JPH0444049A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子写真感光体に関し、特に有機光導電性電子
写真感光体、更に電子写真感光体構成層の膜物性に関す
る。

〔従来の技術〕

カールソン法の電子写真複写機においては、感光体表面
を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を消
去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによっ
て現像し、次いでその１・す像を紙等に転写、定着させ
る。

方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清浄化
が施され、長期に亘って反復使用される。

従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
か良好で更に暗減衰か小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時に発生ずるオゾン、露光時の
紫外線等への耐性（耐環境性）においても良好であるこ
とが要求される。

従来、電子写真感光体どしては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を感光層主成分とす
る無機感光体が広く用いられていｌこ。

近年電子写真用感光体の感光層としてキャリア発生機能
とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望す
る特性に照して各機能を発揮する物質を広い範囲から選
択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用化す
る動向にある。

このような機能分担型の有機感光体は従来上として負帯
電用として用いられ、特開昭６０−２４７６４７号に記
載されるように支持体上に薄いギヤリア発生層を設け、
この上に比較的厚いギヤリア輸送層を設ける構成がとら
れている。

このような感光体に使用されるバインダとし−Ｃは、帯
電特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記
構造式で示されるビスフェノールＡ型のポリカーボ不−
１・か良好な特性を発揮することが良く知られている。

し１−１３ しかし本発明者等か検討を加えた結果、上記ヒスフェノ
ールＡ型ポリカーボネートは、高分子の結晶性か高いた
めその溶液はゲル化を起しやすく、１〜２日程度で使用
不可能となるという欠点を有している。また塗布により
膜形成を行なうと塗膜形成時に膜表面に結晶性ボリカー
ボ不＝１・が析出して凸部か生しやすく、このために塗
膜の尾引きが生して収率か低下したり、あるいは感光体
としての使用時に凸部にトナーがイＪ−着してクリーニ
ングされずに残り、いわゆるクリーニング不良による画
像欠陥が生じやすい。

また、上記ビスフェノールＡ型ボリカーボイ、１・をバ
インダ樹脂として用いた電子写真感光体は、電子写真複
写機の感光体として用いるど、磁気プランやクリーニン
グブレードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光
層が次第に摩耗するという欠点を有する。

他方、高画質と順調な複写作業性は、感光体の均一な厚
みを有する滑らかで均質な表面性の良否にも依存するの
で、感光体塗布構成層面の構成層を形成する塗料組成或
は塗布、乾燥に起因する柚木肌、ピンホール、塗布筋、
亀裂（ソルベントクラック）等の膜面故障は、複写特性
上及び生産技術上太いに問題にされる所である。

また、表面性或は滑り性の改善には界面活性剤も有用で
あり、而も懸濁系の塗料に於ては懸濁質の分散及び分散
安定性向上に有効であり、溶液系塗料に於ても溶解促進
なとに、また塗布性の向上等生産技術上の価値を有する
。しかしながら、その種類の選択を誤ると、層間接着不
良、その変質による故障或は耐湿性に係る支障を往々に
して惹起す。

前記したような支障に対して、フェニレン環間の炭素に
弗素を有する置換基の導入（特開昭６３−６５４４４号
）　、フェニレン環へのアルキル基、ハロゲン原子の置
換（特開昭６３−１４８２６３号）、或は両フェレン環
にフェニル基を又はシクロヘキンル基を置換した七ツマ
−の共電体（特開平１−２６９９４２号、同］−２６９
９４３号）等が提案されているが、未だ充分な表面強度
、表面平滑性かなく、化学的にはオゾン、物理的には摩
耗、傷に弱く、反復使用において画質の低下が起り、ま
た摩耗による膜厚減少による感度低下等の問題点を残し
ている。

〔発明の目的〕 本発明の目的は、電子写真感光体感光層の機械的耐久性
か高く、表面平滑性が良好であり、耐オゾン性が良好で
、画質低下、感度減退の少い感光体の提供にあり、また
他の目的は感光層塗料のボッｌ・ライフ（保存性）の良
好な感光体の提供にある。

〔発明の構成〕

前記本発明の目的は、導電性基体上に電荷発生層、電荷
輸送層を順次積層した感光層を有する電子写真感光体に
おいて、前記感光層のバインダに、主要繰返し単位とし
て下記一般式〔Ｂ〕を構造組成に含む重合体を含有し、
かつ下記−儀式ＣＴ）で表される化合物を含有すること
を特徴とする電子写真感光体によって達成される。

