JPH0473825A - 多層リードフレームおよびその製造方法 - Google Patents
多層リードフレームおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0473825A JPH0473825A JP18499390A JP18499390A JPH0473825A JP H0473825 A JPH0473825 A JP H0473825A JP 18499390 A JP18499390 A JP 18499390A JP 18499390 A JP18499390 A JP 18499390A JP H0473825 A JPH0473825 A JP H0473825A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating sheet
- insulating
- lead frame
- plane
- ground plane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 45
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 39
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 35
- 239000002356 single layer Substances 0.000 abstract description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 16
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 7
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Insulating Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は絶縁シート、これを用いた多層リードフレーム
およびその製造方法に関する。
およびその製造方法に関する。
(従来の技術)
高速で消費電力も2〜3Wと大きいマイクロプロセッサ
やゲート・アレイなどの半導体素子を搭載するパッケー
ジは従来セラミック類のピン・グリッド・アレイ(PG
A)タイプのものしか使えなかったが、近年これに代わ
り得る樹脂封止型パンケージが出現した。
やゲート・アレイなどの半導体素子を搭載するパッケー
ジは従来セラミック類のピン・グリッド・アレイ(PG
A)タイプのものしか使えなかったが、近年これに代わ
り得る樹脂封止型パンケージが出現した。
この樹脂封止型パッケージは、第1図に示すような多層
リードフレーム10を用いる。この多層リードフレーム
10は、ダイパッドのないリードフレーム12(信号層
)と、この信号層12の窓より少し小さめの窓があいた
枠状の電源プレーン14と、接地プレーン16の3層か
らなり、各層を枠状の絶縁シート18a、18bを介し
て積層している。絶縁シート18a、18bは、ポリイ
ミドフィルムの両面に接着剤を塗布したものを用いてい
る。
リードフレーム10を用いる。この多層リードフレーム
10は、ダイパッドのないリードフレーム12(信号層
)と、この信号層12の窓より少し小さめの窓があいた
枠状の電源プレーン14と、接地プレーン16の3層か
らなり、各層を枠状の絶縁シート18a、18bを介し
て積層している。絶縁シート18a、18bは、ポリイ
ミドフィルムの両面に接着剤を塗布したものを用いてい
る。
上記の多層リードフレーム10によれば、パッケージ内
に信号層12と別に面積の大きな電源プレーン14と接
地プレーン16をもっているため、信号層に対してはマ
イクロストリップ・ラインとしてクロストークを抑えら
れるうえ、電源系に対してはインダクタンスが低くなる
ため、また電源プレーン14と接地プレーン16との間
に絶縁シートを介してデカップリング・コンデンサが形
成されるため、バウンスとよばれる一種の電源雑音を小
さくできる。半導体素子のスイッチングに伴って生ずる
電源系、接地系の電位変動を小さくできる。また、接地
プレーンI6を銅系の合金で形成することにより、放熱
性を高められ、熱抵抗を小さくすることができる。さら
にはセラミックパッケージに比べて大幅なコストダウン
が実現できるなどの多大なメリットを有する。
に信号層12と別に面積の大きな電源プレーン14と接
地プレーン16をもっているため、信号層に対してはマ
イクロストリップ・ラインとしてクロストークを抑えら
れるうえ、電源系に対してはインダクタンスが低くなる
ため、また電源プレーン14と接地プレーン16との間
に絶縁シートを介してデカップリング・コンデンサが形
成されるため、バウンスとよばれる一種の電源雑音を小
さくできる。半導体素子のスイッチングに伴って生ずる
電源系、接地系の電位変動を小さくできる。また、接地
プレーンI6を銅系の合金で形成することにより、放熱
