JPH0461482B2 - - Google Patents
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
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Description
（産業上の利用分野）
一方向性珪素鋼板の電気・磁気的特性の改善、
なかでも鉄損の低減に係わる極限的な要請を満た
そうとする近年来の目覚ましい開発努力は、逐次
その実を挙げつつある。 一方向性珪素鋼板は、よく知られているとおり
製品の２次再結晶粒（110）〔001〕、すなわちゴス
方位に、高度に集積させたもので、主として変圧
器その他の電気機器の鉄心として使用され電気磁
気的特性として製品の磁束密度（B10値で代表さ
れる）が高く、鉄損（W17/50値で代表される）の
低いことが要求される。 この一方向性珪素鋼板は複雑多岐にわたる工程
を経て製造されるが、今までにおびただしい発明
改善が加えられ、今日まで板厚0.30mmの製品の磁
気特性がB10値1.90T以上、W17/50値1.05W／Kg以
下、または板厚0.23mmの製品の磁気特性がB10値
1.89T以上、W17/50値0.90W／Kg以下の超低鉄損
一方向性珪素鋼板が製造されるようになつて来て
いる。 特に最近では省エネの見地から電力損失の低減
を至上とする要求が著しく強まり、欧米では損失
の少ない変圧器を作る場合に鉄損の減少分を金額
に換算して変圧器価格に上積みする「ロス・エバ
リユエーシヨン」（鉄損評価）制度が普及してい
る。 （従来の技術） このような状況下において最近、一方向性珪素
鋼板の仕上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直
角方向でのレーザー照射により局部微小ひずみを
導入して磁区を細分化し、もつて鉄損を低下させ
ることが提案された（特公昭57−2252号、特公昭
57−53419号、特公昭58−26405号及び特公昭58−
26406号公報参照）。 この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さな
い、積鉄心向けトランス材料として効果的である
が、ひずみ取り焼鈍を施す、主として巻鉄心トラ
ンス材料にあつては、レーザー照射によつて折角
に導入された局部微少ひずみが焼鈍処理により開
放されて磁区幅が広くなるため、レーザー照射効
果がなくなるので使途に制約がある。 一方これより先に特公昭52−24499号公報にお
いては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板
表面を鏡面上げするか又はその鏡面仕上げ面上に
金属メツキやさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付
けすることによる、超低鉄損一方向性珪素鋼板の
製造方法が提案されている。 しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手
法は、工程的に採用するには、著しいコストアツ
プになる割に鉄損低減への寄与が充分でない上、
とくに鏡面仕上後に不可欠な絶縁被膜を塗布焼付
し、さらに600℃以上の高温で長時間の歪み取り
焼鈍を施した後の鋼板との密着性に問題があるた
め、現在の製造工程において採用されるに至つて
はいない。また特公昭56−4150号公報においても
鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラミツ
クス薄膜を蒸着する方法が提案されている。しか
しながらこの方法も600℃以上の高温焼鈍を施す
と鋼板とセラミツクス層とが剥離するため、実際
の製造工程では採用できない。 （発明が解決しようとする問題点） 鏡面仕上げによるコスト増の不利を補つてあま
りある鉄損の低減を成就することがこの発明の目
的である。 （問題点を解決たるための手段） 上掲の目的は、次の各発明により有利に達成さ
れる。 方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、Ti，Zr，Hf，
Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，Mn，Co，Ni，
Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は炭化物並びにAl，
Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，Ｗ，Siお
よびZnの酸化物のうちから選ばれる少なくとも
１種から成り、それらの地鉄との混合相を介し仕
上表面上に強固に被着した極薄張力被膜を形成し
た後、該被膜表面上に、圧延方向とほぼ直角方向
に３〜15mmの間隔で0.01〜２mm幅で局部加工を導
入することを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼
板の製造方法。（第１発明） 方向性珪素鋼板の仕上焼鈍板表面上の非金属物
質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成した後、該被膜表面
上に圧延方向とほぼ直角に３〜15mmの間隔で0.01
〜２mm幅で局部加工を導入し、ついで絶縁被膜を
被成することを特徴とする超低鉄損一方向性珪素
鋼板の製造方法。（第２発明） 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成し、ついでこの被膜
上に絶縁被膜を被成した後、これらの被膜に、圧
延方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜
２mm幅で局部加工を導入することを特徴とする超
低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。（第３発明） 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成し、ついでこの被膜
上に絶縁被膜を被成した後、これら被膜に、圧延
方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜２
mm幅で局部加工を導入し、さらに絶縁被膜を被成
することを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板
の製造方法。（第４発明） 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成した後、又はこの被
膜上に絶縁被膜を被成した後これらの被膜に、圧
延方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜
２mm幅で局部加工を導入して該鋼板地鉄表面の一
部を露出せしめ、次いで該地鉄との熱膨張係数の
差が大きな金属，半金属およびこれらを含む無機
化合物を上記地鉄露出部に充填したのち焼鈍を施
すか、或いは歪加工後歪取りを焼鈍を施すことを
特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方
法。（第５発明） これら発明の成功が導かれた具体的な実験に従