儀式（Ｂ） 式中、Ｒ１，Ｒ２は水素原子、炭素数１〜６のアルキル
基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ１，Ｒ２
の少くとも一方はアリール基である。

Ｒ、、Ｒ、Ｒ５，Ｒ、及びＲ？　、　Ｒｓ　、　Ｒ＋　
、　Ｒ＋　ｏは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜
６のアルキル基である。

前記重合体の重合度は１０〜５０００、好ましくは５０
〜１０００である。

本発明において、前記一般式〔Ｂ〕を主要繰返し単位と
する重合体をハインタ樹脂として用いることにより皮膜
物性に優れ、電荷保持力、感度残留電位等の電子写真特
性に優れ、かつ繰返し使用に供した時にも疲労劣化か少
ない安定した特性を発揮する電子写真感光体を作成する
ことができる。

更に必要に応し目的とする作用効果に支障を来さぬ範囲
で他のモノマーを混合して用いることができる。この際
の混入比率は５０ｗＬ％以下か好ましい。

本発明のボリカーボ不−ｌ−樹脂は、下記（Ｉ）から選
はれるフェノール系化合物を用いて常法に従い容易に合
成される。

Ｒｈ　　Ｒ６Ｒ２Ｒ＋　　　Ｒｈ。

式中、Ｒ、、Ｒ２は各々水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基、炭素数６〜■２のアリール基を表し、Ｒ，、Ｒ
２の少なくとも一方はアリール基である。

Ｒ３，ＲｔＲｓ、Ｒａ及びＲ＋、Ｒｇ、Ｒ５，Ｒｈｏは
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基を
表す。

本発明の変性ボリカーボ不−１・樹脂を製造する方法は
、具体的には塩化メチレン、１．２−ジクロルエタン等
の不活性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に、酸受
容体としてアルカリ水溶液或はピリジン等を入れ、ホス
ゲンを導入しながら反応させる。

酸受容体どしてアルカリ水溶液を使う時は、触媒として
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第３級アミン
、あるいはテトラブチルアンモ−ウムクロリド、ベンジ
ルトリブチルアンモニウムプロミド等の第４級アンモニ
ウム化合物を用いるど、反応速度か増大する。

また必要に応して分子量調節剤としてフェノール、ｐ−
ｔ−ブヂルフェノール等−画のフェノールを共存させて
もよい。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマーを
造った後に入れて高分子量化する等任意の方法かとれる
。

次に一般式〔Ｂ〕で示される樹脂構造の具体例を挙げる
。

Ｂ−］ ５］ Ｃ） 前記したバインダとして用いられるポリカーボ不−１・
に併用して用いてもよいバインダとしては、例えば次の
ものを挙げることかできる。

（１）　ポリエステル （２）　メタクリル樹脂 （３）アクリル樹脂 （４）ポリ塩化ビニル （５）ポリ塩化ビニリデン （６）ポリスチレン ボリヒニルアセテート スチレン共重合樹脂（例えは、スチレンブタヂエン共重
合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、等） アクリロニ）・リル系共重合体樹脂（例えは、塩化ヒニ
リデンーアクリトロニトリル共重合体、等） 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 塩化ヒニルー酢酸ビニルー無水マレイン酸共重合体 ンリコーン樹脂 シリコーン−アルキッド樹脂 フェノール樹脂（例えば、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、等） スチレン−アルギンＦ　Ｍ？　脂 ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール ポリヒニルブチラール ポリビニルボルマール ポリヒドロキシスチレン これらのバインダは、単独であるいは２種以上の混合物
として本発明に係るカーボネートに併用することができ
る。

次に一般式〔Ｔ〕で示されるキャリア輸送物質（ＣＴＭ
ど標記）について説明する。

−儀式ＣＴ） ソール環、インドリン環等の環を形成してもよく、又Ｒ
１□、Ｒ１３のなず環は５〜７員の炭素環又は複素環で
ある。

前記化合物はＣＴＭとして良好な性能を有し、感度増大
に好都合である。

以下−儀式〔Ｔ〕で表される化合物の例を述へるが、こ
れに限定されるものではない。

ニー儀式〔Ｔ〕化合物の具体例： 式中、Ａｒ、、Ａｒ２はアルキル基又はアリール基を表
し、Ａｒ３はフェニレン基を表し、Ａｒ、、Ａｒ２で環
をなしてもよい。Ｒ＋＋、Ｒ＋□は水素原子、アルキル
基、又はアリール基を表し、Ｒ３，はアルキル基又はア
リール基を表し、Ｒ，、、Ｒ，、で環をなしてもよい。