性を高められ、熱抵抗を小さくすることができる。さら
にはセラミックパッケージに比べて大幅なコストダウン
が実現できるなどの多大なメリットを有する。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、昨今のデバイスの益々の高速化により、
入出カバソファの同時スイッチングによる電源系、接地
系に生ずる電圧降下が大きくなっており、誤動作するお
それが高くなっている。
入出カバソファの同時スイッチングによる電源系、接地
系に生ずる電圧降下が大きくなっており、誤動作するお
それが高くなっている。
すなわち、上記の電圧降下(E = Ldi/dt)は
、高速化による急激な立ち上がりによる時間当りの電流
変化分d i / d tが大きくなってきていること
から、自己インダクタンスを低下させただけでVt4圧
障下を低く抑えられなくなっているのである。
、高速化による急激な立ち上がりによる時間当りの電流
変化分d i / d tが大きくなってきていること
から、自己インダクタンスを低下させただけでVt4圧
障下を低く抑えられなくなっているのである。
この電圧降下を低減するためには、電源ラインと接地ラ
イン間にコンデンサを介装すればよいが、従来はこのコ
ンデンサはパッケージ外に設けていたので、パッケージ
内のリードフレームパターンによる電圧鋒下分は避ける
ことができなかった。
イン間にコンデンサを介装すればよいが、従来はこのコ
ンデンサはパッケージ外に設けていたので、パッケージ
内のリードフレームパターンによる電圧鋒下分は避ける
ことができなかった。
パッケージ内の前記電源プレーンI4と接地プレーン1
6との間に絶縁シートを介して形成されるデカップリン
グ・コンデンサも容量が100pF程度の小容量のもの
であるので、高速化による電圧降下は避けられない事情
にある。
6との間に絶縁シートを介して形成されるデカップリン
グ・コンデンサも容量が100pF程度の小容量のもの
であるので、高速化による電圧降下は避けられない事情
にある。
そこで本発明は上記問題点を解消すべくなされたもので
あり、その目的とするところは、より高速化に対応しう
る多層リードフレーム、その製造方法およびこれに用い
て好適な絶縁シートを提供するにある。
あり、その目的とするところは、より高速化に対応しう
る多層リードフレーム、その製造方法およびこれに用い
て好適な絶縁シートを提供するにある。
(課題を解決するための手段)
本発明の絶縁シートは、第2図に示すとおり絶縁性樹脂
層23の単一層からなり、該絶縁性樹脂層23は絶縁性
樹脂21を主成分とし、酸化タンタル粉末またはチタン
酸バリウム粉末22が分散された構成、もしくは第3図
に示すとおり耐熱性フィルム31の両面に絶縁性樹脂層
32a、32bを設けてなり、該絶縁性樹脂層は絶縁性
樹脂33を主成分とし、両面の絶縁性樹脂層の少なくと
も一方に酸化タンタル粉末またはチタン酸バリウム粉末
34が分散された構成からなる。
層23の単一層からなり、該絶縁性樹脂層23は絶縁性
樹脂21を主成分とし、酸化タンタル粉末またはチタン
酸バリウム粉末22が分散された構成、もしくは第3図
に示すとおり耐熱性フィルム31の両面に絶縁性樹脂層
32a、32bを設けてなり、該絶縁性樹脂層は絶縁性
樹脂33を主成分とし、両面の絶縁性樹脂層の少なくと
も一方に酸化タンタル粉末またはチタン酸バリウム粉末
34が分散された構成からなる。
上記絶縁性樹脂層をBステージ化しておくと好適である
。
。
さらに本発明に係る多層リードフレームによれば、信号
層、電源プレーン、接地プレーンが絶縁シートを介して
積層された多層リードフレームにおいて、前記電源プレ
ーンと接地ブレーンとの間の絶縁シートが、上記構成の
絶縁シートであることを特徴としている。
層、電源プレーン、接地プレーンが絶縁シートを介して
積層された多層リードフレームにおいて、前記電源プレ
ーンと接地ブレーンとの間の絶縁シートが、上記構成の
絶縁シートであることを特徴としている。
多層リードフレームの製法としては、上記Bステージ化
した絶縁シートを用い、これを電源プレーンと接地プレ
ーンとの間に介在させてキュアーすることにより両者を
接着すると好適である。
した絶縁シートを用い、これを電源プレーンと接地プレ
ーンとの間に介在させてキュアーすることにより両者を
接着すると好適である。
(作用)
酸化タンタル粉末およびチタン酸バリウム粉末は優れた
誘電体であり、この酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
リウム粉末を絶縁性樹脂層中に分散した絶縁シートは高
誘電率のものとなる。
誘電体であり、この酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
リウム粉末を絶縁性樹脂層中に分散した絶縁シートは高
誘電率のものとなる。
この高誘電率を有する絶縁シートを多層リードフレーム
の電源プレーンと接地プレーンとを接着する絶縁シート
として用いることにより、電源プレーンと接地ブレーン
