JPH0459400B2 - - Google Patents

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JPH0459400B2
JPH0459400B2 JP61236825A JP23682586A JPH0459400B2 JP H0459400 B2 JPH0459400 B2 JP H0459400B2 JP 61236825 A JP61236825 A JP 61236825A JP 23682586 A JP23682586 A JP 23682586A JP H0459400 B2 JPH0459400 B2 JP H0459400B2
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JP
Japan
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plating
plating liquid
tank
nozzle
processing
Prior art date
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JP61236825A
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English (en)
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JPS6393897A (ja
Inventor
Atsuhiko Sato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uemera Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Uemera Kogyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は複数のブロツク状ワーク(概ね塊状の
被処理物)を1個のワーク群として処理するため
のめつき処理装置に関し、特に複数のめつき液噴
射ノズルからめつき液をワークに吹き付けながら
電気めつき処理を行うようにしためつき液噴射式
めつき処理装置に関する。
(従来の技術) この種の処理装置の一例は、本件出願人による
特願昭58−31478(特開昭59−157300号)に記載さ
れている。その装置ではめつき処理槽内に吊り下
げた1枚の板状ワークの両側に複数のめつき液噴
射ノズルを配置し、それらの噴射ノズルからめつ
き液をワークに向けて噴射しながらめつきを行う
ようになつている。
又従来の噴射式処理装置では、いずれも、めつ
き液はめつき処理槽の下側に設けた別の槽(貯
槽)からポンプによりノズルに供給され、めつき
処理槽内へ噴射されためつき液は上記貯槽へ流下
するようになつている。なおめつき処理槽とは別
に貯槽を設けた構造の一例は、本件出願人による
特願昭58−40190号(特開昭59−166697号)に記
載されている。
そして本件出願人は、従来、板状ワークのめつ
き処理だけに使用されていためつき液噴射式処理
装置をブロツク状ワーク(例えば車両用デイスク
ブレーキのキヤリパ等の部品)のめつき処理に利
用しようとした。
(発明が解決しようとする問題点) ところが従来の装置を車両用デイスクブレーキ
部品の処理にそのままで流用すると、次のような
問題が生じることが判明した。
すなわち上記部品を処理する場合、処理時間の
短縮や処理品質の向上を図るために、発泡性の高
いめつき液を使用する必要がある。
ところが従来構造では、作業が終了して装置を
停止させると、めつき処理槽内のめつき液は下方
の貯槽へ流下するので、作業開始前にはめつき処
理槽は空である。そのために作業に先立つて貯槽
内のめつき液をポンプによりノズルからめつき処
理槽へ供給する必要があるが、空の処理槽へノズ
ルから発泡性の高いめつき液を噴出させると、処
理槽全体が泡立ち、その泡を消すまでめつき作業
を開始できないという問題が生じる。
又従来の装置ではアノード周辺のめつき液濃度
が他の部分に比べて不均一になりやすい。しかも
ブロツク状ワークをめつき処理する際にアノード
がワーク設置領域よりも大きい場合はめつき厚さ
が均一になりにくい。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、めつき液を溜めるめつき処理槽の内
部に、複数のブロツク状ワークに対してその両側
からワーク向いめつき液を噴射する複数の回動自
在のめつき液噴射ノズルを設け、上記ノズルの背
後にワーク設置領域より小さいアノードを設け、
一部のノズルからのめつき液噴流をワークの間の
隙間を通して反対側のアノードに到達させるよう
に構成し、上記処理槽の外側に、処理槽の周壁の
上端から溢れためつき液を回収するための環状溝
状のオーバーフロー槽を形成し、途中にポンプを
有するめつき液戻し配管によりオーバーフロー槽
とめつき液噴射ノズルとを連結し、めつき処理槽
により、ポンプ停止時にめつき液を溜めるための
貯槽を形成したことを特徴とするめつき液噴射式
めつき処理装置である。
(作 用) 上記構造によると、めつき処理槽が貯槽を兼ね
ているので、作業が終了してポンプを停止させて
も、めつき液は処理槽に溜つたままであり、処理