アリール基とはフェニル基、ナフチル甚、縮合多環を表
し、Ａ　ｒ、、Ａ　ｒ２．Ａ　ｒ３．Ｒ、、、Ｒ，２，
Ｒ，３で述べた、アルキル基及びアリール基にはアルギ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アミノ基等ノ置換
基を含んでいてもよい、Ａ　ｒ　＋　＋　Ａ　ｒ　２で
カルバ′「 ２コ） ２つ 本発明において併用して使用可能なＣＴＭとしＣは、特
に制限はないか、例えはオキサソール誘導体、オキサジ
アゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘
導体、トリアゾール誘導体、イミダソール誘導体、イミ
ダシロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾ
リジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピ
ラゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサゾロン誘導体、
ベンゾチアゾール誘導体、ペンズイミタゾール誘導体、
キナゾリン誘導体、ペンツフラン誘導体、アクリジン誘
導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポ
リ−Ｎ−上ニルカルバゾール、ポリ−１ヒニルビレン、
ポリ−９−ビニルアントラセン等である。

本発明において用いられるＣＴＭとしては光照射時発生
するホールの支持体側への輸送能力か優れている外、前
記本発明に用いられる有機系顔料との組合せに好適なも
のか好ましい。

、Ｅ発明の感光体においては、キャリア発生物質（ＣＧ
Ｍ）として次の代表例で示される様な有機顔料か用いら
れる。

（１）モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリアゾ顔料、金
属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料 （２）ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料 （３）アントラキノン誘尋体、アントアントロン誘導体
、ジベンスビレンキノン誘導体、ピクン］・ロン誘導体
、ヒオラントロン誘導体及びイソヒオラン）・ロン誘導
体等多環キノン顔料（４）　インジゴ誘導体及びチオイ
ンジゴ誘導体等のインジゴイド顔料 （５）金属フタロンアニン及び無金属フタロ／アン等の
フタロシアニン顔料 特に本発明の電子写真感光体においては、ＣＧＭとして
フルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジス
アゾ顔料、多環キ，ノン顔料、無金属系フタロ／アニン
顔料又はオキシチタニル系フタロシアニン顔料等の有機
系顔料が用いられることが好ましい。特に次に示すフル
オレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン系ジスアソ
顔料、多環キノン顔料、Ｘ及びｒ型無金属フタロノアニ
ン及び特開昭６４−１７０６６号で示されるオキシチタ
ニル系フタロシアニン顔料を本発明に用いると、感度、
耐久性及び画質等の点で著しく改良された効果を示す。

本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料は、下
記−儀式〔Ｆ１ａで表される。

儀式〔Ｆ１ａ Ｘ，及びＸ２は、それぞれ、ハロゲン原子、アルギル基
、アルコキシ基、二１・口↓（、ンアノ基、ヒドロギ／
基又は置換若しくけ無置換のアミン基を表す。

ｐ及びｑはそれぞれ０．１又は２の整数を表し、ｐ及び
ｑが２のときは、Ｘｌ及びＸ２はそれぞれ同又は異なる
基であってもよい。Ａは下記−儀式〔Ｆｌ−■〕で表さ
れる基を示す。

−儀式［：Ｆ．−］、） Ｚ′ 式中、Ａｒは弗素化炭化水素基又は置換基を有する芳香
族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。

Ｚは置換若しくは無置換の芳香族炭素環又は置換若しく
は無置換の芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原
子群を表す。ｍ及びｎはそれぞれ０。

１文は２の整数を表す。但し、ｍ及びｎが同時に０とな
ることはない。

；）１ 下記に本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料
の具体例を挙げるが、 これによって限定 されるものではない。

試料Ｎｏ。

≦し 本発明に用いられる前記−儀式〔Ｆ１〕で表されるフル
オレノン系ジスアゾ顔料は、公知の方法により容易に合
成され、例えば特願昭６２−３０４８６２号等の方法に
」：り合成される。