との間、すなわち樹脂封止型半導体装置に形成した際、
パッケージ内となる部位に高容量のデカップリング・コ
ンデンサを形成することができ、リードフレームのパン
ケージ内パターンによる電圧降下を低減することができ
、より高速化に対応できるパッケージを提供できる。
の電源プレーンと接地プレーンとを接着する絶縁シート
として用いることにより、電源プレーンと接地ブレーン
との間、すなわち樹脂封止型半導体装置に形成した際、
パッケージ内となる部位に高容量のデカップリング・コ
ンデンサを形成することができ、リードフレームのパン
ケージ内パターンによる電圧降下を低減することができ
、より高速化に対応できるパッケージを提供できる。
上記絶縁シートはBステージ化してお(ことにより、電
源プレーンと接地ブレーンとを接着する際の接着剤をも
兼用できるので好都合である。
源プレーンと接地ブレーンとを接着する際の接着剤をも
兼用できるので好都合である。
(実施例)
以下では本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
本発明の絶縁シートは、第2図に示すとおり絶縁性樹脂
層23の単一層からなり、該絶縁性樹脂層23は絶縁性
樹脂21を主成分とし、酸化タンタル粉末またはチタン
酸バリウム粉末22が分散されてなる。
層23の単一層からなり、該絶縁性樹脂層23は絶縁性
樹脂21を主成分とし、酸化タンタル粉末またはチタン
酸バリウム粉末22が分散されてなる。
絶縁性樹脂21には、NBR系接着剤、ポリエステル系
接着剤、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤を用い
ることができる。接着剤が硬化型の場合にはBステージ
の半硬化状態になるまで乾燥すればよい。
接着剤、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤を用い
ることができる。接着剤が硬化型の場合にはBステージ
の半硬化状態になるまで乾燥すればよい。
絶縁シートの厚さは5〜50μm程度が好適である。
絶縁シートを作成するには、絶縁性樹脂中に酸化タンタ
ル粉末またはチタン酸バリウム粉末を分散させた分散物
を離型性シート上に溶融混練して押し出し、または塗布
乾燥して絶縁性樹脂層を形成させ、しかるのち該離型性
シートから絶縁性樹脂層を剥離して該絶縁性樹脂層の単
一層からなる本発明の絶縁シートを得る。
ル粉末またはチタン酸バリウム粉末を分散させた分散物
を離型性シート上に溶融混練して押し出し、または塗布
乾燥して絶縁性樹脂層を形成させ、しかるのち該離型性
シートから絶縁性樹脂層を剥離して該絶縁性樹脂層の単
一層からなる本発明の絶縁シートを得る。
また本発明の絶縁シートは第3図に示すように、耐熱性
フィルム31の両面に絶縁性樹脂層32a、32bを設
けてなり、該絶縁性樹脂層は絶縁性樹脂33を主成分と
し、両面の絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸化タンタ
ル粉末またはチタン酸バリウム粉末34が分散されてな
る。
フィルム31の両面に絶縁性樹脂層32a、32bを設
けてなり、該絶縁性樹脂層は絶縁性樹脂33を主成分と
し、両面の絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸化タンタ
ル粉末またはチタン酸バリウム粉末34が分散されてな
る。
耐熱性フィルム31には、厚さ5〜300μm、好まし
くは12.5〜150μmの例えば、ポリイミド、ホリ
エーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリパラバン酸、ポリエチレン
テレフタレート等の耐熱性フィルムや、エポキシ樹脂−
ガラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−ガラスクロ
ス等の複合耐熱フィルムを使用できる。
くは12.5〜150μmの例えば、ポリイミド、ホリ
エーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリパラバン酸、ポリエチレン
テレフタレート等の耐熱性フィルムや、エポキシ樹脂−
ガラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−ガラスクロ
ス等の複合耐熱フィルムを使用できる。
絶縁性樹脂33には、NBR系接着剤、ポリエステル系
接着剤、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤を用い
ることができる。接着剤が硬化型の場合には、耐熱性フ
ィルム31上に塗布した後、Bステージの半硬化状態に
なるまで乾燥すればよい。絶縁性樹脂層は、膜厚1〜1
50μm、好ましくは5〜50umになるよう形成する
。
接着剤、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤を用い
ることができる。接着剤が硬化型の場合には、耐熱性フ
