JPH0470666A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPH0470666A
JPH0470666A JP17880390A JP17880390A JPH0470666A JP H0470666 A JPH0470666 A JP H0470666A JP 17880390 A JP17880390 A JP 17880390A JP 17880390 A JP17880390 A JP 17880390A JP H0470666 A JPH0470666 A JP H0470666A
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JP
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group
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layer
photosensitive layer
photoreceptor
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JP17880390A
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English (en)
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Yoshio Takizawa
喜夫 滝沢
Yoshiaki Takei
武居 良明
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、特に有機光導電性電子
写真感光体、更に電子写真感光体#I成層の膜物性に関
する。
〔従来の技術〕
カールソン法の電子写真複写機においては、感光体表面
を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を消
去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによっ
て現像し、次いでそのトナー像を紙等に転写、定着させ
る。
一方、感光体には付着)・ナーの除去や除電、表面の清
浄化が施され、長期に亘って反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の
紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であるこ
とが要求される。
従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を感光層主成分とす
る無機感光体が広く用いられていIこ 。
近年電子写真用感光体の感光層としてキャリア発生機能
とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望す
る特性に照して各機能を発揮する物質を広い範囲から選
択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用化す
る動向にある。
このような機能分担型の有機感光体は従来主として負帯
電用として用いられ、特開昭60−247647号に記
載されるように支持体上に薄いキャリア発生層を設け、
この上に比較的厚いキャリア輸送層を設ける構成がとら
れている。
このような感光体に使用されるバインダとしては、帯電
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールA型のポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。
しかし本発明者等が検討を加えた結果、上記ビスフェノ
ールA型ポリカーボネートは、高分子の結晶性が高いた
めその溶液はゲル化を起しやすく、1〜2日程度で使用
不可能となるという欠点を有している。また塗布により
膜形成を行なうと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカー
ボネートか析出して凸部が生じやすく、このために塗膜
の尾引きが生じて収率が低下したり、あるいは感光体と
しての使用時に凸部にトナーが付着してクリーニングさ
れずに残り、いわゆるクリーニング不良による画像欠陥
が生じやすい。
また、上記ビスフェノールA型ポリカーボネートをバイ
ンダ樹脂として用いた電子写真感光体は、電子写真複写
機の感光体として用いると、磁気ブラシやクリーニング
ブレードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光層
が次第に摩耗するという欠点を有する。
他方、高画質と順調な複写作業性は、感光体の均一な厚
みを有する滑らかで均質な表面性の良否にも依存するの
で、感光体塗布構成層面の構成層を形成する塗料組成或
は塗布、乾燥に起因する柚木肌、ピンホール、塗布筋、
亀裂(ソルベントクラック)等の膜面故障は、複写特性
上及び生産技術上大いに問題にされる所である。
また、表面性或は滑り性の改善には界面活性剤も有用で
あり、而も懸濁系の塗料に於ては懸濁質の分散及び分散
安定性向上に有効であり、溶液系塗料に於ても溶解促進
などに、また塗布性の向上等生産技術上の価値を有する
。しかしながら、その種類の選択を誤ると、層間接着不
良、その変質による故障或は耐湿性に係る支障を往々に
して惹起す。
前記したような支障に対して、フェニレン環間の炭素に