本発明に用いられるフルオレニリデン系ジスアゾ顔料は
下記−儀式〔Ｆ２〕で表される。

−儀式〔Ｆ２〕 ＣＮ　　　　ＣＮ 式中、Ａは Ｈ ２置換、無置換の次記２つの基：芳香族炭素環、芳香族
複素環を構成するに必要な原子群 Ｙ　・水素原子、ヒドロキン基、カルボキシ基、若しく
はそのエステル基、スルホ基、置換、無置換の次記２つ
の基：ノノルバモイル基、スルファモイル基 Ｒ１、水素原子、置換、無置換の続記４つの基。

アルギル基、アミン基、ノノルバモイル基、カルボキン
基若しくはそのエステル基またはンアノ基 Ａｒ　　置換、無置換のアリール基 Ｒ２：置換、無置換の統記３つの基：アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基 を表ず。

前記−儀式〔Ｆ２〕で示される本発明に有効なジスアゾ
顔料の具体例としては、例えば次の構造式で示されるも
のを挙げることかできるか、これによって本発明に用い
られるべきジスアゾ顔料が限定されるものではない。

しＵ 旧 儀式 本発明に用いられる多環キノン顔料は、儀式〔Ｑ１〕〜
〔Ｑ、〕で表される。

儀式〔Ｑ 〕 一般式（Ｑ２）： 各式中、Ｘはハロゲン原子、二ｌ−ロ基、シアノ基、ア
／ル基、又はカルボキン基を表し、ｎは０〜４の整数を
、ｍはＯ〜６の整数を表す。

前記−儀式〔Ｑ１〕〜〔Ｑ３〕で示される本発明に用い
られる多環キノン顔料の具体例を下記に示すが、これに
限定されるものではない。

儀式〔Ｑ１〕で示されるアントアントロン顔料の具体的
化合物例を挙げると次の通りである。

Ｑ、−Ｉ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
Ｑ、−２１１・１ Ｑ　。

Ｑ、−４ 儀式〔Ｑ２〕で示されるジベンスビレンキノン顔料の具
体的化合物例を挙げると次の通りである。

儀式〔Ｑ３〕 で示されるビラントロンＩＮの 具体的化合物例を挙げると次の通りである。

す 本発明に用いられる前記−儀式（Ｑ、）〜〔Ｑ、〕で表
される多環キノン顔料は、公知の方法により容易に合成
できる。

本発明に使用できる無金属フタロシアニン系顔料として
は、光導電性を有する無金属フタロシアニン及びその誘
導体すべてが使用可能であるが、例えはα型、β型、　
、　　Ｊ型、η１η′型、Ｘ型、及び特開昭６２−１０
３６５１号で述べた結晶形及びその誘導体等を使用でき
る。特にｒ、Ｘ、に／ＲＸ型を使用することが望ましい
。Ｘ型無金属フタロシアニンについては米国特許３，３
５７．９８９号に記載かあり、τ型無金属フタロシアニ
ンについては特開昭５８−１８２６３９号に記載がある
。Ｋ／Ｒ−Ｘ型は特開昭６２−１０３６５１号にあるよ
うに、ＣｕＫσ、１．５４１人のＸ線に対するブラング
角度（２θ±０．２度）において、７．７．９．２．　
＋６．８．１７．５．２２．４．２８．８度に主要なピ
ークを有し、且つ９．２度のピーク強度に対して１６．
８度のピーク強度比が０．８〜１．０であり、また２２
．４度に対する２８．８度のピーク強度比が０４以」二
である事を特徴とするフタロシアニンである。

本発明で用いられるオキシチタニル７タロンアニンは、
下記−儀式ＣＴＰ）で表される。

−儀式（ＴＰ） 式中、Ｘ　Ｉｔ　Ｘ　２．　Ｘ　３．　Ｘ　ｔは各々独
立にＨＣＱ又はＢｒを表し、ｎ、ｍ、１２．には各々独
立に０〜４の数字を表す。

本発明に用いられるオキシチタニル７タロンアニンのう
ち、特に好適なものは、オキシチタニル７タロンアニン
（Ｔｉ０Ｐｃ）、チタニルクロロフタロシアニン（Ｔｉ
０ＰｃＣＱ）及びそれらの混合物である。

これらのオキシチタニルフタロシアニンとしては以下で
示す特許で公開された結晶型の異なるものが知られてい
る。例えば特開昭６１−２３９２４８号、同６２−６７
０９４３号、同６２−２７２２７２号、同６３−１１６
１５８号又は同６４１７０６６号等か挙げられる。

