JPH0444048A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、特に有機先導電性電子
写真感光体、更に電子写真感光体構成層の膜物性に関す
る。

〔従来の技術〕

カールソン法の電子写真複写機においては、感光体表面
を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を消
去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによっ
て現像し、次いでそのｌ・す像を紙等に転写、定着させ
る。

一方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清浄
化か施され、長期に亘って反復使用される。

従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の
紫外線等への耐性（耐環境性）においても良好であるこ
とが要求される。

従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を感光層主成分とす
る無機感光体か広く用いられていプこ。

近年電子写真用感光体の感光層としてキャリア発生機能
とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望す
る特性に照して各機能を発揮する物質を広い範囲から選
択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用化す
る動向にある。

このような機能分担型の有機感光体は従来主として負帯
電用として用いられ、特開昭６０−２４７６４７号に記
載されるように支持体上に薄いキャリア発生層を設け、
この上に比較的厚いキャリア輸送層を設ける構成がとら
れている。

このような感光体に使用されるバインダとしては、帯電
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールＡ型のポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。

しかし本発明者等が検討を加えた結果、上記ヒスフェノ
ールＡ型ポリカーボネートは、高分子の結晶性か高いた
めその溶液はゲル化を起しやすく、１〜２日程度で使用
不可能となるという欠点分有している。また塗布により
膜形成を行なうと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカー
ポネ−１・が析出して凸部が生じやすく、このために塗
膜の尾引きが生じて収率か低下したり、あるいは感光体
としての使用時に凸部に］・ナーか付着してクリーニン
グされずに残り、いわゆるクリーニング不良による画像
欠陥か生しやすい。

また、上記ビスフェノールＡ型ボリカーポ不一１・をバ
インダ樹脂として用いた電子写真感光体は、電子写真複
写機の感光体として用いると、磁気ブラシやクリーニン
グプレー１〜で擦過され感光層表面に傷が付いたり、感
光層が次第に摩耗するという欠点を有する。

他方、高画質と順調な複写作業性は、感光体の均一な厚
みを有する滑らかで均質な表面性の良否にも依存するの
で、感光体塗布構成層面の構成層を形成する塗料組成或
は塗布、乾燥に起因する柚木肌、ピンポール、塗布筋、
亀裂（ソルベントクラック）等の膜面故障は、複写特性
上及び生産技術」二大いに問題にされる所である。

また、表面性或は滑り性の改善には界面活性剤も有用で
あり、而も懸濁系の塗料に於ては懸濁質の分散及び分散
安定性向」二に有効であり、溶液系塗料に於ても溶解促
進なとに、また塗布性の向上等生産技術上の価値を有す
る。しかしなから、その種類の選択を誤ると、層間接着
不良、その変質による故障或は耐湿性に係る支障を往々
にして惹起す。

前記したような支障に対して、フェニレン環間の炭素に
弗素を有する置換基の導入（特開昭６３−６５４４４％
）　、フェニレン環へのアルキル基、ノｈロケン原子の
置換（特開昭６３−１４８２６３号）、或は両フエーレ
ン環にフェニル基又はシクロヘキシル基を置換した七ノ
で−の共重体（特開平１−２６９９４２号、同］−２６
９９４３号）、或はキャリア輸送物質としてシスヂリル
をヒスフェノールＺ型ポリカーポネーｌ−に併用するこ
と（特開昭６４−３２２６５号）等が提案されているか
、未だ充分な表面強度、表面平滑性がなく、摩耗、傷に
弱く、反復使用において画質の低下か起り、また摩耗に
よる膜厚減少による感度低下等の問題点を残している。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、高感度で、かつ電子写真感光体感光層
の機械的耐久性が高く、表面平滑性が良好であり、画質
低下、感度減退の少い感光体の提供にあり、また他の目
的は感光層塗料のボ・ントライフ（保存性）の良好な感
光体の提供にある。

〔発明の構成〕

前記本発明の目的は、導電性基体上に電荷発生層、電荷
輸送層を順次積層した感光層を有する電子写真感光体に
おいて、前記電荷輸送層のノーインクに、主要繰返し単
位として下記一般式ＣＢ）を構造組成に含む共重合体を
含有し、かつ下記一般式（Ｔ）で表される化合物を含有
することを特徴とする電子写真感光体によって達成され
る。

儀式〔Ｂ〕 式中、Ｒ＋　、　Ｒ２は各々水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基又は炭素数６〜■２のアリール基を表し、Ｒ
１，Ｒ２の少くとも一方はアリール基である。

