JPH0459747A

JPH0459747A - 安息香酸誘導体の製造方法及びその中間体並びにその製造方法

Info

Publication number: JPH0459747A
Application number: JP2167755A
Authority: JP
Inventors: Hideo Takaishi; 高石　日出男; Mitsuhiro Kishida; 岸田　満浩; Yuzo Miura; 友三三浦
Original assignee: Nihon Nohyaku Co Ltd
Current assignee: Nihon Nohyaku Co Ltd
Priority date: 1990-06-26
Filing date: 1990-06-26
Publication date: 1992-02-26
Anticipated expiration: 2014-11-29
Also published as: JP2984847B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は一般式（Ｉ）（式中、Ｘは同−又は異なっても良いハロゲン原子を示
し、Ｒは低級アルキル基を示す。）で表される安息香酸
誘導体の製造方法及びその中間体並びに該中間体の製造
方法に関するものである。

本発明製法による一般式（Ｉ）で表される安息香酸誘導
体は、医薬、農薬、化学品等の原料又は中間体として有
用な化合物である。

本発明の製造方法を図式的に示すと、例えば下記に示す
ことができる。

（ＩＶ）（Ｉ［［）（式中、Ｘ、Ｙ及びＲは前記に同し。）即ち、−殺伐（
ＩＶ）で表される化合物をハロゲン化剤によりハロゲン
化し、−殺伐（ＩＩＩ）で表されるビスカルボナート類
とし、該ビスカルボナート類を単離し、又は単離せずし
て一般式（ＩＩ）で表されるアルコール類及び−酸化炭
素とを不活性溶媒、触媒及び塩基の存在下に反応させ、
−殺伐（１）で表される安息香酸誘導体を製造するもの
である。

一般式（■）＝＋一般式Ｃｍ）。

本反応で使用できる不活性溶媒としては本反応の進行を
著しく■害しないものであれば良く、例えば硫酸等の鉱
酸類、氷酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸及びこれら
の混合物を例示することができる。

ハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭素、塩素酸カリ
ウム、臭素酸カリウム、塩素−硫酸銀、臭素−硫酸銀等
を使用することができ、塩素及び臭素を同時に使用する
こともできる。

ハロゲン化剤の使用量は一般式（ＴＶ）で表される化合
物に対して２〜４倍モルの範囲力）ら適宜選択して使用
すれば良い。

本反応の反応温度は室温乃至１００°Ｃの範囲で行うこ
とができる。

反応時間は反応量、反応温度等Ｇこより一定しないが数
分乃至４８時間の範囲で行われる。

反応終了後、常法、例えば溶媒抽出等の方法により単離
し、必要に応じて精製することＧこより目的物を製造す
ることができる。

又、反応系より過剰のノ＼ロゲン化剤を留去し、目的物
を単離することなく次の反応量こイ共することもできる
。

・−殺伐（ＤＩ）→−一般式Ｉ）。

本反応で使用できる不活性溶媒として番よ、例えばメタ
ノール、エタノール、プロノ々ノール等のアルコール類
、ヘキサン等の脂肪族炭イヒ水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の鎖状又は環状エ
ーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン、ヘキサメチルホスホロトリアミド等の不
活性溶媒を例示することができ、これらは単独で使用し
ても良く、混合して使用しても良い。

一般式（ＩＩ）で表されるアルコール類は一般式（Ｉ［
［’）で表されるビスカルボナート類に対して等モル乃
至過剰モル使用すれば良く、好ましくは不活性溶媒とし
て一般式（Ｉ）で表される安息香酸誘導体のエステルに
相当するアルコール類を１０〜５０倍モル使用して、不
活性溶媒及び反応剤とすることもできる。

本反応の触媒としてはパラジウム化合物及びホスフィン
化合物を組み合わせて使用することができ、パラジウム
化合物としては、例えば金属パラジウム、パラジウムカ
ーボン、パラジウムアルミナ、塩化パラジウム、臭化パ
ラジウム、酢酸パラジウム等のパラジウム金属類、パラ
ジウムの０価、２価若しくは４価のパラジウム化合物を
使用することができる。