弗素を有する置換基の導入(特開昭63−65444号
) 、フェニレン環へのアルキル基、ハロゲン原子の置
換(特開昭63−148263号)、或は両フェニレン
環にフェニル基を又はシクロヘキシル基ヲ置換した七ツ
マ−の共重体(特開平1−269942号、同1−26
9943号)等が提案されているが、未だ充分な表面強
度、表面平滑性がなく、摩耗、傷及びオゾンに弱く、反
復使用において画質の低下が起り、また摩耗による膜厚
減少による感度低下等の問題点を残している。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、電子写真感光体感光層の機械的耐久性
が高く、表面平滑性が良好であり、耐オゾン性が良好で
、画質低下、感度減退の少い感光体の提供にあり、また
他の目的は感光層塗料のボットライフ(保存性)の良好
な感光体の提供にある。
〔発明の構成〕
前記本発明の目的は、導電性基体上に電荷発生層、電荷
輸送層を順次積層した感光層を有する電子写真感光体に
おいて、前記感光層のバインダ樹脂に主要繰返し単位と
して下記一般式〔B1〕及び〔B2〕を構造組成に含む
共重合体を含有し、かつ下記一般式CT)で表される化
合物を含有することを特徴とする電子写真感光体によっ
て達成される。
一般式〔B1〕 一般式〔B2〕 式中、Zは置換、無置換の次記2つの基:炭素環基、複
素環基を形成するに必要な非金属原子群を長し、R、、
R2は各々水素原子、炭素数1〜6のアルキル基を表す
殺伐(T) 式中、A rI、 A r2はアルキル基又はアリール
基、Ar、はフェニレン基を表し、Ar、、Ar2で環
を形成してもよい。R、、、R、、は水素原子、アルキ
ル基、アリール基、R8,はアルキル基、アリール基を
表し、R1□、R13で環を形成してもよい。
本発明において、前記一般式〔B2〕及び一般式〔B2
〕を構造単位に含む共重合体をバインダ樹脂として用い
ることにより皮膜物性に優れ、電荷保持力、感度残留電
位等の電子写真特性に優れ、かつ繰返し使用に供した時
にも疲労劣化が少ない安定した特性を発揮する電子写真
感光体を作成することができる。
更に必要に応じ目的とする作用効果に支障を来さぬ範囲
で他のモノマーを混合して用いることができる。この際
の混入比率は5Qwt%以下か好ましい。
本発明のポリカーボネート樹脂は、下記(I)及び(n
)から選ばれるフェノール系化合物を用いて常法に従い
、容易に合成される。
゛・Z・′ 式中、Zは置換もしくは無置換の次記2つの基;炭素環
基、複素環基を形成するのに必要な原子群を表わし、R
,、R2は各々水素原子、炭素数1〜6のアルキル基を
表す。
本発明の変性ポリカーボネート樹脂を製造する方法は、
具体的には塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等の
不活性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に、酸受容
体としてアルカリ水溶液或はピリジン等を入れ、ホスゲ
ンを導入しながら反応させる。
酸受容体としてアルカリ水溶液を使う時は、触媒として
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン
、あるいはテトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジ
ルトリブチルアンモニウムプロミド等の第4級アンモニ
ウム化合物を用いると、反応速度が増大する。
また必要に応じて分子量調節剤としてフェノール、p−
[−ブチルフェノール等−価の7エノールを共存させて
もよい。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマーを
造った後に入れて高分子量化する等任意の方法がとれる
尚、本発明において二種以上のフェノール系化合物を用
いて共重合する方法としては、(イ)二種以上のフェノ
ール系化合物を最初に同時にホスゲンと反応させて共重
合する方法(ロ)一方をまずホスゲンと反応させ、ある
程度反応を行なった後他方を入れて重合する方法(ハ)
別々にホスゲンと反応させてオリゴマーを造り、それら
を反応させて重合する方法等の任意の方法がとれる。
次に一般式〔B1〕、〔B2〕で示される樹脂構造の具
体例を挙げる。
〔B1〕構造具体例 〔B2〕構造具体例 z   1 以下余白、 共重合体構造例 B−I   B、−1/B2−I B−2B1−2/B2−1 s−3B、−4/Bz−1 前記したバインダとして用いられるポリカーボネートに
併用して用いてもよいバインダとしては、例えば次のも
のを挙げることができる。
(1) ポリエステル (2) メタクリル樹脂 (3)アクリル樹脂 (4)ポリ塩化ビニル (5)ポリ塩化ビニリデン (6)ポリスチレン (7) ポリビニルアセテート (8)スチレン共重合樹脂(例えば、スチレン−ブタヂ
エン共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体
、等) (9)アクリロニトリル系共重合体樹脂(例えば、塩化
ビニリデン−アクリトロニトリル共重合体、等) (lO)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(11)塩化
ヒニルー酢酸ビニルー無水マレイン酸共重合体 (12)  /リコーン樹脂 (13)  シリコーン−アルキッド樹脂(14)  
フェノール樹脂(例えば、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、等) (15)スチレン−アルキッド樹脂 (16)ポリ−N−ビニルカルバゾール(I7)ポリビ