つて説明を進める。 Ｃ：0.046重量％（以下単に％で示す）、Si：
3.38％．Mn：0.068％，Se：0.022％，Sb：0.026
％及びMo：0.028％を含有する珪素鋼連鋳スラブ
を1350℃で４時間加熱後熱間圧延して2.0mm厚さ
の熱延板とした。 その後900℃で３分間の均一化焼鈍後、950℃で
３分間の中間焼鈍をはさむ２回の冷間圧延を施し
て0.23mm厚の最終冷延板とした。 その後820℃の湿水素雰囲気中で脱炭・一次再
結晶焼鈍を施した後、鋼板表面に不活性Al2O3
（75％）とMgO（25％）から成る焼鈍分離剤を塗
布し、ついで850℃で50時間の２次再結晶焼鈍と、
1200℃で５時間乾水素中で純化焼鈍とを施した。 かくして得られた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼
板コイルを４区分し、それぞれについて、その後
軽く酸洗（10％のHCl液中）した後、３％HFと
H2O2の液中で化学研磨し鋼板表面平均粗さ
0.03μmの鏡面状態に仕上げた。 その後上記のように区分した４群の試料をそれ
ぞれ次の条件で処理した。 (a) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
TiNを0.5μm厚で被成した。 (b) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
TiNを0.5μm厚で被成した後圧延方向と直角の
方向に８mm幅にレーザー照射（レーザー照射条
件はYAGレーザーを使用したスポツト当りの
エネルギー4.0×10-3Ｊ、スポツト直径0.2mm、
スポツトの中心間間隔0.5mm、レーザー走査痕
間隔ｌ＝８mmで照射）した。 (c) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
TiNを0.5μm厚で被成した後圧延方向と直角の
方向に８mm幅にレーザー照射後、500℃で１分
間の低温焼付絶縁コーテイング処理した。 (d) 鏡面研磨のまま（比較材）とした。 各試料の磁気特性値を表１にまとめて示す。
なかでも鉄損の低減に係わる極限的な要請を満た
そうとする近年来の目覚ましい開発努力は、逐次
その実を挙げつつある。 一方向性珪素鋼板は、よく知られているとおり
製品の２次再結晶粒（110）〔001〕、すなわちゴス
方位に、高度に集積させたもので、主として変圧
器その他の電気機器の鉄心として使用され電気磁
気的特性として製品の磁束密度（B10値で代表さ
れる）が高く、鉄損（W17/50値で代表される）の
低いことが要求される。 この一方向性珪素鋼板は複雑多岐にわたる工程
を経て製造されるが、今までにおびただしい発明
改善が加えられ、今日まで板厚0.30mmの製品の磁
気特性がB10値1.90T以上、W17/50値1.05W／Kg以
下、または板厚0.23mmの製品の磁気特性がB10値
1.89T以上、W17/50値0.90W／Kg以下の超低鉄損
一方向性珪素鋼板が製造されるようになつて来て
いる。 特に最近では省エネの見地から電力損失の低減
を至上とする要求が著しく強まり、欧米では損失
の少ない変圧器を作る場合に鉄損の減少分を金額
に換算して変圧器価格に上積みする「ロス・エバ
リユエーシヨン」（鉄損評価）制度が普及してい
る。 （従来の技術） このような状況下において最近、一方向性珪素
鋼板の仕上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直
角方向でのレーザー照射により局部微小ひずみを
導入して磁区を細分化し、もつて鉄損を低下させ
ることが提案された（特公昭57−2252号、特公昭
57−53419号、特公昭58−26405号及び特公昭58−
26406号公報参照）。 この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さな
い、積鉄心向けトランス材料として効果的である
が、ひずみ取り焼鈍を施す、主として巻鉄心トラ
ンス材料にあつては、レーザー照射によつて折角
に導入された局部微少ひずみが焼鈍処理により開
放されて磁区幅が広くなるため、レーザー照射効
果がなくなるので使途に制約がある。 一方これより先に特公昭52−24499号公報にお
いては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板
表面を鏡面上げするか又はその鏡面仕上げ面上に
金属メツキやさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付
けすることによる、超低鉄損一方向性珪素鋼板の
製造方法が提案されている。 しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手
法は、工程的に採用するには、著しいコストアツ
プになる割に鉄損低減への寄与が充分でない上、
とくに鏡面仕上後に不可欠な絶縁被膜を塗布焼付
し、さらに600℃以上の高温で長時間の歪み取り
焼鈍を施した後の鋼板との密着性に問題があるた
め、現在の製造工程において採用されるに至つて
はいない。また特公昭56−4150号公報においても
鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラミツ
クス薄膜を蒸着する方法が提案されている。しか
しながらこの方法も600℃以上の高温焼鈍を施す
と鋼板とセラミツクス層とが剥離するため、実際
の製造工程では採用できない。 （発明が解決しようとする問題点） 鏡面仕上げによるコスト増の不利を補つてあま
りある鉄損の低減を成就することがこの発明の目
的である。 （問題点を解決たるための手段） 上掲の目的は、次の各発明により有利に達成さ
れる。 方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、Ti，Zr，Hf，
Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，Mn，Co，Ni，
Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は炭化物並びにAl，
Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，Ｗ，Siお
よびZnの酸化物のうちから選ばれる少なくとも
１種から成り、それらの地鉄との混合相を介し仕
上表面上に強固に被着した極薄張力被膜を形成し
た後、該被膜表面上に、圧延方向とほぼ直角方向
に３〜15mmの間隔で0.01〜２mm幅で局部加工を導
入することを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼
板の製造方法。（第１発明） 方向性珪素鋼板の仕上焼鈍板表面上の非金属物
質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成した後、該被膜表面
上に圧延方向とほぼ直角に３〜15mmの間隔で0.01
〜２mm幅で局部加工を導入し、ついで絶縁被膜を
被成することを特徴とする超低鉄損一方向性珪素
鋼板の製造方法。（第２発明） 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成し、ついでこの被膜