Ｒ３，ＲｔＲ５＋Ｒ６及びＲ＋、Ｒｇ、Ｒ９＋ＲＩＧは
水素原子、ハロゲン原子又は炭素数ｌ〜６のアルキル基
である。但しすべてが水素原子であることはない。

前記重合体の重合度は１０〜５０００、好ましくけ５０
〜１０００である。

本発明において、前記一般式（Ｂ）を主要繰返し単位と
する重合体をバインタ樹脂として用いることにより皮膜
物性に優れ、電荷保持力、感度残留電位等の電子写真特
性に優れ、かつ繰返し使用に供した時にも疲労劣化が少
ない安定した特性を発揮する電子写真感光体を作成する
ことかできる。

更に必要に応し目的とする作用効果に支障を来さぬ範囲
で他のモノマーを混合して用いることができる。この際
の混入比率は５Ｑｗｔ％以下が好ましい。

本発明のポリカーボネート樹脂は、下記（Ｉ）から選は
れるフェノール系化合物を用いて常法に従い容易に合成
される。

式中、Ｒ、、Ｒ２は各々水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基、炭素数６〜Ｉ２のアリール基を表し、Ｒ１，Ｒ
２の少なくとも一方はアリール基である。

Ｒ３，ＲＩＲ５＋Ｒ６及びＲ７，ＲＢ、ＲＩ、Ｒ１０は
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基を
表す。

本発明の変性ポリカーボネート樹脂を製造する方法は、
具体的には塩化メチレン、１，２−ジクロルエタン等の
不活性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に酸受容体
としてアルカリ水溶液或はビリジン等を入れ、ホスゲン
を導入しながら反応させる。

酸受容体としてアルカリ水溶液を使う時は、触媒として
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第３級アミン
、あるいはテトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジ
ルトリブチルアンモニウムプロミド等の第４級アンモニ
ウム化合物を用いると、反応速度が増大する。

また必要に応じて分子量調節剤としてフェノル、ｐ−ｔ
−ブチルフェノール等−価のフェノルを共存させてもよ
い。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマーを造っ
た後に入れて高分子量化する等任意の方法がとれる。

次に一般式〔Ｂ〕で示される樹脂構造の具体例を挙げる
。

前記したバインダとして用いられるポリカーボ不−１・
に併用して用いてもよいバインダとしては、例えは次の
ものを挙げることかできる。

（１）ポリエステル （２）メタクリル樹脂 （３）アクリル樹脂 （４）ポリ塩化ビニル （５）ポリ塩化ビニリデン （６）ポリスチレン （７）ポリヒニルアセテ−１・ （８）　スチレン共重合樹脂（例えば、スチレンブタヂ
エン共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体
、等） （９）アクリロニトリル系共重合体樹脂（例えば、塩化
ビニリデン−アクリトロニトリル共重合体、等） （１０）塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（２１）　　
塩化ビニル−酢酸ヒニルー無水マレイン酸共重合体 （１２）　　ノリコーン樹脂 （１３）ンリコーンーアルギッド樹脂 （１４）　　フェノール１４脂（例えは、フェノール−
ポルムアルデヒド樹脂、フレソールホルムアルデヒド樹
脂、等） （１５）　　スチレン−アルキッド樹脂（１６）　　ポ
リーＮ−ビニルカルハソール（１７）　　ポリビニルブ
チラール （１８）ポリヒニルホルマール （１９）ボリヒ［・ロキシスチレン これらのバインダは、単独であるいは２種以上の混合物
として本発明に係るカーボネートに併用することができ
る。

次に一般式（Ｔ、］で示されるキャリア輸送物質（ＣＴ
Ｍ）について説明する。

儀式〔Ｔ〕 ｒ１ ■３ ・１ 基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、環無置換
の統記３つの基：縮合多環系炭化水素基、複素環基、縮
合多環系複素環基を表す。

無置換の続記３つの基；縮合多環系炭化水素基、複素環
基、縮合多環系複素環基を表す。

無置換の続記３つの基；縮合多環系炭化水素基、複素環
基、縮合多環系複素環基を表す。

アノ基、置換もしくは無置換の統記３つの基；縮合多環
系炭化水素基、複素環基、縮合多環系複素環基を表し、
又Ａｒ、及びＡｒｓと共同して環を形成してもよい。

Ｒ３は、置換もしくは無置換のアルギル基、フェル基、
アルコキン基、フェノキシ基及びシアノ基、ハロゲン原
子、カルボキシル基、アンル基、ヒドロキンル基、二１
・口塞、アミノ基、更に置換もしくは無置換の統記６つ
の基：アルキルアミノ状炭化水素基、縮合多環系炭化水
素基、複素環基を表ず。