ィルム31上に塗布した後、Bステージの半硬化状態に
なるまで乾燥すればよい。絶縁性樹脂層は、膜厚1〜1
50μm、好ましくは5〜50umになるよう形成する
。
また本発明に係る多層リードフレームlOは、第1図の
絶縁シー)18a、18bのうち、電源プレーン14と
接地プレーン16の間の絶縁シート18bに上記の絶縁
シートを用いることを特徴とする。
絶縁シー)18a、18bのうち、電源プレーン14と
接地プレーン16の間の絶縁シート18bに上記の絶縁
シートを用いることを特徴とする。
実施例では、絶縁性樹脂として帝国化学産業製アミド系
接着剤ティサンレジン5A−70Lを用い、これに対し
て平均粒径3μmの酸化タンタル粉末を約15wt%分
散させた、厚さ約30μmの絶縁シートを用いた。
接着剤ティサンレジン5A−70Lを用い、これに対し
て平均粒径3μmの酸化タンタル粉末を約15wt%分
散させた、厚さ約30μmの絶縁シートを用いた。
上記のように絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉末を分散
させた絶縁シートの誘電率は全体として約15.0と高
い誘電率のものとなった。従来のポリイミドフィルムを
主体とする絶縁シートの誘電率は3.5程度と低いもの
でしかなかった。
させた絶縁シートの誘電率は全体として約15.0と高
い誘電率のものとなった。従来のポリイミドフィルムを
主体とする絶縁シートの誘電率は3.5程度と低いもの
でしかなかった。
なお誘電率の測定は、室温にて1キロヘルツの周波数で
行った。
行った。
上記実施例で得た絶縁シートを多層リードフレーム10
の絶縁シート18bに用いたところ、電源プレーン14
と接地プレーン16との間に高容量のデカップリング・
コンデンサが形成され、これによりパッケージ内のリー
ドフレームパターンによる電圧降下分を上記のコンデン
サにより補充でき、デバイスの高速化に対処できるよう
になった。
の絶縁シート18bに用いたところ、電源プレーン14
と接地プレーン16との間に高容量のデカップリング・
コンデンサが形成され、これによりパッケージ内のリー
ドフレームパターンによる電圧降下分を上記のコンデン
サにより補充でき、デバイスの高速化に対処できるよう
になった。
なお、信号層12と電源プレーン14との間の絶縁性シ
ー)18aは外部信号線とのインピーダンスのマツチン
グが図れればよいので、従来のポリイミドフィルムの両
面に接着剤を塗布した絶縁シートをそのまま用いること
ができる。
ー)18aは外部信号線とのインピーダンスのマツチン
グが図れればよいので、従来のポリイミドフィルムの両
面に接着剤を塗布した絶縁シートをそのまま用いること
ができる。
次に製造方法についての実施例を説明する。
■ バインダーとしてアミド系接着剤「ティサンレジン
5G−70LJ(帝国化学産業株式会社製)を用い、こ
れに溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を添加し
、固形分率20%となるようにした。
5G−70LJ(帝国化学産業株式会社製)を用い、こ
れに溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)を添加し
、固形分率20%となるようにした。
■ 添加用フィラーとして平均粒径3μmの酸化タンタ
ル粉末を用意し、上記■で調整した接着剤溶液100重
量部に対し、上記フィラーを3重量部添加し、サンドミ
ルにて十分に分散させ、絶縁性樹脂層用塗液を作成した
。
ル粉末を用意し、上記■で調整した接着剤溶液100重
量部に対し、上記フィラーを3重量部添加し、サンドミ
ルにて十分に分散させ、絶縁性樹脂層用塗液を作成した
。
■ 表面にシリコン離型処理を施したポリエチレンテレ
フタレート(PET)フィルム上に、乾燥後の絶縁性樹
脂層の厚さが約30μmとなるように上記で調整したフ
ィラー入り絶縁性樹脂層用塗液を塗布し、熱風循環型オ
ーブン中で150°Cにて5分間乾燥して絶縁性樹脂層
をBステージ化した。
フタレート(PET)フィルム上に、乾燥後の絶縁性樹
脂層の厚さが約30μmとなるように上記で調整したフ
ィラー入り絶縁性樹脂層用塗液を塗布し、熱風循環型オ
ーブン中で150°Cにて5分間乾燥して絶縁性樹脂層
をBステージ化した。
Bステージとは、ゲル状、すなわち半固体状態をいう。
ここではM E Kが完全には飛散せず、絶縁性樹脂層
の粘度の高い半溶液状態をいう。
の粘度の高い半溶液状態をいう。
なお、バインダーとして熱硬化性樹脂、例えばポリイミ
ド系樹脂を用いた場合には、熱硬化反応が完全には完結
しない段階をいう。したがって再加熱すると一旦溶融し
て接着性を示し、次いで硬化する。
ド系樹脂を用いた場合には、熱硬化反応が完全には完結
しない段階をいう。したがって再加熱すると一旦溶融し
て接着性を示し、次いで硬化する。
■ 上記■で作成したシートからPETを剥離して絶縁
性樹脂層の単一層からなる本発明の絶縁シートを得た。
性樹脂層の単一層からなる本発明の絶縁シートを得た。