ニルブチラール (18)ポリビニルホルマール (19)  、i:リヒドロキシスチレンこれらのバイ
ンダは、単独であるいは2種以上の混合物として本発明
に係るカーボネートに併用することができる。
次に一般式〔T〕で示される化合物について説明する。
以下余J?バ 一般式(T) るが、これに限定されるものではない。
ニー殺伐〔T〕化合物の具体例: 式中、Ar、、Ar、はアルキル基又はアリール基を、
Arsはフェニレン基を表し、Ar、、Ar、で環を形
成してもよい。RII、R12は水素原子、アルキル基
、アリール基、R1,はアルキル基、アリール基を表し
、R1!+RI3で環を形成してもよい。
アリール基とはフェニル基、ナフチル基、縮合多環を表
し、A r++A rz+A r3+RII、R12+
R13で述べた、アルキル基及びアリール基にはアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アミン基等の置換
基を含んでいてもよい、A ri l A r2でカル
バゾール環、インドリン環等の環を形成してもよく、又
R1□、R1,のなす環は5〜7員の炭素環又は複素環
である。
前記化合物はキャリア輸送能が高く、高感度化に資する
所大である。
以下一般式〔T〕で表される化合物の例を述べT−11 T −12 T  −14 ロー 本発明において併用して使用可能キャリア輸送物質(C
TM)としては、特に制限はないが、例えばオキサゾー
ル誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体
、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダ
ゾール誘導体、イミダシロン誘導体、イミダゾリジン誘
導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒ
ドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミン誘導体、オ
キサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイ
ミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘
導体、アクリジン誘導体、7工ナジン誘導体、アミノス
チルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ
−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン等
である。
本発明において用いられるCTMとしては光照射時発生
するホールの支持体側への輸送能力が優れている外、前
記本発明に用いられる有機系顔料との組合せに好適なも
のが好ましい。
本発明の感光体においては、キャリア発生物質(CGM
)として次の代表例で示される様な有機顔料が用いられ
る。
(1)モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリアゾ顔料、金
属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料 (2)ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラシトロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びインビオラントロン誘導体等
多環キノン顔料(4)インジゴ誘導体及びチオインジゴ
誘導体等のインジゴイド顔料 (5)金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニン等
の7りロンアニン顔料 特に本発明の電子写真感光体においては、CGMとして
フルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジス
アゾ顔料、多環キノン顔料、無金属系フタロシアニン顔
料又はオキシチタニル系フタロシアニン顔料等の有機系
顔料が用いられることが好ましい。特に次に示すフルオ
レノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジスアゾ顔
料、多環キノン顔料、X及びτ型無金属フタロシアニン
及び特開昭64−17066号で示されるオキシチタニ
ル系フタロシアニン顔料を本発明に用しすると、感度、
耐久性及び画質等の点で著しく改良された効果を示す。
本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料は、下
記一般式〔F1〕で表される。
一般式〔F1〕 Xl及びX2は、それぞれ、/%ロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、ニトロ基、シアン基、ヒドロキシ基
又は置換若しくは無置換のアミン基を表す。
p及びqはそれぞれO,l又は2の整数を表し、p及び
qが2のときは、Xl及びX、はそれぞれ同−又は異な
る基であってもよい。Aは下記一般式CF+−1)で表
される基を示す。
一般式CF、−1) パZ′ 式中、Arは弗素化炭化水素基又は置換基を有する芳香
族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。
Zは置換若しくは無置換の芳香族炭素環又は置換若しく