本発明に用いられる有機系顔料の分散媒としては、例工
ばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キンレン等の炭化水
素類、メチレンクロライド、メチレンブロマイド、１．
２−ジクロルエタン、ｓｙｍ−テ１−ラクロルエタン、
ｃｉｓ−１，２−ジクロルエチレン、１１２−トリクロ
ルエタン ■２ージクロルプロパン、クロロホルム、ブロモポルム
、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキザノン等のケトン類、
酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、
エタノール、クロルノル、ブタノール、／クロヘキザノ
ール、ヘプタツル、エチレングリコール、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のアルコー
ル及びこの誘導体、テトラヒドロフラン、１，４−ジオ
キサン、フラン、フルフラール等のエーテル、アセター
ル類、ピリジンやブチルアミン、ジエグールアミン、エ
チレンジアミン、インプロパツールアミン等のアミン類
、Ｎ、Ｎ−ジメチルポルムアミド等のアミド類等の窒素
化合物能に脂肪酸及びフェノール類、二硫化炭素や燐＃
ｌ・リエチル等の硫黄、燐化合物等が挙げられる。

本発明において感光層には感度の向上、残留電位乃至反
復使用時の疲労低減等を目的として、種又は二種以上の
電子受容１に物質を含有せしめることができる。

ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、３−二１・ロ無水フタル酸、
４−二１・ロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水
メリント酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼ
ン、１，３．５−トリニトロベンゼン ピクリルクロライト、キノンクロルイミド、クロラニル
、ブルマニル、ジクロルジシアノバラベンゾキノン、ア
ントラキノン、ジニトロアントラギノン、２．７−シニ
トロフルオレノン、２．４．７−ドリニ１ーロフルオレ
ノン、２．４１５１７−テトラニトロフルオレノン マロノジニトリル］、ポリニトロ−９−フルオレニリデ
ン−［シンアノメチレンマロノジニトリル］、ピクリン
酸、０−二１・口安息香酸、ｐ−二１・口安息香酸、３
５−ジニ）・口安息香酸、ペンタフルオロ安，Ｂ香酸、
５−ニトロザリチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、
フタル酸、メリノ１〜酸、その他の電子親和力の大きい
化合物を挙けることかてきる。又、電子受容性物質の添
加割合は、重量比で本発明に用いられる有機系顔料　電
子受容性物質−１００：Ｏ．旧〜２００、好ましくは１
００　：　０．１〜１００である。

かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比で全Ｃ
ＴＭ　　電子受容性物質−１００・０．旧〜１００、好
ましくは１００　：　０．１〜５０である。

又、本発明の感光層中にはＣＧＭの電荷発生機能を改善
する目的で有機アミン類を添加することかでき、特に２
級アミンを添加するのか好ましい。

これらの化合物は特開昭５９−２１８４４７号、同６２
−８１６０号に記載されている。

又、本発明の感光層においては、オゾン劣化防止の目的
で酸化防止剤を添加することができる。

かかる酸化防止剤の代表的具体例を以下に示すか、これ
に限定されるものではない。

１−群　ピンタートフェノール類、ＩＩ−群；ノくラフ
Ｊニレンジアミン類、■ー群，ノ＼イドロキノン類、■
−群；有機硫黄化合物類、■−群；有機燐化合物類か挙
げられる。

これらの化合物は例えば特開昭６３−１８３５４号に開
示されている。

これらの化合物はゴム、プラスチ・ンク、油脂類等の酸
化防止剤として知られており、市販品を容易に入手でき
る。

酸化防止剤の添加量はＣＴＭ　１００重量部に対して０
、１〜１００重量部、好ましくは１〜５０重量部、特に
好ましくは５〜２５重量部である。

又本発明の感光体には、その他、必要により感光層を保
護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また感
色性補正の染料を含有してもよい。

また本発明に係る保護層中には加工性及び物性の改良（
亀裂防止、柔軟性イｑ与等）を目的として必要により熱
可塑性樹脂を５０ｗ［％未満含有せしめることがてきる
。

又、前記中間層（１接着層又はブロッキング層等として
機能するもので、上記ハインタ樹脂の外に、例えハポリ
ヒニルアルコール、エチルセルロース、カルボキンメチ
ルセルロース、塩化ヒニルー酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ヒニルー無水マレイン酸共重合体、カゼイ
ン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等か用いら
れる。