多層リードフレーム10を形成するには、上記のように
して得た本発明による絶縁シートを電源プレーン14と
接地プレーン16との間に介在させて加熱、加圧して、
該絶縁シートを熔融させ、バインダーが熱可塑性樹脂の
場合には冷却することにより、またバインダーが熱硬化
性樹脂の場合には熱硬化させることにより両者を接着す
る。次いで、絶縁シート18aにより、信号層12を電
源プレーン14上に積層することによって多層リードフ
レームを得る。
して得た本発明による絶縁シートを電源プレーン14と
接地プレーン16との間に介在させて加熱、加圧して、
該絶縁シートを熔融させ、バインダーが熱可塑性樹脂の
場合には冷却することにより、またバインダーが熱硬化
性樹脂の場合には熱硬化させることにより両者を接着す
る。次いで、絶縁シート18aにより、信号層12を電
源プレーン14上に積層することによって多層リードフ
レームを得る。
なお、両絶縁シート、すなわち18aおよび本発明によ
る絶縁シートを共に8ステージ化した熱硬化性樹脂製の
ものを用いることによって、絶縁シー)’ 18’ a
、本発明による絶縁シートを各々介在させて、信号層1
2、電源プレーン14、接地ブレーン16を同時に一工
程で熱圧着することもできる。
る絶縁シートを共に8ステージ化した熱硬化性樹脂製の
ものを用いることによって、絶縁シー)’ 18’ a
、本発明による絶縁シートを各々介在させて、信号層1
2、電源プレーン14、接地ブレーン16を同時に一工
程で熱圧着することもできる。
なお上記の本発明による絶縁シートは多層リードフレー
ムの接着シートの他、他の電子部品における絶縁用のシ
ートとして用いることができることはもちろんである。
ムの接着シートの他、他の電子部品における絶縁用のシ
ートとして用いることができることはもちろんである。
以上、本発明の好適な実施例について種々述べて来たが
、本発明は上述の実施例に限定されるのではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはも
ちろんである。
、本発明は上述の実施例に限定されるのではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲で多くの改変を施し得るのはも
ちろんである。
(発明の効果)
酸化タンタル粉末およびチタン酸バリウム粉末は優れた
誘電体であり、この酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
リウム粉末を絶縁性樹脂中に分散した絶縁シートは高誘
電率のものとなる。
誘電体であり、この酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
リウム粉末を絶縁性樹脂中に分散した絶縁シートは高誘
電率のものとなる。
この高誘電率を有する絶縁シートを、多層リードフレー
ムの電源プレーンと接地プレーンとを接着する絶縁シー
トとして用いることにより、電源プレーンと接地プレー
ンとの間、すなわち樹脂封止型半導体装置に形成した際
、パッケージ内となる部位に高容量のデカップリング・
コンデンサを形成することができ、リードフレームのパ
ッケージ内パターンでの電圧降下を低減することができ
、より高速化に対応できるパッケージを提供できる。
ムの電源プレーンと接地プレーンとを接着する絶縁シー
トとして用いることにより、電源プレーンと接地プレー
ンとの間、すなわち樹脂封止型半導体装置に形成した際
、パッケージ内となる部位に高容量のデカップリング・
コンデンサを形成することができ、リードフレームのパ
ッケージ内パターンでの電圧降下を低減することができ
、より高速化に対応できるパッケージを提供できる。
上記絶縁シートはBステージ化しておくことにより、電
源プレーンと接地プレーンとを接着する際の接着剤をも
兼用できるので好都合である。
源プレーンと接地プレーンとを接着する際の接着剤をも
兼用できるので好都合である。
第1図は多層リードフレームの組立図を示す。
第2図および第3図は本発明の絶縁シートの実施例を示
す断面説明図を示す。 10・・・多層リードフレーム、 12・・・信号層、 14・・・電源プレーン、16
・・・接地プレーン、 18a、18b・・・絶縁シート、 21・・・絶縁性樹脂、 22・・・酸化タンタル粉末
またはチタン酸バリウム粉末、 23・・・絶縁性樹脂層(単一層)、 31・・・耐熱性フィルム、 32a、32b・・・絶縁性樹脂層(積層)、33・・
・絶縁性樹脂、 34・・・酸化タンタル粉末またはチ
タン酸バリウム粉末。 第 図 第 2 図 第 3 ゛に1
す断面説明図を示す。 10・・・多層リードフレーム、 12・・・信号層、 14・・・電源プレーン、16
・・・接地プレーン、 18a、18b・・・絶縁シート、 21・・・絶縁性樹脂、 22・・・酸化タンタル粉末
またはチタン酸バリウム粉末、 23・・・絶縁性樹脂層(単一層)、 31・・・耐熱性フィルム、 32a、32b・・・絶縁性樹脂層(積層)、33・・
