBR系接着剤、ポリエステル系
接着剤、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤を用い
ることができる。接着剤が硬化型の場合には、耐熱性フ
ィルム31上に塗布した後、Bステージの半硬化状態に
なるまで乾燥すればよい。絶縁性樹脂層は、膜厚1〜1
50μm、好ましくは5〜50umになるよう形成する
また本発明に係る多層リードフレームlOは、第1図の
絶縁シー)18a、18bのうち、電源プレーン14と
接地プレーン16の間の絶縁シート18bに上記の絶縁
シートを用いることを特徴とする。
実施例では、絶縁性樹脂として帝国化学産業製アミド系
接着剤ティサンレジン5A−70Lを用い、これに対し
て平均粒径3μmの酸化タンタル粉末を約15wt%分
散させた、厚さ約30μmの絶縁シートを用いた。
上記のように絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉末を分散
させた絶縁シートの誘電率は全体として約15.0と高
い誘電率のものとなった。従来のポリイミドフィルムを
主体とする絶縁シートの誘電率は3.5程度と低いもの
でしかなかった。
なお誘電率の測定は、室温にて1キロヘルツの周波数で
行った。
上記実施例で得た絶縁シートを多層リードフレーム10
の絶縁シート18bに用いたところ、電源プレーン14
と接地プレーン16との間に高容量のデカップリング・
コンデンサが形成され、これによりパッケージ内のリー
ドフレームパターンによる電圧降下分を上記のコンデン
サにより補充でき、デバイスの高速化に対処できるよう
になった。
なお、信号層12と電源プレーン14との間の絶縁性シ
ー)18aは外部信号線とのインピーダンスのマツチン
グが図れればよいので、従来のポリイミドフィルムの両
面に接着剤を塗布した絶縁シートをそのまま用いること
ができる。
次に製造方法についての実施例を説明する。
■ バインダーとしてアミド系接着剤「ティサンレジン
5G−70LJ(帝国化学産業株式会社製)を用い、こ
れに溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を添加し
、固形分率20%となるようにした。
■ 添加用フィラーとして平均粒径3μmの酸化タンタ
ル粉末を用意し、上記■で調整した接着剤溶液100重
量部に対し、上記フィラーを3重量部添加し、サンドミ
ルにて十分に分散させ、絶縁性樹脂層用塗液を作成した
■ 表面にシリコン離型処理を施したポリエチレンテレ
フタレート(PET)フィルム上に、乾燥後の絶縁性樹
脂層の厚さが約30μmとなるように上記で調整したフ
ィラー入り絶縁性樹脂層用塗液を塗布し、熱風循環型オ
ーブン中で150°Cにて5分間乾燥して絶縁性樹脂層
をBステージ化した。
Bステージとは、ゲル状、すなわち半固体状態をいう。
ここではM E Kが完全には飛散せず、絶縁性樹脂層
の粘度の高い半溶液状態をいう。
なお、バインダーとして熱硬化性樹脂、例えばポリイミ
ド系樹脂を用いた場合には、熱硬化反応が完全には完結
しない段階をいう。したがって再加熱すると一旦溶融し
て接着性を示し、次いで硬化する。
■ 上記■で作成したシートからPETを剥離して絶縁
性樹脂層の単一層からなる本発明の絶縁シートを得た。
多層リードフレーム10を形成するには、上記のように
して得た本発明による絶縁シートを電源プレーン14と
接地プレーン16との間に介在させて加熱、加圧して、
該絶縁シートを熔融させ、バインダーが熱可塑性樹脂の
場合には冷却することにより、またバインダーが熱硬化
性樹脂の場合には熱硬化させることにより両者を接着す
る。次いで、絶縁シート18aにより、信号層12を電
源プレーン14上に積層することによって多層リードフ
レームを得る。
なお、両絶縁シート、すなわち18aおよび本発明によ
る絶縁シートを共に8ステージ化した熱硬化性樹脂製の
ものを用いることによって、絶縁シー)’ 18’ a
、本発明による絶縁シートを各々介在させて、信号層1
2、電源プレーン14、接地ブレーン16を同時に一工
程で熱圧着することもできる。
なお上記の本発明による絶縁シートは多層リードフレー
ムの接着シートの他、他の電子部品における絶縁用のシ
ートとして用いることができることはもちろんである。
以上、本発明の好適な実施例について種々述べて来たが
、本発明は上述の実施例に限定されるのではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはも
ちろんである。
(発明の効果) 酸化タンタル粉末およびチタン酸バリウム粉末は優れた
誘電体であり、この酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
リウム粉末を絶縁性樹脂中に分散した絶縁シートは高誘
電率のものとなる。
この高誘電率を有する絶縁シートを、多層リードフレー
ムの電源プレーンと接地プレーンとを接着する絶縁シー
トとして用いることにより、電源プレーンと接地プレー
ンとの間、すなわち樹脂封止型半導体装置に形成した際
、パッケージ内となる部位に高容量のデカップリング・
コンデンサを形成することができ、リードフレームのパ
ッケージ内パターンでの電圧降下を低減することができ
、より高速化に対応できるパッケージを提供できる。
上記絶縁シートはBステージ化しておくことにより、電
源プレーンと接地プレーンとを接着する際の接着剤をも
兼用できるので好都合である。
【図面の簡単な説明】
第1図は多層リードフレームの組立図を示す。 第2図および第3図は本発明の絶縁シートの実施例を示
す断面説明図を示す。 10・・・多層リードフレーム、 12・・・信号層、  14・・・電源プレーン、16
・・・接地プレーン、 18a、18b・・・絶縁シート、 21・・・絶縁性樹脂、 22・・・酸化タンタル粉末
またはチタン酸バリウム粉末、 23・・・絶縁性樹脂層(単一層)、 31・・・耐熱性フィルム、 32a、32b・・・絶縁性樹脂層(積層)、33・・
・絶縁性樹脂、 34・・・酸化タンタル粉末またはチ
タン酸バリウム粉末。 第 図 第  2 図 第   3 ゛に1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉末またはチタン酸
    バリウム粉末が分散されていることを特徴とする絶縁シ
    ート。 2、耐熱性フィルムの両面に絶縁性樹脂層が形成され、
    該絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸化タンタル粉末ま
    たはチタン酸バリウム粉末が分散されていることを特徴
    とする絶縁シート。 3、前記絶縁性樹脂層がBステージ化していることを特
    徴とする請求項1または2記載の絶縁シート。 4、信号層、電源プレーン、接地プレーンが絶縁シート
    を介して積層された多層リードフレームにおいて、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートが
    、絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
    リウム粉末が分散された絶縁シートであることを特徴と
    する多層リードフレーム。 5、信号層、電源プレーン、接地プレーンが絶縁シート
    を介して積層された多層リードフレームにおいて、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートが
    、耐熱性フィルムの両面に絶縁性樹脂層が形成され、該
    絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸化タンタル粉末また
    はチタン酸バリウム粉末が分散された絶縁シートである
    ことを特徴とする多層リードフレーム。 6、信号層、電源プレーン、接地プレーンを絶縁シート