は無置換の芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原
子群を表す。m及びnはそれぞれ0゜l又は2の整数を
表す。但し、m及びnが同時に0となることはない。
下記に本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料
の具体例を挙げるが、これによって限定されるものでは
ない。
本発明に用いられる前記一般式〔F1〕で表されるフル
オレノン系ジスアゾ顔料は、公知の方法により容易に合
成され、例えば特願昭62−304862号等の方法に
より合成される。
本発明に用いられるフルオレニリデン系ジスアゾ顔料は
下記一般式〔F2〕で表される。
一般式〔F2〕 式中、 Aは :置換、無置換の次記2つの基;芳香族炭素環、芳香族
複素環を構成するに必要な原子群 :水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、若しくはそ
のエステル基、スルホ基、置換、無置換の次記2つの基
;カルバモイル基、スルファモイル基 R1:水素原子、置換、無置換の銃把4つの基;アルキ
ル基、アミノ基、カルバモイル基、カルボキシ基若しく
はそのエステル基またはシアノ基 Ar:置換、無置換のアリール基 R2=置換、無置換の銃把3つの基;アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基 を表す。
前記一般式〔F2〕で示される本発明に有効なジスアゾ
顔料の具体例としては、例えば次の構造式で示されるも
のを挙げることができるが、これによって本発明に用い
られるべきジスアゾ顔料が限定されるものではない。
F、−1 F 。
F、−3 F、−7 一般式(Q、): 本発明に用いられる多環キノン顔料1よ、下記一般式〔
Q1〕〜〔Q2〕で表される。
一般式(Q、)ニ 一般式(Q2): 各式中、Xはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシ
ル基、又はカルボキシ基を表し、nは0〜4の整数を、
mは0〜6の整数を表す。
前記一般式〔Q1〕〜〔Q2〕で示される本発明に用い
られる多環キノン顔料の具体例を下記に示すが、これに
限定されるものではない。
一般式〔Q1〕で示されるアントアントロン顔料の具体
的化合物例を挙げると次の通りである。
Q、−I         Q、−2 し−6 一般式〔Q2〕で示されるジベンズピレンキノン顔料の
具体的化合物例を挙げると次の通りである。
zl υ 一般式〔Q2〕で示されるピラントロン顔料の具体的化
合物例を挙げると次の通りである。
U 本発明に用いられる前記一般式〔Q1〕〜〔Q2〕で表
される多環キノン顔料は、公知の方法により容易に合成
できる。
本発明に使用できる無金属フタロシアニン系顔料として
は、光導電性を有する無金属フタロシアニン及びその誘
導体すべてが使用可能であるが、例えばσ型、β型、τ
、τ′型、η、η′似、X型、及び特開昭62−103
651号で述べた結晶形及びその誘導体等を使用できる
。特にτ、X、に/R−X型を使用することが望ましい
。X型無金属フタロシアニンについては米国特許3,3
57.989号に記載があり、τ型態金属フタロシアニ
ンについては特開昭58−182639号に記載がある
。K/R−X型は特開昭62−103651号にあるよ
うに、CuKg、 1.541AのX線に対するブラッ
グ角度(2θ±0.2度)において、7.7.9.2.
16.8.17.5.22.4.28.8度に主要なピ
ークを有し、且つ9.2度のピーク強度に対して16.
8度のピーク強度比が0.8〜1.0であり、また22
.4度に対する28.8度のピーク強度比が0.4以上
である事を特徴とするフタロシアニンである。
本発明で用いられるオキシチタニル7りロシアニンは、
下記一般式(TP)で表される。
一般式(TP) 式中、X l、X !、 X s、 X 4は各々独立
ニH,CQ又はBrを表し、n、m、(1,には各々独
立にθ〜4の数字を表す。
本発明に用いられるオキシチタニルフタロシアニンのう
ち、特に好適なものは、オキシチタニル7りロシアニン
(Ti0Pc)、チタニルクロロフタロシアニン(Ti
0PcCI2)及びそれらの混合物である。
これらのオキシチタニルフタロンアニンとしては以下で
示す特許で公開された結晶型の異なるものが知られてい
る。例えば特開昭61−239248号、同62−67
0943号、同62−272272号、同63−116
158号又は同64−17066号等が挙げられる。
本発明に用いられる有機系顔料の分散媒としては、例え
ばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類、メチレンクロライド、メチレンブロマイド、1.
2−ジクロルエタン、sym−テトラクロルエタン、c
is−1,2−ジクミルエチレン、I。
1.2〜トリクロルエタン、1.1.i)ジクロルエタ
ン、1.2−ジクロルプロパン、クロロホルム、ブロモ
ホルム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケト
ン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、シクロ
ヘキサノール、ヘプタツール、エチレングリコール、メ
チルセロソルブエチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等の
アルコール及びこの誘導体、テトラヒドロフラン、1.