槽が空になることはない。従つて次の作業開始時
にノズルからめつき液を噴射しても、めつき液は
めつき液内へ噴射され、処理槽内が泡立つことは
ない。ノズルからのめつき液噴流は反対側のアノ
ードの周囲のめつき液を撹拌する。又ワーク設置
領域の周辺のワークの縁部に電流が集中すること
はない。
(実施例) 第1図は実施例の装置の垂直断面略図、第2図
は第1図の−断面略図である。これらの図に
おいて、めつき処理槽1は底壁2と周壁3とを有
しており、基礎4上に設置されている。周壁3の
上部の外側にはめつき液回収用の容器又は回収溝
5(オーバーフロー槽)が形成されている。回収
溝5の底部には戻し配管6の入口が接続してい
る。配管6は途中にポンプ7を備え、出口がめつ
き処理槽1内部の1対のパイプ8に接続してい
る。
パイプ8はめつき処理槽1の底部を左右方向
(第1図で左右方向)に間隔を隔てて水平に延び
ている。第2図の如く、各パイプ8の前後方向
(第2図で左右方向)に間隔を隔てた複数箇所か
らは、ライザーパイプ10が上方へ延びている。
第1図の如く、各パイプ10の上下に間隔を隔て
た複数箇所には、めつき液噴射ノズル11が後述
するワーク設置領域12に向けて設けてある。
個々のノズル11はその噴射角度を前後左右いず
れの方向にも調整できるように構成されており、
具体的には、例えば第3図のように構成されてい
る。
第2図の−断面拡大部分図である第3図に
おいて、ノズル11は筒状のボルト状部材15
と、ナツト状部材16、ノズル部材17とを備え
ている。ボルト状部材15は基端の雄ねじ部がパ
イプ10の管壁のねじ孔に固定されている。ナツ
ト状部材16はボルト状部材15の先端のねじ部
に固定されている。ノズル部材17は基端部外周
に形成した球面がボルト状部材15の先端部とナ
ツト状部材16の内周に形成した球面座に回動自
在の状態で固定されている。
第1図において、上記ワーク設置領域12は上
下方向の高さHと左右方向の幅Wと前後方向の長
さL(第2図)とを有しており、左右のパイプ1
0群の間に形成されている。このワーク設置領域
12には複数のワークQ(実施例では車両用デイ
スクブレーク部品)が上下方向(又は左右方向あ
るいは上下左右両方向)に隙間20を隔てて配置
される。ワークQは例えば枠状の治具21に保持
されており、負電極に接続している。
前述の多数のノズル11の内、一部(複数)の
ノズル11は、その噴射方向が、第1図に破線M
で示す如く、ワーク間の隙間20に向けて設定さ
れている。又その他の複数のノズル11は、その
噴射方向が、実線Nで示す如く、ワークQに向け
て設定されている。更に隙間20に向けられた左
右のノズル11は、その方向が互いにずらされて
おり、両側からのめつき液流が互いに衝突しない
ようになつている。
左右のパイプ10群に対してワーク設置領域1
2と反対側の位置にはアノード22が配置されて
いる。アノード22はワーク設置領域12の真正
面に配置されており、より具体的は、アノード2
2の中央部がワーク設置領域12の中央部に対し
て概ね左右方向に並ぶように配置されている。左
右両側のアノード22は、それぞれ、上下高さ及
び前後長さがワーク設置領域12の前記高さH及
び長さLよりも小さく、各アノード22の有効表
面積はワークQの表面積よりもかなり小さく(例
えば約半分に)設定されている。
次に実施例の装置の作用を説明する。
めつき処理作業中はポンプ7が作動し、ポンプ
7から吐出されためつき液がパイプ8,10を通
つてノズル11から噴出する。この噴出しためつ
き液は、一部が矢印N方向に流れてワークQに衝
突し、ワークQの周囲のめつき液を撹拌する。そ
の他のめつき液はワーク間の隙間20やワークQ
の周囲を通過し、パイプ10,10間の隙間を通
つてアノード22まで流れ、アノード22の周囲
のめつき液を撹拌する。このようにしてめつき処
理槽1内全体のめつき液が充分に撹拌されるの
で、金属濃度の高いめつき液が常にワークQの表
面へ供給される。従つて高精度のめつき層が短時
間で形成される。
ワークQの仕様が変更され、ワークQの寸法形
状や治具21に装着されるワークQの数等が変わ
つた場合、第3図のノズル部材17の方向を変
え、上記噴射状態を維持する。又、ナツト状部材
16を一時的に外すことにより、ノズル部材17
をノズル形状(孔形状)の異なる別のノズル部材
に付け換えることもできる。
上記処理作業において、仮にワーク設置領域1
2よりも広い範囲にアノードを設置すると、ワー
クQの縁部(例えば第1図の縁部23)の電流密
度が他の部分よりも高くなり、そのために縁部の
めつき厚さが大きくなる。これに対し、図示の構
造では、前述の如く、小形のアノード22を使用
しているので、縁部に電流が集中することを防止
し、ワークQ全体のめつき厚さを均一化できる。
上述の如くノズル11からめつき液が噴射され
るのにともなつて、めつき処理槽1の上端からは
めつき液が溢れ、回収溝5に流入する。このめつ
き液は回収溝5から配管6へ流入し、ポンプ7に
より再びめつき処理槽1内へ噴射される。
上記動作において、回収溝5へ流入するめつき
液は、前述の如く、矢印M方向の噴流により撹拌
された金属濃度の高いめつき液であり、そのめつ
き液が、大形の貯槽に戻されることなく、配管6
等の短い通路だけを介してノズル11から噴出す
る。従つてノズル11から噴出するめつき液の金