Ｒ、、Ｒ、及びＲ６は、置換もしくは無置換の続記４つ
の基；アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノ
キシ基及びシアノ基、ハロゲン原子、ノＪルボキンル基
、アンル基、ヒドロキンル基、二１−ロ基、アミノ基、
更に置換もしくは無置換の統記６つの基：アルキルアミ
ノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、環状炭
化水素基、縮合多環系炭化水素基、複素環基を表す。

ｉ、に、及び１は、θ〜５の整数を表し、ｊは、０〜４
の整数を表す。

儀式［：Ｔ：ｌで示されるジスチリル化合物はＣＴＭと
して性能か良好てあり、感度増大に好都合である。

］［ｉ Ｔ 】０ は、特に制限はないか、例えばオキサゾール誘導体、オ
キザンアソール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾ
ール誘導体、１−リアソール誘導体、イミダゾール誘導
体、イミタソロン誘導体、イミダソリジン誘導体、ヒス
イミダソリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラノン化
合物、ビラソリン誘導体、アミン誘導体、オキサシロン
誘導体、ベンゾチアソール誘導体、ベンズイミダゾール
誘導体、キナソリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アク
リジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスヂルベン誘
導体、ポリーＮ−ビニルカルハソール、ポリ−１ヒニル
ビレン、ポリ−９−ビニルアントラセン等である。

本発明において用いられるＣＴＭとしては光照射時発生
するポールの支持体側への輸送能力が優れている外、前
記本発明に用いられる有機系顔料との組合せに好適なも
のが好ましい。

本発明の感光体においては、キャリア発生物質（ＣＧＭ
）として次の代表例で示される様な有機顔料か用いられ
る。

（１）モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリアソ顔料、金
属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料 （２）ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料 （３）アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ビラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
多環キノン顔料（４）インジゴ誘導体及びチオインジゴ
誘導体等のインジゴイド顔料 （５）金属７タロンアニン及び無金属フタロシアニン等
のフタロシアニン顔料 特に本発明の電子写真感光体においては、ＣＧＭとして
フルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジス
アゾ顔料、多環キノン顔料、無金属系フタロシアニン顔
料又はオキシチタニル系フタロシアニン顔料等の有機系
顔料が用いられることが好ましい。特に次に示すフルオ
レノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジスアゾ顔
料、多環キノン顔料、Ｘ及びτ型無金属フタロシアニン
及び特開昭６４−１７０６６号で示されるオキシチタニ
ル系フタロシアニン顔料を本発明に用いると、感度、耐
久性及び画質等の点で著しく改良された効果を示す。

本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料は、下
記一般式〔Ｆ、〕で表される。

儀式〔Ｆ１〕 Ｘｌ及びＸ２は、それぞれ、ノ飄ロケン原子、アルギル
基、アルコキノ基、二１・口塞、シアノ基、ヒ１−ロギ
ン基又は置換若しくは無置換のアミノ基を表す。

ｐ及びｑはそれぞれ０．１又は２の整数を表し、ｐ及び
ｑか２のときは、Ｘｌ及びｘ２はそれぞれ同又は異なる
基であってもよい。

Ａは下記一般式（Ｆ、−１）で表される基を示す。

儀式（ｐ、−１） 試料Ｎｏ。

Ｚ′ 式中、Ａｒは弗素化炭化水素基又は置換基を有する芳香
族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。

Ｚは置換若しくは無置換の芳香族炭素環又は置換若しく
は無置換の芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原
子群を表す。ｍ及びｎはそれぞれ０゜１又は２の整数を
表す。但し、ｍ及びｎか同時に０となることはない。

下記に本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料
の具体例を挙げるが、これによって限定されるものでは
ない。

本発明に用いられる前記一般式〔Ｆ１〕で表されるフル
オレノン系ジスアゾ顔料は、公知の方法により容易に合
成され、例えは特願昭６２−３０４８６２号等の方法に
より合成される。

本発明に用いられるフルオレニリデン系ジスアゾ顔料は
下記一般式〔Ｆ２〕で表される。

一般式〔Ｆ２〕 式中、Ａは ０１］ Ｚ　：置換、無置換の次記２つの基；芳香族炭素環、芳
香族複素環を構成するに必要な原子群 Ｙ　：水素原子、ヒドロキン基、カルボギン基、若しく
はそのエステル基、スルホ基、置換、無置換の次記２つ
の基：カルバモイル基、スルファモイル基 Ｒ１：水素原子、置換、無置換の続記４つの基：アルキ
ル基、アミン基、カルバモイル基、カルボキン基若しく
はそのエステル基またはノアノ基 Ａｒ：置換、無置換のアリール基 Ｒ２：置換、無置換の統記３つの基；アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基 を表す。