4−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエーテル、
アセタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエチルアミ
ン、エチレンジアミン、イソプロノ(ノールアミン等の
アミン類、N、N−ジメチルホルムアミド等のアミド類
等の窒素化合物能に脂肪酸及びフェノール類、二硫化炭
素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等が挙げられる
本発明において感光層には感度の向上、残留電位乃至反
復使用時の疲労低減等を目的として、種又は二種以上の
電子受容性物質を含有せしめることができる。
ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4
−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリ
・ント酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン
、1,3.5−トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾ
ニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノバラベンゾ
キノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2
.t−ジニトロフルオレノン、2,4.7−トリニトロ
フルオレノン、2,4,5.7−テトラニトロフルオレ
ノン、9−フルオレノンデン[ジシアノメチレンマロノ
ジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−[
ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ピクリン酸、0
−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−ジニ
トロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサ
リチル酸、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メ
リット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げる
ことができる。又、電子受容性物質の添加割合は、重量
比で本発明に用いられる有機系顔料:電子受容性物質=
 100 : 0.01〜200、好ましくは100 
: 0.1−100である。
かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比で全C
TM :電子受容性物質= 100 : 0.01−1
00、好ましくは100 : 0.1〜50である。
又、本発明の感光層中にはCGMの電荷発生機能を改善
する目的で有機アミン類を添加することができ、特に2
級アミンを添加するのが好ましい。
これらの化合物は特開昭59−218447号、同62
−8160号に記載されている。
又、本発明の感光層においては、オゾン劣化防止の目的
で酸化防止剤を添加することができる。
かかる酸化防止剤の代表的具体例を以下に示すが、これ
に限定されるものではない。
l−群;ヒンダードフェノール類、■−群一ノくラフェ
ニレンシアミン類、■−群:ノーイドロキノン類、■−
群;有機硫黄化合物類、■−群;有機燐化合物類が挙げ
られる。
これらの化合物は例えば特開昭63−18354号に開
示されている。
これらの化合物はゴム、プラスチック、油脂類等の酸化
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
酸化防止剤の添加量はCTM 100重量部に対して0
.1−100重量部、好ましくは1〜50重量部、特に
好ましくは5〜25重量部である。
又本発明の感光体には、その他、必要により感光層を保
護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また感
色性補正の染料を含有してもよい。
また本発明に係る保護層中には加工性及び物性の改良(
亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可
塑性樹脂を50wt%未満含有せしめることができる。
又、前記中間層は接着層又はブロッキング層等として機
能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例えばポリビ
ニルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン
、N−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられ
る。
本発明の電子写真感光体の構成に用いられる導電性支持
体としては、主として下記のものが用いられるが、これ
らにより限定されるものではない。
1)アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。
2)紙あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上に
、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミ
ネートもしくは蒸着によって設けたもの。
3)紙あるいはプラスチックフィルムなとの支持体上に
、導電性ポリマ、酸化インジウム、酸化錫などの導電性
化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたもの。
本発明の感光体は、第1図及び第2図に示すように導電
性支持体l上にCGMを主成分とするCGL 2と本発
明に係るCTMを主成分として含有するCTL 3との
積層体より成る感光層4を設ける。第3図及び第4図に
示すようにこの感光層4は、導電性支持体l上に設けた
中間層5を介して設けてもよい。
このように感光層4を二層構成としたときに最も優れた
電子写真特性を有する電子写真感光体が得られる。又、
本発明においては、第5図及び第6図に示すように前記
CTMを主成分とする層6中に微粒子状のCGM 7を
分散してなる感光層4を導電性支持体l上に直接あるい
は、中間層5を介して設けてもよい。
更に前記感光層4の上には必要に応じ保護層8を設けて
もよい。
ここで感光層4を二層構成としたときにCGL2とCT
L 3のいずれを上層とするかは、帯電極性を正、負の
いずれに選ぶかによって決定される。すなわち負帯電型
感光層とする場合は、CTL 3を上層とするのが有利
であり、これは該CTL 3中のCTMが、正孔に対し
て高い輸送能を有する物質であるからである。
又、二層構成の感光層4を構成するCGL 2は、導電
性支持体1もしくはCTL a上に直接あるいは必要に
応じて接着層もしくはブロッキング層などの中間層を設
けた上に、次の方法によって形成することができる。
(1)  真空蒸着法 (2)  CGMを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布す
る方法 (3)  CGMをボールミル、サンドグラインダ等に
よって分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バイン
ダと混合分散して得られる分散液を塗布する方法。
即ち具体的には、真空蒸着、スパッタリング、CVD等
の気相堆積法あるいはディッピング、スプレィ、ブレー
ド、ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
このようにして形成されるCGL2の厚さは、0.01
μm1〜5μ履であることが好しく、更に好しくは0.