上に絶縁被膜を被成した後、これらの被膜に、圧
延方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜
２mm幅で局部加工を導入することを特徴とする超
低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。（第３発明） 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成し、ついでこの被膜
上に絶縁被膜を被成した後、これら被膜に、圧延
方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜２
mm幅で局部加工を導入し、さらに絶縁被膜を被成
することを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板
の製造方法。（第４発明） 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面
に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイオ
ンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成した後、又はこの被
膜上に絶縁被膜を被成した後これらの被膜に、圧
延方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜
２mm幅で局部加工を導入して該鋼板地鉄表面の一
部を露出せしめ、次いで該地鉄との熱膨張係数の
差が大きな金属，半金属およびこれらを含む無機
化合物を上記地鉄露出部に充填したのち焼鈍を施
すか、或いは歪加工後歪取りを焼鈍を施すことを
特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方
法。（第５発明） これら発明の成功が導かれた具体的な実験に従
つて説明を進める。 Ｃ：0.046重量％（以下単に％で示す）、Si：
3.38％．Mn：0.068％，Se：0.022％，Sb：0.026
％及びMo：0.028％を含有する珪素鋼連鋳スラブ
を1350℃で４時間加熱後熱間圧延して2.0mm厚さ
の熱延板とした。 その後900℃で３分間の均一化焼鈍後、950℃で
３分間の中間焼鈍をはさむ２回の冷間圧延を施し
て0.23mm厚の最終冷延板とした。 その後820℃の湿水素雰囲気中で脱炭・一次再
結晶焼鈍を施した後、鋼板表面に不活性Al2O3
（75％）とMgO（25％）から成る焼鈍分離剤を塗
布し、ついで850℃で50時間の２次再結晶焼鈍と、
1200℃で５時間乾水素中で純化焼鈍とを施した。 かくして得られた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼
板コイルを４区分し、それぞれについて、その後
軽く酸洗（10％のHCl液中）した後、３％HFと
H2O2の液中で化学研磨し鋼板表面平均粗さ
0.03μmの鏡面状態に仕上げた。 その後上記のように区分した４群の試料をそれ
ぞれ次の条件で処理した。 (a) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
TiNを0.5μm厚で被成した。 (b) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
TiNを0.5μm厚で被成した後圧延方向と直角の
方向に８mm幅にレーザー照射（レーザー照射条
件はYAGレーザーを使用したスポツト当りの
エネルギー4.0×10-3Ｊ、スポツト直径0.2mm、
スポツトの中心間間隔0.5mm、レーザー走査痕
間隔ｌ＝８mmで照射）した。 (c) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
TiNを0.5μm厚で被成した後圧延方向と直角の
方向に８mm幅にレーザー照射後、500℃で１分
間の低温焼付絶縁コーテイング処理した。 (d) 鏡面研磨のまま（比較材）とした。 各試料の磁気特性値を表１にまとめて示す。
【表】
表１から明らかなように、この発明による(b)お
よび(c)の各条件の磁気特性は、B10値が1.92T，
W17/50値は0.65〜0.63W／Kgと超低鉄損を示すこ
とが注目される。 このように一方向性珪素鋼板を鏡面仕上し、そ
の上にTiNの極薄張力コーテイング処理後、レ
ーザー照射によりさらに微小歪みを導入するとき
わめて低鉄損を有する製品を得ることができる。 表１中の(b)，(c)の各条件はひずみ取り焼鈍を施
さない、鉄心向けトランス材料として効果的であ
るが、ひずみ取り焼鈍を施す、主として巻鉄心ト
ランス材料にはレーザー照射効果がなくなるので
使途に制約がある。 そのため本発明者らはさらにひずみ取り焼鈍を
施しても磁気特性が劣化しない方法を開発した。
以下これについて具体的実験に従つて説明する。 Ｃ：0.052％，Si：3.36％，Mn：0.072％，酸可
溶Al：0.025％．Ｓ：0.025％，Ｎ：0.0072％を含
有する珪素鋼連鋳スラブを1420℃で３時間加熱後
熱間圧延して2.0mm厚の熱延板とした。 その後980℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間
圧延を施して0.23mm厚の最終冷延板とした後、
840℃の湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼鈍
を施した。その後鋼板表面に不活性Al2O3（70％）
とMgO（27％）とZrO（３％）から成る焼鈍分離
剤を塗布した後、850℃から10℃／hrで1050℃ま
で昇温して２次再結晶させた後、1200℃で10時間
乾H2中で純化焼鈍を施した。 かくして得られた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼
板コイルを４区分しそれぞれについて酸洗後電解
研磨により鋼板表面平均粗さ0.06μmの鏡面状態
に仕上げた。 その後上記のように区分した４群の試料をそれ
ぞれ次の条件で処理した。 (a) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
ZrNを1.5μm厚薄膜として形成したのち800℃
で３時間の歪み取り焼鈍を行つた。 (b) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
ZrNを1.5μmの厚の薄膜で形成した後圧延方向
と直角方向に８mm幅にレーザー照射（レーザー
照射条件はYAGレーザーを使用しスポツト当
りのエネルギー3.5×10-3Ｊ，スポツト直径0.15
mmスポツトの中心間間隔0.5mm，レーザー走査
痕間隔ｌ＝８mmで照射）した後、SnCl2（80℃，
0.01mol／）中に浸漬して局部加工による鋼
板地鉄露出部にSnを充填した後リン酸塩とコ
ロイグルシリカを主成分とする絶縁被膜焼付処
理したのち800℃で３時間の歪み取り焼鈍を行
つた。 (c) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
ZrNを1.5μ厚にて薄膜を形成した後リン酸塩と
コロイグルシリカを主成分とする絶縁被膜の焼