・絶縁性樹脂、 34・・・酸化タンタル粉末またはチ
タン酸バリウム粉末。 第 図 第 2 図 第 3 ゛に1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉末またはチタン酸
バリウム粉末が分散されていることを特徴とする絶縁シ
ート。 2、耐熱性フィルムの両面に絶縁性樹脂層が形成され、
該絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸化タンタル粉末ま
たはチタン酸バリウム粉末が分散されていることを特徴
とする絶縁シート。 3、前記絶縁性樹脂層がBステージ化していることを特
徴とする請求項1または2記載の絶縁シート。 4、信号層、電源プレーン、接地プレーンが絶縁シート
を介して積層された多層リードフレームにおいて、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートが
、絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉末またはチタン酸バ
リウム粉末が分散された絶縁シートであることを特徴と
する多層リードフレーム。 5、信号層、電源プレーン、接地プレーンが絶縁シート
を介して積層された多層リードフレームにおいて、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートが
、耐熱性フィルムの両面に絶縁性樹脂層が形成され、該
絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸化タンタル粉末また
はチタン酸バリウム粉末が分散された絶縁シートである
ことを特徴とする多層リードフレーム。 6、信号層、電源プレーン、接地プレーンを絶縁シート
を介して積層する多層リードフレームの製造方法におい
て、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートに
、Bステージ化された絶縁性樹脂層中に酸化タンタル粉
末またはチタン酸バリウム粉末が分散された絶縁性シー
トを用い、この絶縁シートを電源プレーンと接地プレー
ンとの間に介在させてキュアーすることにより両者を接
着することを特徴とする多層リードフレームの製造方法
。 7、信号層、電源プレーン、接地プレーンを絶縁シート
を介して積層する多層リードフレームの製造方法におい
て、 前記電源プレーンと接地プレーンとの間の絶縁シートに
、耐熱性フィルムの両面にBステージ化された絶縁性樹
脂層が形成され、該絶縁性樹脂層の少なくとも一方に酸
化タンタル粉末またはチタン酸バリウム粉末が分散され
た絶縁シートを用い、この絶縁シートを電源プレーンと
接地プレーンとの間に介在させてキュアーすることによ
り両者を接着することを特徴とする多層リードフレーム
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184993A JP2828326B2 (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 多層リードフレームおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184993A JP2828326B2 (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 多層リードフレームおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0473825A true JPH0473825A (ja) | 1992-03-09 |
JP2828326B2 JP2828326B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=16162913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2184993A Expired - Lifetime JP2828326B2 (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 多層リードフレームおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2828326B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06283655A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-10-07 | Kyocera Corp | 半導体素子収納用パッケージ |
EP0626725A3 (en) * | 1993-05-24 | 1995-04-19 | Shinko Electric Ind Co | Multilayer conductive frame for a semiconductor device. |