05μm〜3μ■である。
またCTL 3の厚さは、必要に応じて変更し得るが通
常5μm〜30μ謹であることが好ましい。このCTL
 3における組成割合は、本発明のCTM 1重量部に
対してバインダ0,1〜531量部とするのが好ましい
が、微粒子状のCGMを分散せしめた感光層4を形成す
る場合は、CGM 1重量部に対してバインダを5重量
部以下の範囲で用いることが好ましい。
またCGLをバインダ中分散をのものとして構成する場
合には、CGM 1重量部に対してバインダを5重量部
以下の範囲で用いることが好ましい。
本発明の感光体は以上のような構成であって、後述する
ような実施例からも明らかなように帯電特性、感度特性
、画像形成特性に優れたものである。特に反復転写式電
子写真方式に供したときにも疲労劣化が少なく耐久性が
優れたものである。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を具体的に説明するが、これにより
本発明の実施態様が限定されるものではない。
実施例1 と−アミノーカプロン酸、アジピン酸及びN−(β−ア
ミノエチル)ピペラジンの比率がl:l:Iのモノマー
組成で共重合されたポリアミド30gを5゜°Cに加熱
した8001Ilffのメタノール(EL規格;関東化
学社製)へ撹拌しながら投入し、溶解させた。
室温迄冷却後、l−ブタノール(特級;関東化学社製)
 200m12を加えた。その後、直径80+nmのア
ルミニウムドラム上へ浸漬塗布し、0.5μm厚の中間
層を形成した。
次にCGMとしてフルオレノン系ジスアゾ類N(例示F
 +  23) 20g及びバインダとしてポリビニル
ブチラール樹脂エスレックBX−1(If水化学社製)
10gをメチルエチルケトン(関東化学社製EL規格)
 1000a12へ溶解し、ボールミルにて2411?
間ミリングを行ない、CGL塗工液を得た。これを上記
中間層上に浸漬塗布して0.3μm厚のCGLを形成し
た。
その後、前記例示T−2;120gと共重合体B−1;
165gを1.2−ジクロルエタン(特級;関東化学社
製) 1000m12へ溶解させ、CTL塗工液を得た
これを上記CGL上に浸漬塗布後、100℃で1時間乾
燥し、20pta厚のCTLを形成した。このようにし
て、中間層−CGL−CTLを順次積層して成る感光体
を作成した。
実施例2 CTMを例示T−3とした以外は実施例1と同様にして
感光体を作成した。
実施例3 中間層の形成は実施例1と同様に行なった。
CGMとして、多環キノン系顔料(例示Q、−3)20
g及びバインダとしてポリカーボネート樹脂L−125
0(音大化成社製)IOgを1.2−ジクロルエタン(
特級−関東化学社製)へ溶解し、ボールミルにて24時
間ミリングを行ないCGL塗工液を得た。これを上記中
間層上に浸漬塗布とて0.3μ■厚のCGLを形成した
次いでCTMを例示T−24、バインダを共重合体B−
2とした以外は実施例1と同様にCTLを積層し、感光
体を作成した。
実施例4 CTMを例示T−84、CTLバインダを共重合体B−
2とした以外は実施例1と同様にして感光体を作成した
実施例5 ポリビニルブチラール樹脂(エスレックBX−1゜覆水
化学社製)12gをメチルエチルケトン1oool11
2に溶解しさせた後、cGMとして例示。、−3;5.