付処理後圧延方向と直角方向に８mm幅にレーザ
ー照射（レーザー照射条件はYAGレーザーを
使用しスポツト当りエネルギー4.0×10-3Ｊ，
スポツト直径0.20mm、スポツトの中心間間隔
0.5mm，レーザー走査痕間隔ｌ＝８mmで照射）
した後酸洗処理してレーザー処理の局部加工位
置の鋼板地鉄の一部を除去した。その後SbCl3
（0.01mol／，80℃）中に浸漬して局部加工
除去部にSbを充填した後再びリン酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とす絶縁被膜焼付処理し
たのち800℃で３時間の歪み取り焼鈍を行なつ
た。 (d) 鏡面研磨のまま800℃で３時間の歪み取り焼
鈍を行い比較材とした。 各試料の磁気特性値を表２にまとめて示す。 表２から明らかなように、この発明による(b)お
よび(c)の各条件の磁気特性はB10値が1.94T，
W17/50値は0.66〜0.65W／Kgと超低鉄損を示すこ
とが注目される。 このように一方向性珪素鋼板を鏡面仕上し、そ
の上にZrNの薄膜コーテイング処理あるいはその
後絶縁被膜を付与した鋼板表面の地鉄の一部を除
去し、そこに該地鉄との熱膨張係数の差の大きな
金属、半金属および化合物を上記局部加工除去部
に充填したのち焼鈍を施すか、或いは歪加工後の
歪取り焼鈍を施すことによつて超低鉄損を一方向
性珪素鋼板の製造が可能となる。この発明の１部
の構成は特開昭60−255926号公報にて開示されて
いるが通常のフオルステライト被膜上に局部加工
を区画形成した場合と比較すると本発明によつて
発揮される鉄損低域効果はきわめて大きい。
よび(c)の各条件の磁気特性は、B10値が1.92T，
W17/50値は0.65〜0.63W／Kgと超低鉄損を示すこ
とが注目される。 このように一方向性珪素鋼板を鏡面仕上し、そ
の上にTiNの極薄張力コーテイング処理後、レ
ーザー照射によりさらに微小歪みを導入するとき
わめて低鉄損を有する製品を得ることができる。 表１中の(b)，(c)の各条件はひずみ取り焼鈍を施
さない、鉄心向けトランス材料として効果的であ
るが、ひずみ取り焼鈍を施す、主として巻鉄心ト
ランス材料にはレーザー照射効果がなくなるので
使途に制約がある。 そのため本発明者らはさらにひずみ取り焼鈍を
施しても磁気特性が劣化しない方法を開発した。
以下これについて具体的実験に従つて説明する。 Ｃ：0.052％，Si：3.36％，Mn：0.072％，酸可
溶Al：0.025％．Ｓ：0.025％，Ｎ：0.0072％を含
有する珪素鋼連鋳スラブを1420℃で３時間加熱後
熱間圧延して2.0mm厚の熱延板とした。 その後980℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間
圧延を施して0.23mm厚の最終冷延板とした後、
840℃の湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼鈍
を施した。その後鋼板表面に不活性Al2O3（70％）
とMgO（27％）とZrO（３％）から成る焼鈍分離
剤を塗布した後、850℃から10℃／hrで1050℃ま
で昇温して２次再結晶させた後、1200℃で10時間
乾H2中で純化焼鈍を施した。 かくして得られた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼
板コイルを４区分しそれぞれについて酸洗後電解
研磨により鋼板表面平均粗さ0.06μmの鏡面状態
に仕上げた。 その後上記のように区分した４群の試料をそれ
ぞれ次の条件で処理した。 (a) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
ZrNを1.5μm厚薄膜として形成したのち800℃
で３時間の歪み取り焼鈍を行つた。 (b) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
ZrNを1.5μmの厚の薄膜で形成した後圧延方向
と直角方向に８mm幅にレーザー照射（レーザー
照射条件はYAGレーザーを使用しスポツト当
りのエネルギー3.5×10-3Ｊ，スポツト直径0.15
mmスポツトの中心間間隔0.5mm，レーザー走査
痕間隔ｌ＝８mmで照射）した後、SnCl2（80℃，
0.01mol／）中に浸漬して局部加工による鋼
板地鉄露出部にSnを充填した後リン酸塩とコ
ロイグルシリカを主成分とする絶縁被膜焼付処
理したのち800℃で３時間の歪み取り焼鈍を行
つた。 (c) 鏡面鋼板の上にイオンプレーテイングにより
ZrNを1.5μ厚にて薄膜を形成した後リン酸塩と
コロイグルシリカを主成分とする絶縁被膜の焼
付処理後圧延方向と直角方向に８mm幅にレーザ
ー照射（レーザー照射条件はYAGレーザーを
使用しスポツト当りエネルギー4.0×10-3Ｊ，
スポツト直径0.20mm、スポツトの中心間間隔
0.5mm，レーザー走査痕間隔ｌ＝８mmで照射）
した後酸洗処理してレーザー処理の局部加工位
置の鋼板地鉄の一部を除去した。その後SbCl3
（0.01mol／，80℃）中に浸漬して局部加工
除去部にSbを充填した後再びリン酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とす絶縁被膜焼付処理し
たのち800℃で３時間の歪み取り焼鈍を行なつ
た。 (d) 鏡面研磨のまま800℃で３時間の歪み取り焼
鈍を行い比較材とした。 各試料の磁気特性値を表２にまとめて示す。 表２から明らかなように、この発明による(b)お
よび(c)の各条件の磁気特性はB10値が1.94T，
W17/50値は0.66〜0.65W／Kgと超低鉄損を示すこ
とが注目される。 このように一方向性珪素鋼板を鏡面仕上し、そ
の上にZrNの薄膜コーテイング処理あるいはその
後絶縁被膜を付与した鋼板表面の地鉄の一部を除
去し、そこに該地鉄との熱膨張係数の差の大きな
金属、半金属および化合物を上記局部加工除去部
に充填したのち焼鈍を施すか、或いは歪加工後の
歪取り焼鈍を施すことによつて超低鉄損を一方向
性珪素鋼板の製造が可能となる。この発明の１部
の構成は特開昭60−255926号公報にて開示されて
いるが通常のフオルステライト被膜上に局部加工
を区画形成した場合と比較すると本発明によつて
発揮される鉄損低域効果はきわめて大きい。
【表】
【表】
（作用）
上にのべたように鏡面仕上げした鋼板表面に、
極薄の張力被膜を形成させて地鉄との熱膨張の差
によつて起る強い弾性張力を利用することに加え
て鋼板表面に局部加工を導入し、またこの局部加
工で該鋼板地鉄表面の一部を露出させ、この局部
加工部に金属、半金属類等を充填させることによ
り鋼板表面上に異張力の働く領域を形成すること
によつて超低鉄損を実現することができる。 以上の実験結果は、TiN又はZrNよりなる張力
被膜について述べたが張力被膜はこのほかにも
Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Co，Ni，Mn，
Al，Ｂ，Siの窒化物やTi，Zrも含めて上記した
元素の炭化物並びにAl，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，
Ce，Ni，Cu，Ｗ，SiおよびZnの酸化物のうちか