EP0645810A4 (en) * | 1993-04-06 | 1997-04-16 | Tokuyama Corp | SEMICONDUCTOR CHIP PACKAGE. |
JP2003017979A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Nagase Chemtex Corp | 弾性表面波デバイスおよびその製法 |
-
1990
- 1990-07-12 JP JP2184993A patent/JP2828326B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06283655A (ja) * | 1993-03-26 | 1994-10-07 | Kyocera Corp | 半導体素子収納用パッケージ |
EP0645810A4 (en) * | 1993-04-06 | 1997-04-16 | Tokuyama Corp | SEMICONDUCTOR CHIP PACKAGE. |
EP0626725A3 (en) * | 1993-05-24 | 1995-04-19 | Shinko Electric Ind Co | Multilayer conductive frame for a semiconductor device. |
US5576577A (en) * | 1993-05-24 | 1996-11-19 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Multi-layer lead-frame for a semiconductor device |
JP2003017979A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Nagase Chemtex Corp | 弾性表面波デバイスおよびその製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2828326B2 (ja) | 1998-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102006004015B4 (de) | Isolierender Flächenkörper und den isolierenden Flächenkörper aufweisendes Leistungsmodul | |
US7388275B2 (en) | Electronic package with integrated capacitor | |
JP2612529B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
CN101720165B (zh) | 组件内置布线基板及其制造方法 | |
JP3019541B2 (ja) | コンデンサ内蔵型配線基板およびその製造方法 | |
JP3236818B2 (ja) | 素子内蔵多層配線基板の製造方法 | |
CN100429768C (zh) | 元件搭载基板以及使用该基板的半导体装置 | |
JPH1056249A (ja) | 埋込み減結合容量を有するプリント回路基板及びその作製方法 | |
WO2021083367A1 (zh) | 线路板及其制作方法 | |
US6618238B2 (en) | Parallel plate buried capacitor | |
CN114479322A (zh) | 氟素树脂预浸材及应用其的电路基板 | |
JP3199664B2 (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
JPH0473825A (ja) | 多層リードフレームおよびその製造方法 | |
JP2001288333A (ja) | エポキシ樹脂複合材料及びそれを用いた装置 | |
JPH0368149A (ja) | Icパッケージ | |
JPH10154777A (ja) | 半導体装置 | |
US20020048137A1 (en) | Two-layered embedded capacitor | |
JPH1065047A (ja) | 半導体素子搭載用パッケージの製造方法 | |
CN100429767C (zh) | 元件搭载基板 | |
JPH05283562A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPH09237972A (ja) | 多層配線基板 | |
TW573444B (en) | Substrate having organic and inorganic functional package | |
CN100433306C (zh) | 元件搭载基板以及使用该基板的半导体装置 | |
JPS605589A (ja) | 高熱伝導性金属ベ−スプリント基板 | |
JP2546125B2 (ja) | 半導体装置 |