前記一般式〔Ｆ２〕で示される本発明に有効なジスアゾ
顔料の具体例としては、例えば次の構造式で示されるも
のを挙げることができるが、これによって本発明に用い
られるへきジスアゾ顔料が限定されるものではない。

ｇ 儀式［：Ｑ３）： 本発明に用いられる多環キノン顔料は、儀式〔Ｑ１〕〜
〔Ｑ、〕で表される。

一般式〔Ｑ１〕 下記 各式中、Ｘはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシ
ル基、又はカルボキシ基を表し、ｎは０〜４の”整数を
、ｍは０〜６の整数を表す。

前記一般式〔Ｑ１〕〜〔Ｑ３〕で示される本発明に用い
られる多環キノン顔料の具体例を下記に示すか、これに
限定されるものではない。

儀式〔Ｑ１〕で示されるアン）・アントロン顔料の具体
的化合物例を挙げると次の通りである。

Ｑ、−Ｉ　　　　　　　　　　　　Ｑ、〜２般弐［：Ｑ
２）： 儀式〔Ｑ２〕で示されるジベンズピレンギノン顔料の具
体的化合物例を挙げると次の通りである。Ｑ２−１ 〜３６ 一般式〔Ｑ３〕で示されるピラシトロン顔料の具体的化
合物例を挙げると次の通りである。

本発明に用いられる前記一般式〔Ｑ１〕〜〔Ｑ３〕で表
される多環キノン顔料は、公知の方法により容易に合成
できる。

本発明に使用できる無金属フタロシアニン系顔料として
は、光導電性を有する無金属フタロシアニン及びその誘
導体すへてか使用可能であるが、例えはα型、β型、τ
、　′型、Ｉ、η′型、Ｘ型、及び特開昭６２−１０３
６５１号で述へた結晶形及びその誘導体等を使用できる
。特にｒ、Ｘ、に／Ｒ−Ｘ型を使用することか望ましい
。Ｘ型無金属フタロンアニンについては米国特許３，３
５７，９８９号に記載かあり、τ型無金属フタロシアニ
ンについては特開昭５８−１８２６３９号に記載がある
。Ｋ／Ｒ−Ｘ型は特開昭６２−１０３６５１号にあるよ
うに、ＣｕＫａ、　１５４１人のＸ線に対するブラング
角度（２θ±０．２度）において、７．７．９．２．１
６．８．１７．５．２２．４．２８．８度に主要なピー
クを有し、且つ９．２度のピーク強度に対して１６．８
度のピーク強度比が０．８〜１．０であり、また２２．
４度に対する２８．８度のピーク強度比か０．４以上で
ある事を特徴とするフタロシアニンである。

本発明で用いられるオキシチタニルフタロシアニンは、
下記一般式（ＴＰ）で表される。

儀式（ＴＰ） 式中、ｘ、、ｘ２．ｘ３．ｘ４は各々独立にＨ，ＣＱ又
はＢｒを表し、ｎ、ｍ、＋１！、には各々独立に０〜４
の数字を表す。

本発明に用いられるオキ／チタニルフタロシアンのうち
、特に好適なものは、オキ／チタニルフタロシアン（Ｔ
ｉ０Ｐｃ）、チタニルクロロフタロシアニン（Ｔｉ０Ｐ
ｃ（ｊ２）及びそれらの混合物である。

これらのオキ／チタニルフタロシアンとしてよ以下で示
す特許て公開された結晶型の異なるものか知られている
。例えば特開昭６１−２３９２４８号、同６２−６７０
９４３号、同６２−２７２２７２号、同６３−１１６１
．５８号又は同６４−１７０６６号等か挙けられる。