本発明の電子写真感光体の構成に用いられる導電性支持
体としては、主として下記のものが用いられるか、これ
らにより限定されるものではない。

ｌ）アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。

２）紙あるいはプラスチックフィルムなとの支持体」二
に、アルミニウム、パラジウム、金なとの金属薄層をラ
ミネートもしくは蒸着によって設ニブたもの。

３）紙あるいはプラスチックフィルムなとの支持体上に
、導電性ポリで、酸化インジウム、酸化錫なとの導電性
化合物の層を塗布もしくは蒸着によって設（プたもの。

本発明の感光体は、第１図及び第２図に示すように導電
性支持体１上にＣＧＭを主成分どするｃｃ＋、２と本発
明に係るＣＴＭを主成分として含有するＣＴＬ　３との
積層体より成る感光層４を設ける。第３図及び第４図に
示すようにこの感光層４は、導電性支持体１」二に設け
た中間層５を介して設は一〇もよい。

このように感光層４を二層構成としたどきに最も優れた
電子写真特性を有する電子写真感光体が得られる。又、
本発明においては、第５図及び第６図に示すように前記
ＣＴＭを主成分とする層６中に微粒子状のＣＧＭ　７を
分散してなる感光層４を導電性支持体１上に直接あるい
は、中間層５を介して設けてもよい。

更に前記感光層４の上には必要に応し保護層８を設けて
もよい。

ここで感光層４を二層構成としたときにＣＧＬ２とＣＴ
Ｌ　３のいずれを」二層とするかは、帯電極性を正、負
のいずれに選ぶかによって決定される。すなわち負帯電
型感光層とする場合は、ＣＴＬ　３を」二層とするのか
有利であり、これは該ＣＴＬ３中のＣＴＭか、正孔に対
して高い輸送能を有する物質であるからである。

又、二層構成の感光層４を構成するＣＧＬ　２は、導電
性支持体］もしくはＣＴＬ　３上に直接あるいは必要に
応して接着層もしくはブロッキング層などの中間層を設
けた上に、次の方法によって形成することかできる。

（１）真空蒸着法 （２）　　ＣＧＭを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布す
る方法 （３）ＣＧＭｒ、ｒボールミル、→ノントグラインタ等
によって分散媒中で微細粒子状とし必要に応して、バイ
ンダと混合分散して得られる分散液を塗布する方法。

即ち具体的には、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等
の気相堆積法あるいはディッピング、スフレイ、ブレー
ド、ロール法等の塗布方法か任意に用いられる。

このようにして形成されるＣＧＬ２の厚さは、０．旧μ
ｍ〜５μｍであることか好しく、更に好しくは０．０５
μｍ〜３μｍである。

またＣＴＬ　３の厚さは、必要に応じて変更し得るが通
常５μｍ〜３０μｍであることが好ましい。このＣＴＬ
３における組成割合は、本発明のＣＴＭ　１重量部に対
してバインダ０．１〜５重量部とするのが好ましいが、
微粒子状のＣＧＭを分散せしめた感光層４を形成する場
合は、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量部以
下の範囲で用いることか好ましい。

またＣＧＬをバインダ中分散型のものとして構成する場
合には、ＣＧＭ　１重量部に対してバインダを５重量部
以下の範囲で用いることか好ましい。

本発明の感光体は以上のような構成であって、後述する
ような実施例からも明らかなように帯電特性、感度特性
、画像形成特性に優れたものである。特に反復転写式電
子写真方式に供したときにも疲労劣化が少なく耐久性か
優れたものである。

〔実施例〕

以下本発明の実施例を具体的に説明するが、これにより
本発明の実施態様か限定されるものではない。

実施例１ ε−アミノ−カプロン酸、アジピン酸及びＮ−（βアミ
ノエチル）ピペラジンの比率がｌ：ｌ：ｌのモノマー組
成で共重合されたポリアミド３０ｇを５０００に加熱し
た８００ｍ０．のメタノール（ＥＬ規格、関東化学社製
）へ撹拌しなから投入し、溶解させた。

室温迄冷却後、１−ブタノール（特級：関東化学社製）
　２００ｍ（ｌを加えた。その後、直径８０ｍｍのアル
ミニウムドラム上へ浸漬塗布し、０．５μｍ厚の中間層
を形成した。