ら選ばれる少なくとも１種よりなる場合にあつて
も、TiN，ZrNについてのべたところとほぼ同様
な作用効果をあらわし、何れも所期した目的に適
合する。 次にこの発明による、一方向性珪素鋼板の製造
工程について説明する。 出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼素材成
分、例えば Ｃ：0.01〜0.050％，Si：2.50〜4.5％，Mn：
0.01〜0.2％，Mo：0.003〜0.1％，Sb：0.005〜
0.2％，ＳあるいはSeの１種あるいは２種合計
で、0.005〜0.05％を含有する組成 Ｃ：0.01〜0.06％，Si：2.0〜4.0％，Ｓ：
0.005〜0.05％，Ｎ：0.001〜0.01％，Sn：0.01〜
0.5％，Cu：0.01〜0.3％，Mn：0.101〜0.2％を
含有する組成 Ｃ：0.01〜0.06％，Si：2.0〜4.0％，Ｓ：
0.005〜0.05％，Ｂ：0.0003〜0.0040％，Ｎ：
0.001〜0.01％，Mn：0.01〜0.2％を含有する組
成 の如きにおいて適用可能である。 次に熱延板は800〜1100℃の均一化焼鈍を経て
１回の冷間圧延で最終板厚とする１回冷延法か又
は、通常850℃から1050℃の中間焼鈍をはさんで
さらに冷延する２回冷延法にて、後者の場合最初
の圧下率は50％から80％程度、最終の圧下率は50
％から85％程度で0.15mmから0.35mmの最終冷延板
圧とする。 最終冷延を終わり製品板圧に仕上げた鋼板は、
表面脱脂後750℃から850℃の湿水素中で脱炭・１
次再化粧焼鈍処理を施す。 その後は通常鋼板表面にMgOを主成分とする
焼鈍分離材を塗布する。 この際、一般的には仕上げ焼鈍後の形成を不可
決としていたフオルステライトを特に形成させな
い方が、その後の鋼板の鏡面化処理を簡便にする
のに有効であるので、焼鈍分離剤としてAl2O3や
ZrO2，TiO2の如きを50％以上でMgOに混入した
焼鈍分離剤を使用すのが好ましい。 その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は
｛110｝＜001＞方位の２次再結晶粒を充分発達させ
るために施されるもので、通常箱焼鈍によつて直
ちに1000℃以上に昇温し、その温度に保持するこ
とによつて行われる。 この場合｛110｝＜001＞方位に、高度に揃つた
２次再結晶粒組織を発達させるためには820℃か
ら900℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、
そのほか例えば0.5〜15℃／ｈの昇温速度の徐熱
焼鈍でもよい。 ２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は乾水素中で1100
℃以上で１〜20時間焼鈍を行つて鋼板の純化を達
成することが必要である。 この純化焼鈍後に鋼板表面の酸化物被膜を硫
酸、硝酸または弗酸などの強酸によるような酸洗
か又は機械的研削、切削等により除去する。 次に化学研磨および／または電解研磨など従来
から既知の手法により鋼板表面を鏡面状態つまり
中心線平均粗さ0.4μm以下に仕上げる。 その後CVD、イオンプレーテングもしくはイ
オンインプランテーシヨンによりTi，Zr，Hf，
Ｖ，Zr，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，Mn，Co，
Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／または炭化物、
Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，Ｗ，
SiおよびZnの酸化物のうちから選んだ少なくと
も１主から成る0.005〜5μm程度の強力被膜を形
成させる。 その後この張力被膜またはこの張力被膜上にリ
ン酸系の絶縁被膜を形成させた後の鋼板表面上に
局部加工を導入する。この局部加工の導入方法は
レーザー照射（例えば特公昭57−2252号、特公昭
57−53419号、特公昭58−26405号及び特公昭58−
26406号各公報）、放電加工（特開昭57−18810号
号公報）、ケガキあるいはボールペン状の小球
（特公昭58−5968号公報）等の手段により圧延方
向とほぼ直角な方向に３〜15mm程度の間隔で0.01
〜２mm幅で導入する。 この間隔が３mm未満では鋼板形状を悪化させる
うれいがあり、15mmをこえると磁区細分化効果が
期待できない。 一方幅については0.01mm未満で磁区細分化に役
立たず、２mmをこえると鋼板形状を劣化させる。
その後この鋼板表面上に局部加工効果を生かすた
めに600℃以下の低温で１秒から30分間の短時間
の焼付処理を施す。また高温の歪み取り焼鈍を施
す場合には局部加工後鋼板被膜を塩酸、硝酸など
の酸で地鉄に至るまで溶解したのち、そこに該地
鉄と熱膨張係数の差が大きい金属、半金属あるい
はこれらを含む無機化合物を上記局部加工除去部
に充填させたあと700℃以上の温度で焼鈍を行う。
この局部加工部の歪応力が大きいと特開昭56−
130454号公報において開示されているように後の
焼鈍工程において微細再結晶粒が生じ、磁区の細
分化効果とともに鉄損低減に効果的に働く。 このような処理をした場合によつてはリン酸塩
とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜を焼
付処理し、700℃以上の温度で数時間の歪み取り
焼鈍を施して製品とする。 （実施例） 実施例 １ Ｃ：0.043％，Si：3.42％，Mn：0.068％，
Mo：0.025％，Se：0.022％，Sb：0.025％を含有
する熱延板を、900℃で３分間の均一化焼鈍後、
950℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷延圧延を行
つて0.23mm厚の最終冷延板とした。 その後820℃の湿水素中で脱炭焼鈍後鋼板表面
にAl2O3（75％）とMgO（25％）とを主成分とする
焼鈍分離剤を塗布した後850℃で50時間の２次再
結晶焼鈍し、1200℃で８時間乾水素中で純化焼鈍
を行つた。 その後酸洗により酸化被膜を除去後、３％HF
とH2O2液中で化学研磨して鏡面仕上げした。 その後10KVのイオン化電圧で３分間イオンプ
レーテイングし膜厚0.5μmのTiN張力絶縁被膜を
形成させた。 その後この極薄被膜上に圧延方向にほぼ直角方
向に５mm間隔でレーザー照射を行つた。このとき
の照射条件はパルスレーザーを使用しスポツト当
りのエネルギーは５×10-3Ｊ、スポツト直径は
0.2mm、レーザースポツトの中心間隔は0.5mm間隔
で行つた。 このときの製品の磁気特性はB10＝1.92T，
W17/50＝0.66W／Kgであつた。 実施例 ２ Ｃ：0.058％，Si：3.33％，Mn：0.080％，Al：
0.025％，Ｓ：0.030％，Ｎ：0.0068％を含有する
熱延板を、1150℃で３分間の均一化焼鈍後急冷処
理を行い、その後300℃の温間圧延を施して0.20
mm厚の最終冷延板とした。 その後850℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面に