本発明に用いられる有機系顔料の分散媒としては、例え
はヘキサジ、ベンセン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類、メチレンクロライド、メチレンプロマイＦ、１．
２−ジクロルエタン、ｓｙｍ−テトラクロルエタン、ｃ
ｉｓ−１，２−ジクロルエチレン、１゜１２４１Ｊクロ
ルエタン、１．１．１−トリクロルエタン、１２−ジク
ロルプロパン、クロロホルム、ブロモホルム、クロルヘ
ンセン等の７・ロケン化炭化水素、アセトン、メチルエ
チルケ［・ン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノ
ール、プロパツル、フタノール、シクロヘキサノール、
ヘプタツル、エチレングリコール、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のアルコル及ヒこ
の誘導体、テトラヒドロフラン、１，４〜ジオキサン、
７ラン、フルフラール等のエーテル、アセタール類、ピ
リジンやブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジア
ミン、インプロパツールアミン等のアミン類、Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド等のアミド類等の窒素化合物他に
脂肪酸及びフェノール類、二硫化炭素や燐酸トリエチル
等の硫黄、燐化合物等か挙げられる。

本発明において感光層には感度の向上、残留電位乃至反
復使用時の疲労低減等を目的として、種又は二種以上の
電子受容性物質を含有せしめることができる。

ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えは、無水琥珀酸、゛無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、
４−二ｌ・ロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水
メリント酸、テトランアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼ
ン、１，３．５−１−゛リニトロベンゼン、バラニトロ
ベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイ
ミド、クロラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノバラ
ベンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノ
ン、２．７−ジニＩ−ロフルオレノン、２．４．７−　
トリニトロフルオレノン レノン、９−フルオレニリデン［ジシアノメヂレンマロ
ノジニトリル］、ポリニ）・ロー９−フルオレニリデン
−［シンアノメチレンマロノジニｌ−　ＩＪル１、ヒフ
リン酸、０−ニトロ安息香酸、ｐ−二ｌ・口安息香酸、
３５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５
−二トロザリチル酸、３，５−ジニトロ安息香酸、フタ
ル酸、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物
を挙けることかできる。又、電子受容性物質の添加割合
は、重量比で本発明に用いられる有機系顔料：電子受容
性物質−１００：Ｏ。０１〜２００、好ましくは１００
　：　０．１〜１００である。

かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比で全Ｃ
ＴＭ　：電子受容性物質−１００　：　０．０１〜１０
０、好ましくは１００・０．１〜５０である。

又、本発明の感光層中にはＣＧＭの電荷発生機能を改善
する目的で有機アミン類を添加することかでき、特に２
級アミンを添加するのが好ましい。

これらの化合物は特開昭５９−２１８４４７号、同６２
−８１６０号に記ηにされている。

又、本発明の感光層においては、オゾン劣化防止の目的
で酸化防止剤を添加することができる。

かかる酸化防止剤の代表的具体例を以下に示すが、これ
に限定されるものではない。

ｒ　−ｎ　；ヒンダードフェノール類、］］’Ｊ−Ｒ；
パラフェニレンジアミンＭｎＴ−群；ハイドロキノン類
、■−群；有機硫黄化合物類、■−群；有機燐化合物類
が挙げられる。

これらの化合物は例えは特開昭６３−１８３５４号に開
示されている。

これらの化合物はゴム、プラスチック、油脂類等の酸化
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
。

酸化防止剤の添加量はＣＴＭ　１００重量部に対して０
．１〜１００重量部、好ましくは１〜５０重量部、特に
好ましくは５〜２５重量部である。

又本発明の感光体には、その他、必要により感光層を保
護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また感
色性補正の染料を含有してもよい。

また本発明に係る保護層中には加工性及び物性の改良（
亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要により熱可
塑性樹脂を５０ｗ［％未満含有せしめることかできる。

又、前記中間層は接着層又はブロッキング層等として機
能するもので、上記パインタ樹脂の外に、例えはボリヒ
ニルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、塩化ヒ
ニル−酢酸ヒニルー無水マレイン酸共重合体、カセイン
、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられ
る。

本発明の電子写真感光体の構成に用いられる導電性支持
体としては、主として下記のものが用いられるか、これ
らにより限定されるものではない。

１）アルミニウム板、ステンレス板なとの金属板。

２）紙あるいはプラスチックフィルムなとの支持体上に
、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミ
イ・−１・もしくは蒸着によって設けたもの。

３）紙あるいはプラスチックフィルムなとの支持体上に
、導電性ポリマ、酸化インジウム、酸化錫なとの導電性
化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたもの。

本発明の感光体は、第１図及び第２図に示すように導電
性支持体１上にＣＧＭを主成分とするＣＣｌ２と本発明
に係るＣＴＭを主成分として含有するＣＴＬ　３との積
層体より成る感光層４を設ける。第３図及び第４図に示
すようにこの感光層４は、導電性支持体■上に設けた中
間層５を介して設けてもよい。