次にＣ［ｌＪＩとしてフルオレノン系ジスアゾ顔料（例
示Ｆ　、−２３）　２０ｇ及びバインダとしてポリビニ
ルブチラール樹脂エスレックＢＸ−］　（漬水化学社製
）１０ｇをメチルエチルケトン（関東化学社製ＥＬ規格
）１０００ｍＱへ溶解し、ボールミルにて２４時間ミリ
ングを行ない、ＣＧＬ塗工液を得た。これを上記中間層
上に浸漬塗布して０．３ｚｚｍ厚のＣＧＬを形成し　ノ
こ　。

その後、前記例示Ｔ−２；１２０ｇと共重合体Ｂ。

］　；　１６５ｇを１．２−ジクロルエタン（特級：関
東化学社製）　１０１００Ｏへ溶解させ、ＣＴＬ塗工液
を得た。

これを上記ＣＧＬ上に浸漬塗布後、１００°Ｃで１時間
乾燥し、２０μｍ厚のＣＴＬを形成した。このようにし
て、中間層−ＣＧＬ−ＣＴＬを順次積層して成る感光体
を作成した。

実施例２ ＣＴＭを例示Ｔ−３とした以外は実施例１と同様にして
感光体を作成した。

実施例３ 中間層の形成は実施例１と同様に行なった。

ＣＧＩＪとして、多環キノン系顔料（例示Ｑ□−３）２
０ｇ及びバインダとしてポリカーボネート樹脂Ｌ１２５
０　（量大化成社製）１０ｇを１．２−ジクロルエタン
（特級、関東化学社製）へ溶解し、ボールミルにて２４
時間ミリングを行ないＣＧＬ塗工液を得た。これを上記
中間層上に浸漬塗布とて０．３μｍ厚のＣＧＬを形成し
た。

次いでＣＴＭを例示Ｔ−２４、バインダを共重合体Ｂ−
２とした以外は実施例１と同様にＣＴＩ、を積層し、感
光体を作成した。

実施例４ ＣＴＭを例示Ｔ−１７、ＣＴＩ、バインダを共重合体Ｂ
２とした以外は実施例】と同様にして感光体を作成した
。

実施例５ ポリビニルブチラール樹脂（エスレソクＢＸ−１、漬水
化学社製）１２ｇをメチルエチルケトン１０００ｍαに
溶解しさせた後、ＣＧＭとして例示Ｑ、−３；５．７ｇ
１例示Ｆ　＋　　２３；　０．３ｇを混合し、ザンドグ
ラインダで１０時間分散した。

これを実施例１で記した中間層上に浸漬塗布し、ＣＧＬ
を形成、更に実施例２と同様にしてＣＴＴ、を形成し、
感光体を作成した。

実施例６ 実施例１で用いたポリアミド５０ｇを５０°Ｃに加熱し
た８００ｍ４のメタノール（ＥＬ規格；関東化学社製）
へ撹拌しながら投入し、溶解させた。室温迄冷却後、■
−ブタノール（特級；関東化学社製）　２００ｍＱを加
えた。次いで直径８０ｍｍのアルミニウムドラム上へ浸
漬塗布し、１μｍ厚の中間層を形成した。

次にＣＧＭとしてτ型無金属フタロシアニン（τＰｃ）
　４０ｇをンリコーン樹脂ｒ　ＫＲ−５２４０」（固形
分２０％）（信越化学社製）２００ｇを溶解したメチル
エチルケトン（ＥＬ規格：関東化学社製）　２０００ｍ
Ｑに加えて、ザンドグラインダにて４時間分散さぜ、Ｃ
Ｇ１．塗工液を得た。これを」二記中間層上に浸漬塗布
して０．５μｍ厚のＣＧＬを形成した。

その後、前記例示Ｔ−５；１２０ｇと共重合体Ｂ３　；
　１６５ｇを１．２−ジクロルエタン（特級：関東化学
社ｉ！り　１０００ｍαへ溶解させ、ＣＴＬ塗工液を得
た。

これを上記ＣＧＬ上に浸漬塗布後、１００℃で１時間乾
燥を行ない、２０μｍ厚のＣＴＩ、を得た。中間層、Ｃ
ＧＬ及びＣＴＬの順に積層して成る感光体を作成しｌこ
。

実施例７ ＣＧＭにＸ型無金属フタロシアニン（Ｘ−Ｐｃ）を、Ｃ
ＴＬバインダとして共重合体Ｂ−３を用いた以外は、実
施例６と同様にして中間層−ＣＧＬ−ＣＴＬを順次積層
して成る感光体を作成した。