7g 19’4示F r −23; 0.3gを混合し
、サンドグラインダで10時間分散した。
これを実施例1で記した中間層上に浸漬塗布し、CGL
を形成、更に実施例2と同様にしてCTLを形成し、感
光体を作成した。
実施例6 実施例Iで用いたポリアミド50gを50℃に加熱した
800m12のメタノール(EL規格;関東化学社製)
へ撹拌しながら投入し、溶解させた。室温迄冷却後、l
−ブタノール(特級−関東化学社製) 200mQを加
えた。次いで直径80+m■のアルミニウムドラム上へ
浸漬塗布し、1μ■厚の中間層を形成した。
次にCGMとしてτ型無金属フタロシアニン(τ−Pc
) 40 gをシリコーン樹脂r KR−5240J 
(固形分20%)(信越化学社製)200gを溶解した
メチルエチルケトン(EL規格;関東化学社製) 20
00mff1に加えて、サンドグラインダにて4時間分
散させ、CGL塗工液を得た。これを上記中間層上に浸
漬塗布して0.5μ−厚のCGLを形成した。
その後、前記例示T−5;120gと共重合体B−3;
 165gを1.2−ジクロルエタン(特級:関東化学
社製) 1000wI2へ溶解させ、CTL塗工液を得
た。
これを上記CGL上に浸漬塗布後、100°Cで1時間
乾燥を行ない、20μm厚のCTLを得た。中間層、C
GL及びCTLの順に積層して成る感光体を作成しlこ
 。
実施例7 CGMにX型無金属フタロシアニン(X−Pc)を、用
いた以外は、実施例6と同様にして中間層−〇GL−C
TLを順次積層して成る感光体を作成した。
実施例8 CGMにY型オキシチタニウム7りロシアニン(Y 4
i0Pc)を用いた以外は、実施例6と同様にして中間
層−CGL−CTLを順次積層して成る感光体を作成し
た。
又、CTL 1mm液液いずれも1ケ月放置しても安定
であった。
比較例1 実施例1でCTLバインダとしてビスフェノールAポリ
カーボネート(音大化成パンライト K−1300)を
用いた以外は同様にして感光体を作成しt;。
比較例2 実施例4でCTLバインダとしてビスフェノールAポリ
カーボネートを用いた以外は同様にして感光体を作成し
た。
しかしながら、塗布液の安定性が悪く放置による大幅な
粘度上昇が見られ、1ケ月後には完全にゲル状になり、
例え超音波処理等の再分散処理を施しても元に戻らず、
不安定な液しか得られなかっtこ。
比較例3 実施例1でCTMとして下記ヒドラゾン化合物を用いた
以外は同様にして感光体を作成した。
比較例4 実施例1でCTMとして下記ピラゾリン化合物を用いI
;以外は同様にして感光体を作成した。
繰返し特性の測定 実施例1〜5及び比較例1〜4の感光体を各々r U 
−Bix 2025J (コニカ社製)に搭載し、IO
万回コピーの実写を行なうと共に、実写前後での表面電
位を測定した。
黒紙電位:反射濃度1.3の原稿に対する表面電位白紙
電位:反射濃度0.0の原稿に対する表面電位残留電位
:除電後の表面電位 又、実施例6〜8の本発明に係る感光体をr[J−Bi
x 2025J (コニカ社製)(半導体レーザ光源搭
載)改造機に搭載し、vHが一700±10[V]にな
るようにグリッド電圧を調節し、0.7mWの照射時の
露光面の電位をVLとし、現像バイアス−600[V]
で反転現像を行い、同様に実写前後での表面電位を測定
した。
表面の摩擦による膜減耗については、lO万ココピー終
了後感光体膜厚を測定し、初期と比較した。
画質については、逐次画像サンプルをチエツクし、ドラ
ム周方向のキズに基づくスジ(反転現像の場合はモアレ
)、クリーニング不良の発生コピー数を比較した。
〔発明の効果〕
本発明感光体は、優れた電子写真性能を有し、繰返し使
用によっても特性変化が少ない上に、耐摩耗性にも優れ
るので、極めて高い耐刷性能を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第6図はそれぞれ本発明の感光体の機械的構成
例について示す断面図である。 ■・・・導電性支持体 2・・・キャリア発生層 3・・・キャリア輸送層 4・・・感光層 5・・・中間層 6・・・キャリア輸送物質を含有する層7・・・キャリ
ア発生物質 8・・・保護層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 導電性基体上に電荷発生層、電荷輸送層を順次積層した
    感光層を有する電子写真感光体において、前記感光層の
    バインダ樹脂に主要繰返し単位として下記一般式〔B_
    1〕及び〔B_2〕を構造組成に含む共重合体を含有し
    、かつ下記一般式〔T〕で表される化合物を含有するこ
    とを特徴とする電子写真感光体。 一般式〔B_1〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式〔B_2〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Zは置換、無置換の次記2つの基;炭素環基、
    複素環基を形成するに必要な非金属原子群を表し、R_
    1、R_2は各々水素原子、炭素数1〜6のアルキル基
    を表す。 一般式〔T〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ar_1、Ar_2はアルキル基又はアリール
    基、Ar_3はフェニレン基を表し、Ar_1、Ar_
    2で環を形成してもよい。R_1_1、R_1_2は水
    素原子、アルキル基、アリール基、R_1_3はアルキ
    ル基、アリール基を表し、R_1_2、R_1_3で環
    を形成してもよい。〕
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