このように感光層４を二層構成としたときに最も優れた
電子写真特性を有する電子写真感光体が得られる。　又
、本発明においては、第５図及び第６図に示すように前
記ＣＴＭを主成分きする層６中に微粒子状のＣＧＭ７を
分散してなる感光層４を導電性支持体１上に直接あるい
は、中間層５を介して設けてもよい。

更に前記感光層４の」二には必要に応じ保護層８を設け
てもよい。

ここで感光層４を二層構成としたときにＣＣｌ２とＣＴ
Ｌ　３のいずれを上層とするかは、帯電極性を正、負の
いずれに選ぶかによって決定される。すなわち負帯電型
感光層とする場合は、ＣＴＬ３を上層とするのが有利で
あり、これは該ＣＴＬ３中のＣＴＭが、正孔に対して高
い輸送能を有する物質であるからである。

又、二層構成の感光層４を構成するＣＧＴ、２は、導電
性支持体１もしくはＣＴＬ’　３上に直接あるいは必要
に応して接着層もしくはブロッキング層などの中間層を
設けた上に、次の方法によって形成することかできる。

（１）真空蒸着法 （２）ＣＧＭを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布する方
法 （３）　　ＣＧＭをボールミル、サンドグラインダ等に
よって分散媒中で微細粒子状とし必要に応し・１５ Ｉ６ て、バインダと混合分散して得られる分散液を塗布する
方法。

即ち具体的には、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＩ）
等の気相堆積法あるいはディッピング、スプレィ、ブレ
ード、ロール法等の塗布方法か任意に用いられる。

このようにして形成されるＣＧＬ２の厚さは、０．０１
μＩ１１〜５μｍであることが好しく、更に好しくは０
．０５Ｊ１ｍ〜３μｍである。

またＣＴＬ　３の厚さは、必要に応して変更し得るか通
常５μｍ〜３０μｍであることか好ましい。このＣＴＬ
　３における組成割合は、本発明のＣＴＭ　１重量部に
対してハイフタ０．１〜５重量部とするのか好ましいが
、微粒子状のＣＧＭを分散せしめた感光層４を形成する
場合は、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量部
以下の範囲で用いることか好ましい。

またＣＧＬをハイフタ中分散型のものとして構成する場
合には、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量部
以下の範囲で用いることか好ましい。

本発明の感光体は以上のような構成であって、後述する
ような実施例からも明らかなように帯電特性、感度特性
、画像形成特性に優れたものである。特に反復転写式電
子写真方式に供したときにも疲労劣化が少なく耐久性が
優れたものである。

〔実施例〕

以下本発明の実施例を具体的に説明するが、これにより
本発明の実施態様か限定されるものではない。

実施例１ ε−アミノ−カプロン酸、アジピン酸及び卜（βアミノ
エチル）ピペラジンの比率が１：１：ｌのモノマー組成
で共重合されたポリアミド３０ｇを５０００に加熱した
８００ｍ１２のメタノール（ＥＬ規格：関東化学社製）
へ撹拌しなから投入し、溶解させた。

室温迄冷却後、ｌ−ブタノール（特級：関東化学社製）
　２００ｍ（＋を加えた。その後、直径８０ｍｍのアル
ミラムドラム上へ浸漬塗布し、０，５μｍ厚の中間層を
形成した。

次にＣＧＭとしてフルオレノン系ジスアゾ顔料（例示Ｆ
　＋　　２３）　２０ｇ及びバインダとしてポリビニル
ブチラール樹脂エスレツクＢＸ−１　（漬水化学社製）
ｌｏｇをメチルエチルヶ１へン（関東化学社％　Ｅｌ、
規格）　１０００ｍＱへ溶解し、ボールミルにて２４時
間ミリングを行ない、ＣＧＬ塗工液を得た。これを上記
中間層上に浸漬塗布して０３μｍ厚のＣＧＬを形成しｔ
こ。

その後、前記例示Ｔ　−　２；１２０ｇと重合体Ｂ−１
；１６５ｇを１，２−ジクロルエタン（特級；関東化学
社製）　１０００ｍ１２へ溶解させ、ＣＴＬ塗工液を得
た。これを」二記ＣＧＬ上に浸漬塗布後、１００°Ｃで
１時間乾燥し、２０μｍ厚のＣＴＬを形成した。このよ
うにして、中間層−ＣＧＬ−　ＣＴＬを順次積層して成
る感光体を作成した。