実施例８ ＣＧＭにＹ型オギンチタニウムフタロシアニン（Ｙ　Ｔ
ｉ０Ｐｃ）をＣＴＩ、バインダとして共重合体Ｂ−３を
用いた以外は、実施例６と同様にして中間層ＣＧＩ、−
ＣＴＬを順次積層して成る感光体を作成した。

又、ＣＴＬ塗布液はいずれも１ケ月放置しても安定であ
った。

比較例１ 実施例１でＣＴＬバインダとしてビスフェノールＡポリ
カーボネート（量大化成パンライト　Ｋ−１３００）を
用いた以外は同様にして感光体を作成した。

比較例２ 実２ｉｆｆｉ　例４でＣＴＬハインタとしてヒスフェノ
ールＡボリカーボ不−１・を用いた以外は同様にして感
光体を作成した。

しかしながら、塗布液の安定性か悪く放置による大幅な
粘度上昇が見られ、１ケ月後には完全にゲル状になり、
例え超音波処理等の再分散処理を施しても元に戻らず、
不安定な液しか得られながっｌこ　。

比較例３ 実施例１でＣＴＭどじで下記ヒドラソン化合物を用いた
以外は同様にして感光体を作成した。

比較例４ 実施例１でＣＴＭとして下記ピラゾロン化合物を用いた
以外は同様にして感光体を作成した。

繰返し特性の測定 実施例１〜５及び比較例１〜４の感光体を各々ｒ　Ｕ　
−Ｂｉｘ　２０２５Ｊ　（コニカ社製）に搭載し、１０
万回コピーの実写を行なうと共に、実写前後での表面電
位を測定した。

黒紙電位二反射濃度１．３の原稿に対する表面電位白紙
電位　反射濃度０．０の原稿に対する表面電位残留電位
、除電後の表面電位 又、実施例６〜８の本発明に係る感光体を［Ｕ−Ｂｉｘ
　２０２５Ｊ　（コニカ社製）（半導体レーザ光源搭載
）改造機に搭載し、Ｖｌｌか一７００±１０［Ｖ　］に
なるようにグリ・／ド電圧を調節し、（１，７ｍＷの照
射時の露光面の電位をＶＬとし、現像バイアス−６００
［Ｖ］で反転現像を行い、同様に実写前後での表面電位
を測定した。

表面の摩擦による膜減耗については、１０万コピ終了後
、感光体膜厚を測定し、初期と比較した。

画質については、逐次画像ザンプルをチエツクし、ドラ
ム周方向のキズに基づくスジ（反転現像の場合はモアレ
）、クリーニング不良の発生コピ−数を比較した。

Ｇ 〔発明の効果〕 本発明感光体は、優れた電子写真性能を有し、繰返し使
用によっても特性変化が少ない上に、耐摩耗性にも優れ
るので、極めて高い耐刷性能を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図はそれぞれ本発明の感光体の機械的構成
例について示す断面図である。 １・・・導電性支持体 ２　・ギヤリア発生層 ３・・ギヤリア輸送層 ４・・・感光層 ５・・・中間層 ６・・・キャリア輸送物質を含有する層７・・・キャリ
ア発生物質 ８・・・保護層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 導電性基体上に電荷発生層、電荷輸送層を順次積層した
   感光層を有する電子写真感光体において、前記電荷輸送
   層のバインダに、主要繰返し単位として下記一般式〔Ｂ
   〕を構造組成に含む重合体を含有し、かつ下記一般式〔
   Ｔ〕で表される化合物を含有することを特徴とする電子
   写真感光体。 一般式〔Ｂ〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は各々水素原子、炭素数１〜６
   のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、
   Ｒ＿１、Ｒ＿２の少くとも一方はアリール基である。 Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿６及びＲ＿７、Ｒ＿８、
   Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０は水素原子、ハロゲン原子又は炭素
   数１〜６のアルキル基である。〕 一般式〔Ｔ〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ａｒ＿１、Ａｒ＿２はアルキル基又はアリール
   基、Ａｒ＿３はフェニレン基を表し、Ａｒ＿１、Ａｒ＿
   ２で環を形成してもよい。Ｒ＿１＿１、Ｒ＿１＿２は水
   素原子、アルキル基、アリール基、Ｒ＿１＿３はアルキ
   ル基、アリール基を表し、Ｒ＿１＿２、Ｒ＿１＿３で環
   を形成してもよい。〕