Al2O3（80％）とMgO（20％）を主成分とする焼鈍
分離剤を塗布した後850℃から1150℃まで８℃／
hrで昇温して２次再結晶させた後、1200℃で８時
間乾水素中で純化焼鈍を行つた。 その後酸洗により酸化被膜を除去後、３％HF
とH2O2液中で化学研磨して鏡面仕上げした後、
CVD法により900℃で0.7μmのTiN極薄被膜を形
成させた。その後パルスレーザーにより次の条件
で照射した。（エネルギーは５×10U-3Ｊ、スポツ
ト直径0.15mm、スポツトの中心間隔１mmで行つ
た）その後500℃の低温の絶縁コーテイングを行
つた。この製品の磁気特性は次のようであつた。 B10＝1.94T，W17/50＝0.65W／Kg 実施例 ３ Ｃ：0.049％，Si：3.36％，Mn：0.078％，Al：
0.026％，Ｓ：0.0025％，Cu：0.1％，Sn：0.12％
を含有する熱延板を1130℃で３分間の均一化焼鈍
後急冷処理を行い、その後300℃の温間圧延を施
して0.20mm厚の最終冷延板とした。 その後850℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面に
Al2O3（80％）とMgO（15％）とZrO2５％）を主
成分とする焼鈍分離剤を塗布した後850℃から
1150℃まで10℃／hrで昇温して２次再結晶させた
後、1200℃で８時間乾水素中で純化焼鈍を行つ
た。 その後酸洗により酸化被膜を除去後、３％HF
とH2O2液中で化学研磨して鏡面仕上げした後、
CVD法によりBN，Si3N4，ZrN，AlN，TiC，
SiC，ZrC，ZnO，SiO2，Al2O3の張力薄被膜
（0.4〜1.7μm厚）を形成させた。その後パルスレ
ーザーにより次の条件で照射した。（エネルギー
は３×10-3Ｊ、スポツト直径0.2mm、スポツトの
中心間隔1.5mmで行つた） その後一部の試料はレーザー照射後の鋼板表面
を塩酸で酸洗処理を行つた後SbCl3（0.01mol／
，80℃）に浸漬処理後リン酸塩とコロイダルシ
リカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理後800℃
で３時間の歪み取り焼鈍を行つた。この製品の磁
気特性を表３にまとめて示す。
極薄の張力被膜を形成させて地鉄との熱膨張の差
によつて起る強い弾性張力を利用することに加え
て鋼板表面に局部加工を導入し、またこの局部加
工で該鋼板地鉄表面の一部を露出させ、この局部
加工部に金属、半金属類等を充填させることによ
り鋼板表面上に異張力の働く領域を形成すること
によつて超低鉄損を実現することができる。 以上の実験結果は、TiN又はZrNよりなる張力
被膜について述べたが張力被膜はこのほかにも
Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Co，Ni，Mn，
Al，Ｂ，Siの窒化物やTi，Zrも含めて上記した
元素の炭化物並びにAl，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，
Ce，Ni，Cu，Ｗ，SiおよびZnの酸化物のうちか
ら選ばれる少なくとも１種よりなる場合にあつて
も、TiN，ZrNについてのべたところとほぼ同様
な作用効果をあらわし、何れも所期した目的に適
合する。 次にこの発明による、一方向性珪素鋼板の製造
工程について説明する。 出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼素材成
分、例えば Ｃ：0.01〜0.050％，Si：2.50〜4.5％，Mn：
0.01〜0.2％，Mo：0.003〜0.1％，Sb：0.005〜
0.2％，ＳあるいはSeの１種あるいは２種合計
で、0.005〜0.05％を含有する組成 Ｃ：0.01〜0.06％，Si：2.0〜4.0％，Ｓ：
0.005〜0.05％，Ｎ：0.001〜0.01％，Sn：0.01〜
0.5％，Cu：0.01〜0.3％，Mn：0.101〜0.2％を
含有する組成 Ｃ：0.01〜0.06％，Si：2.0〜4.0％，Ｓ：
0.005〜0.05％，Ｂ：0.0003〜0.0040％，Ｎ：
0.001〜0.01％，Mn：0.01〜0.2％を含有する組
成 の如きにおいて適用可能である。 次に熱延板は800〜1100℃の均一化焼鈍を経て
１回の冷間圧延で最終板厚とする１回冷延法か又
は、通常850℃から1050℃の中間焼鈍をはさんで
さらに冷延する２回冷延法にて、後者の場合最初
の圧下率は50％から80％程度、最終の圧下率は50
％から85％程度で0.15mmから0.35mmの最終冷延板
圧とする。 最終冷延を終わり製品板圧に仕上げた鋼板は、
表面脱脂後750℃から850℃の湿水素中で脱炭・１
次再化粧焼鈍処理を施す。 その後は通常鋼板表面にMgOを主成分とする
焼鈍分離材を塗布する。 この際、一般的には仕上げ焼鈍後の形成を不可
決としていたフオルステライトを特に形成させな
い方が、その後の鋼板の鏡面化処理を簡便にする
のに有効であるので、焼鈍分離剤としてAl2O3や
ZrO2，TiO2の如きを50％以上でMgOに混入した
焼鈍分離剤を使用すのが好ましい。 その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は
｛110｝＜001＞方位の２次再結晶粒を充分発達させ
るために施されるもので、通常箱焼鈍によつて直
ちに1000℃以上に昇温し、その温度に保持するこ
とによつて行われる。 この場合｛110｝＜001＞方位に、高度に揃つた
２次再結晶粒組織を発達させるためには820℃か
ら900℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、
そのほか例えば0.5〜15℃／ｈの昇温速度の徐熱
焼鈍でもよい。 ２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は乾水素中で1100
℃以上で１〜20時間焼鈍を行つて鋼板の純化を達
成することが必要である。 この純化焼鈍後に鋼板表面の酸化物被膜を硫
酸、硝酸または弗酸などの強酸によるような酸洗
か又は機械的研削、切削等により除去する。 次に化学研磨および／または電解研磨など従来
から既知の手法により鋼板表面を鏡面状態つまり
中心線平均粗さ0.4μm以下に仕上げる。 その後CVD、イオンプレーテングもしくはイ
オンインプランテーシヨンによりTi，Zr，Hf，
Ｖ，Zr，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，Mn，Co，
Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／または炭化物、
Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，Ｗ，
SiおよびZnの酸化物のうちから選んだ少なくと
も１主から成る0.005〜5μm程度の強力被膜を形
成させる。 その後この張力被膜またはこの張力被膜上にリ
ン酸系の絶縁被膜を形成させた後の鋼板表面上に
局部加工を導入する。この局部加工の導入方法は
レーザー照射（例えば特公昭57−2252号、特公昭
57−53419号、特公昭58−26405号及び特公昭58−
26406号各公報）、放電加工（特開昭57−18810号