実施例２ ＣＴＭを例示Ｔ−３とした以外は実施例１と同様にして
感光体を作成した。

実施例３ 中間層の形成は実施例Ｉと同様に行った。

ＣＧＭとして、多環キノン系顔料（例示Ｑ，−３）２０
ｇ及びバインダとしてポリカーボ不−１・樹脂Ｌ１２５
０　（音大化成社製）ｌＯｇを１．２−ジクロルエタン
（特級；関東化学社製）へ溶解し、ボールミルにて２４
時間ミリングを行いＣＧＬ塗工液全得た。これを上記中
間層上に浸漬塗布して０．３μｍ厚のＣＧＬを形成した
。

次いでＣＴＭを例示Ｔ−１、バインダを共重合体Ｂ−２
とした以外は実施例１と同様にＣＴＬを積層し、感光体
を作成した。

実施例４ ＣＴＭを例示Ｔ−１５、ＣＴＬバインダを重合体Ｂ２と
した以外は実施例１と同様にして感光体を作成した。

実施例５ ポリヒニルブチラール樹脂（エスレノクＢＸ−　］、積
氷水化学社製　１２ｇをメチルエチルケトンｌｏ００ｍ
（１に溶解しさせた後、ＣＧＩ，Ｉとして例示Ｑ　＋　
３　；５ｊｇ　１例示Ｆ＋　　２３；Ｏｉｇを混合し、
→）−ンドグラインダで１０時間分散した。

これを実施例１で記した中間層上に浸漬塗布し、ＣＧＬ
を形成、更に実施例２と同様にしてＣＴＬを形成し、感
光体を作成した。

実施例６ 実施例１で用いたポリアミド５０ｇを５０°Ｃに加熱し
た８００＋＋＋＋２のメタノール（ＥＬ規格：関東化学
社製）へ撹拌しながら投入し、溶解させた。室温迄冷却
後、１−ブタノール（特級；関東化学社製）　２００ｍ
０゜を加えた。次いで直径８０ｍｍのアルミニウムドラ
ム」ニへ浸漬塗布し、１μｍ厚の中間層を形成した。

次にＣＧＭとしてｒ型態金属フタロシアニン（τ−Ｐｃ
）４０ｇをシリコーン樹脂ｒＫＲ−５２４０Ｊ（固形分
２０％）（信越化学社製）２００ｇを溶解したメチルエ
チルケトン（ＥＬ規格；関東化学社製）　２０００ｍ１
２に加えてサンドグラインタにて４時間分散さぜ、ＣＧ
Ｌ塗工液を得た。これを上記中間層」二に浸漬塗布して
０．５μｍ厚のＣＧＬを形成した。

その後、前記例示Ｔ−７；１２０ｇと重合体Ｂ１　；　
１６５ｇを１．２−ジクロルエタン（特級：関東化学社
製）　１００１００Ｏへ溶解させ、ＣＴＬ塗工液を得た
。

これを上記ＣＧＬ上に浸漬塗布した後、１００°０１１
時間乾燥を行ない、２０μｍ厚のＣＴＬを得た。中間Ｃ
ＧＬ及びＣＴＬの順に積層して成る感光体を作成しＩこ
。

実施例７ ＣＧＭにＸ型無金属フタロシアニン（Ｘ−Ｐｃ）を、Ｃ
ＴＬバインタとして共重合体１３−３を用いた以外は、
実施例６と同様にして中間層−ＣＧＬ−ＣＴＬを順次積
層して成る感光体を作成した。

実施例８ ＣＧＭにＹ型オキノチタニウムフタロンアニン（Ｙ−Ｔ
ｉＯＰｃ）をＣＴＬバインタとして共重合体Ｂ−５を用
いた以外は、実施例６と同様にして中間層ＣＧＬ　−Ｃ
ＴＬ　ｆｉ：順次積層して成る感光体を作成した。

又、ＣＴＬ塗布液はいずれも１ケ月放置しても安定であ
った。

比較例１ 実施例１てＣＴＬパインタとしてビスフェノールＡポリ
カーボ不−１・（量大化成パンライト　Ｋ−１３００）
を用いた以外は同様にして感光体を作成した。

比較例２ 実施例４でＣＴＬハインタとしてヒスフェノールＡボリ
カーボイ、−トを用いた以外は同様にして感光体を作成
した。

しかしながら、塗布液の安定性が悪く放置による大幅な
粘度」１昇か見られ、１ケ月後には完全にゲル状になり
、例えば超音波処理等の再分散処理を施しても元に戻ら
ず、不安定な液しか得られなかった。