パラジウム化合物にかえて周期律表第■族のコバルト、
白金、ロジウム、ルテニウム、イリジウム又はオスミウ
ム等の金属単体若しくは金属塩を使用することもできる
。

ホスフィン化合物としては、例えばトリイ・ノプロピル
ホスフイン、トリブチルホスフィン等のトリアルキルホ
スフィン類、トリフェニルホスフィン、トリバラフルオ
ロフェニルホスフィン、トリパラトリルフェニルホスフ
ィン等のトリアリールホスフィン類、１．１−ビス（ジ
メチルホスフィノ）メタン、１．１−ビス（ジエチルホ
スフィノ）メタン、１．２−ビス（ジメチルホスフィノ
）エタン、１．２−ビス（ジエチルホスフィノ）エタン
、１．３−ビス（ジメチルホスフィノ）プロパン、１．
３−ビス（ジエチルホスフィノ）プロパン、１．４−ビ
ス（ジメチルホスフィノ）ブタン、１．４−ビス（ジエ
チルホスフィノ）ブタン等のビス（ジアルキルホスフィ
ノ）アルカン類、１．２−ビス（ジフェニルホスフィノ
）エタン、１．　３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プ
ロパン、１．４ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン等
のビス（ジアリールホスフィノ）アルカン類を例示する
ことができる。

ホスフィン化合物の添加量はパラジウム化合物に対して
０．０１〜１００倍モルの範囲から選択して使用すれば
良く、好ましくは０．１〜５０倍モルの範囲である。

本反応はパラジウム化合物及びホスフィン化合物を組み
合わせて使用すれば良く、反応系にそれぞれ単独で使用
しても良く、予め錯体の形に調整して使用しても良い。

触媒の使用量としては一般式（１）で表されるビスカル
ボナート類に対して０．０００１〜等モルの範囲で使用
すれば良い。

本反応で使用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基
を使用することができ、無機塩基としては、例えば炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリラム、酸化カリウム等の無機塩基を例示する
ことができ、有機塩基としては、例えばトリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
Ｎ−メチルピロリドン等の有機塩基又は酢酸ナトリウム
等の有機酸塩を使用することができる。

塩基の使用量は反応により生成するハロゲン化水素を中
和するのに必要な量を使用すれば良い。又、有機塩基を
使用する場合、水を同時に使用することもできる。

本反応は一酸化炭素の存在下に常圧乃至加圧下で行われ
、−酸化炭素の圧力は１〜２００気圧の範囲で行われ、
好ましくは１〜５０気圧の範囲である。

反応温度は３０°Ｃ乃至３００°Ｃの範囲で行えば良い
。

本反応で使用される反応容器としては、通常使用される
もので良く、加圧反応の場合は加圧に耐えられるものを
使用し、金属製又はガラス製の反応容器を例示すること
ができる。

反応時間は反応量、反応温度、−酸化炭素圧等により一
定しないが数分乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法によって処理
し、必要に応して精製することにより目的物を製造する
ことができる。

本発明の製造方法の出発物質である一般式（ＴＶ）で表
される化合物は下記の製法により製造することができる
。

×２　　　　カルボニル挿入反応（Ｖ）（ＩＶ）（式中、Ｘは前記に同し、）即ち、−殺伐（Ｖ）で表されるフェノール類を不活性溶
媒及び塩基の存在下にカルボニル挿入試薬、例えばホス
ゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチル、カルボニルジイミ
ダゾール、ジスクンイミドカーボネート等と反応させる
ことにより製造することができる。

以下に本発明の代表的な実施例を示すが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。

？［例ｘ、ビス（５−ブロモー２−クロロ−４−フルオ
ロフェニル）カルボナートの”ｔＡ　造目的物を酢酸エ
チルで抽出し、抽出液を水洗及び無水ｇ酸化カリウムで
乾燥後、減圧下ムこ濃縮し、得られた残渣をカラムクロ
マトグラフィにより精製して目的物０．８９ｇを得た。