号公報）、ケガキあるいはボールペン状の小球
（特公昭58−5968号公報）等の手段により圧延方
向とほぼ直角な方向に３〜15mm程度の間隔で0.01
〜２mm幅で導入する。 この間隔が３mm未満では鋼板形状を悪化させる
うれいがあり、15mmをこえると磁区細分化効果が
期待できない。 一方幅については0.01mm未満で磁区細分化に役
立たず、２mmをこえると鋼板形状を劣化させる。
その後この鋼板表面上に局部加工効果を生かすた
めに600℃以下の低温で１秒から30分間の短時間
の焼付処理を施す。また高温の歪み取り焼鈍を施
す場合には局部加工後鋼板被膜を塩酸、硝酸など
の酸で地鉄に至るまで溶解したのち、そこに該地
鉄と熱膨張係数の差が大きい金属、半金属あるい
はこれらを含む無機化合物を上記局部加工除去部
に充填させたあと700℃以上の温度で焼鈍を行う。
この局部加工部の歪応力が大きいと特開昭56−
130454号公報において開示されているように後の
焼鈍工程において微細再結晶粒が生じ、磁区の細
分化効果とともに鉄損低減に効果的に働く。 このような処理をした場合によつてはリン酸塩
とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜を焼
付処理し、700℃以上の温度で数時間の歪み取り
焼鈍を施して製品とする。 （実施例） 実施例 １ Ｃ：0.043％，Si：3.42％，Mn：0.068％，
Mo：0.025％，Se：0.022％，Sb：0.025％を含有
する熱延板を、900℃で３分間の均一化焼鈍後、
950℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷延圧延を行
つて0.23mm厚の最終冷延板とした。 その後820℃の湿水素中で脱炭焼鈍後鋼板表面
にAl2O3（75％）とMgO（25％）とを主成分とする
焼鈍分離剤を塗布した後850℃で50時間の２次再
結晶焼鈍し、1200℃で８時間乾水素中で純化焼鈍
を行つた。 その後酸洗により酸化被膜を除去後、３％HF
とH2O2液中で化学研磨して鏡面仕上げした。 その後10KVのイオン化電圧で３分間イオンプ
レーテイングし膜厚0.5μmのTiN張力絶縁被膜を
形成させた。 その後この極薄被膜上に圧延方向にほぼ直角方
向に５mm間隔でレーザー照射を行つた。このとき
の照射条件はパルスレーザーを使用しスポツト当
りのエネルギーは５×10-3Ｊ、スポツト直径は
0.2mm、レーザースポツトの中心間隔は0.5mm間隔
で行つた。 このときの製品の磁気特性はB10＝1.92T，
W17/50＝0.66W／Kgであつた。 実施例 ２ Ｃ：0.058％，Si：3.33％，Mn：0.080％，Al：
0.025％，Ｓ：0.030％，Ｎ：0.0068％を含有する
熱延板を、1150℃で３分間の均一化焼鈍後急冷処
理を行い、その後300℃の温間圧延を施して0.20
mm厚の最終冷延板とした。 その後850℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面に
Al2O3（80％）とMgO（20％）を主成分とする焼鈍
分離剤を塗布した後850℃から1150℃まで８℃／
hrで昇温して２次再結晶させた後、1200℃で８時
間乾水素中で純化焼鈍を行つた。 その後酸洗により酸化被膜を除去後、３％HF
とH2O2液中で化学研磨して鏡面仕上げした後、
CVD法により900℃で0.7μmのTiN極薄被膜を形
成させた。その後パルスレーザーにより次の条件
で照射した。（エネルギーは５×10U-3Ｊ、スポツ
ト直径0.15mm、スポツトの中心間隔１mmで行つ
た）その後500℃の低温の絶縁コーテイングを行
つた。この製品の磁気特性は次のようであつた。 B10＝1.94T，W17/50＝0.65W／Kg 実施例 ３ Ｃ：0.049％，Si：3.36％，Mn：0.078％，Al：
0.026％，Ｓ：0.0025％，Cu：0.1％，Sn：0.12％
を含有する熱延板を1130℃で３分間の均一化焼鈍
後急冷処理を行い、その後300℃の温間圧延を施
して0.20mm厚の最終冷延板とした。 その後850℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面に
Al2O3（80％）とMgO（15％）とZrO2５％）を主
成分とする焼鈍分離剤を塗布した後850℃から
1150℃まで10℃／hrで昇温して２次再結晶させた
後、1200℃で８時間乾水素中で純化焼鈍を行つ
た。 その後酸洗により酸化被膜を除去後、３％HF
とH2O2液中で化学研磨して鏡面仕上げした後、
CVD法によりBN，Si3N4，ZrN，AlN，TiC，
SiC，ZrC，ZnO，SiO2，Al2O3の張力薄被膜
（0.4〜1.7μm厚）を形成させた。その後パルスレ
ーザーにより次の条件で照射した。（エネルギー
は３×10-3Ｊ、スポツト直径0.2mm、スポツトの
中心間隔1.5mmで行つた） その後一部の試料はレーザー照射後の鋼板表面
を塩酸で酸洗処理を行つた後SbCl3（0.01mol／
，80℃）に浸漬処理後リン酸塩とコロイダルシ
リカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理後800℃
で３時間の歪み取り焼鈍を行つた。この製品の磁
気特性を表３にまとめて示す。
【表】
実施例 ４
Ｃ：0.049％，Si：3.39％，Mn：0.072％，Ｓ：
0.020％，SolAl：0.025％，Ｎ：0.0068％を含有す
る珪素鋼熱延板を1100℃で２分間の均一化焼鈍
後、950℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延
を施して0.23mm厚の最終冷延板とした。その後
820℃で３分間の脱炭・１次再結晶焼鈍を施した
後、Al2O3（60重量％）、MgO（25重量％）、ZrO2
（10重量％）、TiO2（５重量％）を主成分とする焼
鈍分離剤をスラリー状に塗布した。 その後850℃から10℃／hrで1050℃まで昇温し
て２次再結晶させた後さらにその後1200℃で６時
間乾水素中で純化焼鈍を行つた後、酸洗により表
面の酸化物を除去し、電解研磨により鋼板表面を
鏡面状態にした。その後CVD（表４中無印）イオ
ンプレーテイング（表４中の○印）およびイオン
インプランテーシヨン（表４中の△印）により
種々の薄膜（約1.0〜2.0μm厚）を形成させた後、
パルスレーザーにより次の条件で照射した。（エ
ネルギーは４×10-3Ｊ、スポツト直径0.15mm、ス
ポツトの中心間隔1.5mmで行つた）その後試料は
鋼板表面を酸洗処理後SnCl2（0.1mol／，80℃）
で浸漬処理した後リン酸塩とコロイグルシリカを
主成分とする絶縁被膜を焼付処理後800℃で３時
間の歪み取り焼鈍を行つた。この製品の磁気特性
を表４にまとめて示す。
0.020％，SolAl：0.025％，Ｎ：0.0068％を含有す
る珪素鋼熱延板を1100℃で２分間の均一化焼鈍
後、950℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延
を施して0.23mm厚の最終冷延板とした。その後
820℃で３分間の脱炭・１次再結晶焼鈍を施した
後、Al2O3（60重量％）、MgO（25重量％）、ZrO2