比較例３ 実施例１でＣＴＭとして下記スチリル化合物を用Ｇまた
以外は同様にして感光体を作成した。

比較例４ 実施例】でＣＴＭとして下記ピラゾロン化合物を用いた
以外は同様にして感光体を作成した。

繰返し特性の測定 実施例１〜５及び比較例１〜４の感光体を各々ｒ　Ｕ　
４１ｉｘ　２０２５Ｊ　（コニカ社製）に搭載し、１０
万回コピーの実写を行うと共に、実写前後での表面電位
を測定した。

黒紙電位：反射濃度１．３の原稿に対する表面電位白紙
電位二反射濃度０．０の原稿に対する表面電位残留電位
：除電後の表面電位 又、実施例６〜８の本発明に係る感光体を［ＵＢｉｘ　
２０２５Ｊ　（コニカ社製）（半導体レーザ光源搭載）
改造機に搭載し、ｖＨか一７００±ｌｏ［Ｖ］になるよ
うにクリッド電圧を調節し、０．７ｍＷの照射時の露光
面の電位を■、とし、現像バイアス−６００［Ｖ］で反
転現像を行い、同様に実写前後での表面電位を測定した
。

表面の摩擦による膜減耗については、ｌＯ万コピ終了後
、感光体膜厚を測定し、初期と比較した。

画質については、逐次画像サンプルをチエツクし、ドラ
ム周方向のキスに基づくスジ（反転現像の場合はモアレ
）、クリーニング不良の発生コピ５：（ 数を比較した。

以上の結果を表１に掲げた。

〔発明の効果〕

本発明感光体は、優れた電子写真性能を有し、繰返し使
用によっても特性変化が少ない上に、耐摩耗性にも優れ
るので、極めて高い耐刷性能を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図はそれぞれ本発明の感光体の機械的構成
例について示す断面図である。 １・・・導電性支持体 ２・・・キャリア発生層 ３・・・キャリア輸送層 ４・・・感光層 ５・・・中間層 ６・・・キャリア輸送物質を含有する層７・・・キャリ
ア発生物質 ８・・・保護層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 導電性基体上に電荷発生層、電荷輸送層を順次積層した
   感光層を有する電子写真感光体において、前記電荷輸送
   層のバインダに、主要繰返し単位として下記一般式〔Ｂ
   〕を構造組成に含む重合体を含有し、かつ下記一般式〔
   Ｔ〕で表される化合物を含有することを特徴とする電子
   写真感光体。 一般式〔Ｂ〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は各々水素原子、炭素数１〜６
   のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、
   Ｒ＿１、Ｒ＿２の少くとも一方はアリール基である。 Ｒ＿３、Ｒ＿４Ｒ＿５、Ｒ＿６及びＲ＿７、Ｒ＿８、Ｒ
   ＿９、Ｒ＿１＿０は水素原子、ハロゲン原子又は１〜６
   アルキル基である。〕一般式〔Ｔ〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ａｒ＿１は、▲数式、化学式、表等があります
   ▼、置換もしくは無置換の続記３つの基；縮合多環系炭
   化水素基、複素環基、縮合多環系複素環基を表す。 Ａｒ＿２及びＡｒ＿３は、▲数式、化学式、表等があり
   ます▼、置換もしくは無置換の続記３つの基；縮合多環
   系炭化水素基、複素環基、縮合多環系複素環基を表す。 Ａｒ＿４及びＡｒ＿５は、▲数式、化学式、表等があり
   ます▼、置換もしくは無置換の続記３つの基；縮合多環
   系炭化水素基、複素環基、縮合多環系複素環基を表す。 Ｒ＿１及びＲ＿２は、▲数式、化学式、表等があります
   ▼、水素原子、シアノ基、置換もしくは無置換の続記３
   つの基；縮合多環系炭化水素基、複素環基、縮合多環系
   複素環基を表し、又Ａｒ＿４及びＡｒ＿５と共同して環
   を形成してもよい。 Ｒ＿３は置換もしくは無置換のアルキル基、フェニル基
   、アルコキシ基、フェノキシ基及びシアノ基、ハロゲン
   原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニ
   トロ基、アミノ基、更に置換もしくは無置換の続記６つ
   の基；アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキ
   ルアミノ基、環状炭化水素基、縮合多環系炭化水素基、
   複素環基を表す。 Ｒ＿４、Ｒ＿５及びＲ＿６は、置換もしくは無置換の続
   記４つの基；アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、
   フェノキシ基及びシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシ
   ル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基
   、更に置換もしくは無置換の続記６つの基；アルキルア
   ミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、環状
   炭化水素基、縮合多環系水素基、複素環基を表す。 ｉ、ｋ、およびｌは、０〜５の整数を表し、ｊは、０〜
   ４の整数を表す。〕