物性：　ｍ、ｐ、　１５２．７”Ｃ収率　５９．６％実
施例２．４−クロロー２−フルオロ−５−ヒドロキシ安
息香酸メチルの製造ビス（２−クロロ−４−フルオロフェニル）カルボナー
トＩｇ（３，１３ミリモル）を濃硫酸３０−に懸濁し、
臭素３．１ｇ　（１８，７ミリモル）を加えた後、塩素
ガスを５０゛Ｃの加温下に２．５時間通気した。

反応終了後、反応液を氷水２００ｄ中に注ぎ、金属製オ
ートクレーブにビス（５−ブロモ２−クロロ−４−フル
オロフェニル）カルボナ−）８ｇ　（１６，７ミリモル
）、メタノール２５ｇ（７８１ミリモル）、トリフェニ
ルホスフィン０．４４９ｇ　（９８％含量、１．ロアミ
リモル）、塩化パラジウム０．２９８ｇ（１、ロアミリ
モル）及び炭酸ナトリウム１．９８ｇ　（９９％含量、
１８．４４ミリモル）を加え密封後、オートクレーブ内
に一酸化炭素ガスを通気して容器内の空気を置換した後
、−酸化炭素ガス（初気圧３５ｋｇ／ｅＪ）を封入し、
室温で５分間攪拌後、容器をシリコーンオイルバス中に
移し、外部温度を１５０°Ｃに保持して５時間反応を行
った。

反応終了後、オートクレーブを水浴中で冷却後開封し、
水２０Ｒ１を加えた後、２Ｎ塩酸で酸性にし、酢酸エチ
ルにより目的物を抽出した。

抽出液を水洗及び無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下に溶媒を留去し、目的物３．２４ｇを得た。

物性：　ｍ、ｐ、　１１６．５°Ｃ収率　９４．９％参
考例１　、　ビス（２−クロロ−４−フルオロフェニル
カルボナートの製造（１７０ミリモル）、無水テトラヒドロフラン２００Ｍ
１及びトリエチルアミン２０．７ｇ（２０４ミリモル）
の混合物を０℃に氷冷し、クロロ蟻酸メチル１８ｇ（９
１ミリモル）を滴下した。

滴下終了後、０°Ｃで３０分間攪拌し、その後徐々に室
温まで上昇させ反応を行った。

反応終了後、反応液に水２００　ｙｎｌを加え目的物を
酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗及び無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、得られた粗結晶をｎ
−ヘキサンより再結晶して目的物２４ｇを得た。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）、一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）（式中、Ｘは同一又は異なっても良いハロゲン原子を示
す。）で表される化合物をハロゲン化剤によりハロゲン化し、
一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｘは前記に同じくし、Ｙはハロゲン原子を示す
。）で表されるビスカルボナート類とし、該ビスカルボナー
ト類（III）を単離し、又は単離せずして一般式（II）Ｒ−ＯＨ（II）（式中、Ｒは低級アルキル基を示す。）で表されるアルコール類とを一酸化炭素及び触媒の存在
下に反応させることを特徴とする一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｘ及びＲは前記に同じ。）で表される安息香酸誘導体の製造方法。
（２）、一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｘは同一又は異なっても良いハロゲン原子を示
し、Ｙはハロゲン原子を示す。）で表されるビスカルボ
ナート類と一般式（II）Ｒ−ＯＨ（II）（式中、Ｒは低級アルキル基を示す。）で表されるアルコール類とを一酸化炭素及び触媒の存在
下に反応させることを特徴とする一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｘ及びＲは前記に同じ。）で表される安息香酸誘導体の製造方法。
（３）、一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）（式中、Ｘは同一又は異なっても良いハロゲン原子を示
す。）で表される化合物をハロゲン化剤によりハロゲン化する
ことを特徴とする一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｘは前記に同じくし、Ｙはハロゲン原子を示す
。）で表されるビスカルボナート類の製造方法。
（４）、一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｘは前記に同じくし、Ｙはハロゲン原子を示す
。）で表されるビスカルボナート類。
（５）、ビスカルボナート類がビス（５−ブロモ−２−
クロロ−４−フルオロフェニル）カルボナートである請
求項第４項記載のビスカルボナート類。