（10重量％）、TiO2（５重量％）を主成分とする焼
鈍分離剤をスラリー状に塗布した。 その後850℃から10℃／hrで1050℃まで昇温し
て２次再結晶させた後さらにその後1200℃で６時
間乾水素中で純化焼鈍を行つた後、酸洗により表
面の酸化物を除去し、電解研磨により鋼板表面を
鏡面状態にした。その後CVD（表４中無印）イオ
ンプレーテイング（表４中の○印）およびイオン
インプランテーシヨン（表４中の△印）により
種々の薄膜（約1.0〜2.0μm厚）を形成させた後、
パルスレーザーにより次の条件で照射した。（エ
ネルギーは４×10-3Ｊ、スポツト直径0.15mm、ス
ポツトの中心間隔1.5mmで行つた）その後試料は
鋼板表面を酸洗処理後SnCl2（0.1mol／，80℃）
で浸漬処理した後リン酸塩とコロイグルシリカを
主成分とする絶縁被膜を焼付処理後800℃で３時
間の歪み取り焼鈍を行つた。この製品の磁気特性
を表４にまとめて示す。
【表】
【表】
発明の効果
第１〜第５各発明とも著しい鉄損の低減が成就
される。
される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金
属物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表
面に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイ
オンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成した後、該被膜表面
上に、圧延方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔
で0.01〜２mm幅で局部加工を導入する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製
造方法。 ２ 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金
属物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表
面に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイ
オンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成した後、該被膜表面
上に、圧延方向とほぼ直角に３〜15mmの間隔で
0.01〜２mm幅で局部加工を導入し、ついで絶縁被
膜を被成する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製
造方法。 ３ 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金
属物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表
面に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイ
オンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成し、ついでこの被膜
上に絶縁被膜を被成した後、これら被膜に、圧延
方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜２
mm幅で局部加工を導入する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製
造方法。 ４ 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金
属物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表
面に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイ
オンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成し、ついでこの被膜
上に絶縁被膜を被成した後、これら被膜に、圧延
方向とほぼ直角方向に３〜15mmの間隔で0.01〜２
mmの間隔で局部加工を導入し、さら絶縁被膜を被
成する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製
造方法。 ５ 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金
属物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表
面に、CVD、イオンプレーテイングもしくはイ
オンインプランテーシヨンにより、 Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，Mo，Ｗ，
Mn，Co，Ni，Al，Ｂ，Siの窒化物及び／又は
炭化物並びに Al，Ti，Sn，Fe，Zr，Ta，Ce，Ni，Cu，
Ｗ，SiおよびZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも１種から成り、そ
れらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に
被着した極薄張力被膜を形成した後、又はこの被
膜上に絶縁被膜を被成した後これらの被膜に、圧
延方向とほぼ直角方向に３〜15mm間隔で0.01〜２
mm幅で局部加工を導入して該鋼板地鉄表面の一部
を露出せしめ、次いで該地鉄との熱膨張係数の差
が大きな金属、半金属およびこれらを含む無機化
合物を上記地鉄露出部に充填したのち焼鈍を施す
か、或いは歪加工後歪取り焼鈍を施すことを特徴
とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60-74460 | 1985-04-10 | ||
| JP7446085 | 1985-04-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6230303A JPS6230303A (ja) | 1987-02-09 |
| JPH0461482B2 true JPH0461482B2 (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=13547883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7908386A Granted JPS6230303A (ja) | 1985-04-10 | 1986-04-08 | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6230303A (ja) |
-
1986
- 1986-04-08 JP JP7908386A patent/JPS6230303A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6230303A (ja) | 1987-02-09 |
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