    を介して積層する多層リードフレームの製造方法におい
    て、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートに
    、Bステージ化された絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉
    末またはチタン酸バリウム粉末が分散された絶縁性シー
    トを用い、この絶縁シートを電源プレーンと接地プレー
    ンとの間に介在させてキュアーすることにより両者を接
    着することを特徴とする多層リードフレームの製造方法
    。 7、信号層、電源プレーン、接地プレーンを絶縁シート
    を介して積層する多層リードフレームの製造方法におい
    て、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートに
    、耐熱性フィルムの両面にBステージ化された絶縁性樹
    脂層が形成され、該絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸
    化タンタル粉末またはチタン酸バリウム粉末が分散され
    た絶縁シートを用い、この絶縁シートを電源プレーンと
    接地プレーンとの間に介在させてキュアーすることによ
    り両者を接着することを特徴とする多層リードフレーム
    の製造方法。
JP2184993A 1990-07-12 1990-07-12 多層リードフレームおよびその製造方法 Expired - Lifetime JP2828326B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2184993A JP2828326B2 (ja) 1990-07-12 1990-07-12 多層リードフレームおよびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2184993A JP2828326B2 (ja) 1990-07-12 1990-07-12 多層リードフレームおよびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0473825A true JPH0473825A (ja) 1992-03-09
JP2828326B2 JP2828326B2 (ja) 1998-11-25

Family

ID=16162913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2184993A Expired - Lifetime JP2828326B2 (ja) 1990-07-12 1990-07-12 多層リードフレームおよびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2828326B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06283655A (ja) * 1993-03-26 1994-10-07 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージ
EP0626725A3 (en) * 1993-05-24 1995-04-19 Shinko Electric Ind Co Multilayer conductive frame for a semiconductor device.
EP0645810A4 (en) * 1993-04-06 1997-04-16 Tokuyama Corp SEMICONDUCTOR CHIP PACKAGE.
JP2003017979A (ja) * 2001-06-28 2003-01-17 Nagase Chemtex Corp 弾性表面波デバイスおよびその製法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06283655A (ja) * 1993-03-26 1994-10-07 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージ
EP0645810A4 (en) * 1993-04-06 1997-04-16 Tokuyama Corp SEMICONDUCTOR CHIP PACKAGE.
EP0626725A3 (en) * 1993-05-24 1995-04-19 Shinko Electric Ind Co Multilayer conductive frame for a semiconductor device.
US5576577A (en) * 1993-05-24 1996-11-19 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Multi-layer lead-frame for a semiconductor device
JP2003017979A (ja) * 2001-06-28 2003-01-17 Nagase Chemtex Corp 弾性表面波デバイスおよびその製法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2828326B2 (ja) 1998-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102006004015B4 (de) Isolierender Flächenkörper und den isolierenden Flächenkörper aufweisendes Leistungsmodul
US7388275B2 (en) Electronic package with integrated capacitor
JP2612529B2 (ja) 多層プリント配線板の製造方法
CN101720165B (zh) 组件内置布线基板及其制造方法
JP3019541B2 (ja) コンデンサ内蔵型配線基板およびその製造方法
JP3236818B2 (ja) 素子内蔵多層配線基板の製造方法
CN100429768C (zh) 元件搭载基板以及使用该基板的半导体装置
JPH1056249A (ja) 埋込み減結合容量を有するプリント回路基板及びその作製方法
WO2021083367A1 (zh) 线路板及其制作方法
US6618238B2 (en) Parallel plate buried capacitor
CN114479322A (zh) 氟素树脂预浸材及应用其的电路基板
JP3199664B2 (ja) 多層配線基板の製造方法
JPH0473825A (ja) 多層リードフレームおよびその製造方法
JP2001288333A (ja) エポキシ樹脂複合材料及びそれを用いた装置
JPH0368149A (ja) Icパッケージ
JPH10154777A (ja) 半導体装置
US20020048137A1 (en) Two-layered embedded capacitor
JPH1065047A (ja) 半導体素子搭載用パッケージの製造方法
CN100429767C (zh) 元件搭载基板
JPH05283562A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH09237972A (ja) 多層配線基板
TW573444B (en) Substrate having organic and inorganic functional package
CN100433306C (zh) 元件搭载基板以及使用该基板的半导体装置
JPS605589A (ja) 高熱伝導性金属ベ−スプリント基板
JP2546125B2 (ja) 半導体装置