属濃度も高く、この点においても、高精度のめつ
き層が短時間で形成される。
作業が終了してポンプ7を停止させると、ノズ
ル11からの噴射は停止するが、めつき処理槽1
からめつき液が流出することはなく、めつき液は
めつき処理槽1内に溜つたままの状態となる。そ
のために次の作業開始時にポンプ7を始動した場
合、空気中にめつき液が噴射されることはなく、
めつき液はノズル11からめつき液内へ噴射され
る。従つて、めつき液は発泡性が高いにもかかわ
らず、噴射開始時にめつき処理槽1内が泡立つこ
とはない。
なお、図示されていないが、めつき処理システ
ムでは、めつき処理槽1やその他の処理槽が前後
あるいは左右方向に多数並べてあり、ワークQは
治具21に装着された状態で、搬送ロボツトによ
りそれらの処理槽に順々に漬けられるようになつ
ている。
(発明の効果) 以上説明したように本発明では、従来の噴流式
処理装置と異なり、装置停止時にもめつき液をめ
つき処理槽1に溜めておくことができるので、作
業開始時にノズル11からのめつき液噴流により
めつき処理槽1内が泡立つことを防止できる。
本発明によると、一部のノズル11の噴射方向
を第1図の破線Mで示すように、ワーク間の隙間
20に向けることにより、めつき液噴流でアノー
ド22の周囲のめつき液を積極的に充分撹拌する
ことができ、めつき処理槽周壁3の上縁全周から
めつき液がオーバーフロー槽5に溢れでることと
相俟つて、金属濃度の高い均一な濃度のめつき液
を常時ワークの表面へ供給することができる。し
かもアノード22がワーク設置領域より小さいの
で、ワーク設置領域の周縁のワークの縁部に電流
が集中することが防止され、ワーク全体のめつき
厚さを均一化できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例の装置の垂直断面略図、第2図
は第1図の−断面略図、第3図は第2図の
−断面拡大部分図である。 1…めつき処理槽、5…回収溝(オーバーフロ
ー槽)、7…ポンプ、11…めつき液噴射ノズル、
Q…ワーク。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 めつき液を溜めるめつき処理槽の内部に、複
    数のブロツク状ワークに対してその両側からワー
    クに向いめつき液を噴射する複数の回動自在のめ
    つき液噴射ノズルを設け、上記ノズルの背後にワ
    ーク設置領域より小さいアノードを設け、一部の
    ノズルからのめつき液噴流をワークの間の隙間を
    通して反対側のアノードに到達させるように構成
    し、上記処理槽の外側に、処理槽の周壁の上端か
    ら溢れためつき液を回収するための環 溝状のオーバーフロー槽を形成し、途中にポン
    プを有するめつき液戻し配管によりオーバーフロ
    ー槽とめつき液噴射ノズルとを連結し、めつき処
    理槽により、ポンプ停止時にめつき液を溜めるた
    めの貯槽を形成したことを特徴とするめつき液噴
    射式めつき処理装置。
JP23682586A 1986-10-03 1986-10-03 めつき液噴射式めつき処理装置 Granted JPS6393897A (ja)

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JP23682586A JPS6393897A (ja) 1986-10-03 1986-10-03 めつき液噴射式めつき処理装置

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JP23682586A JPS6393897A (ja) 1986-10-03 1986-10-03 めつき液噴射式めつき処理装置

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JPS6393897A JPS6393897A (ja) 1988-04-25
JPH0459400B2 true JPH0459400B2 (ja) 1992-09-22

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ID=17006339

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JP23682586A Granted JPS6393897A (ja) 1986-10-03 1986-10-03 めつき液噴射式めつき処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2564893B (en) * 2017-07-27 2020-12-16 Semsysco Gmbh Distribution system for chemical and/or electrolytic surface treatment
GB2564895A (en) * 2017-07-27 2019-01-30 Semsysco Gmbh Distribution system for chemical and/or electrolytic surface treatment

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52111844A (en) * 1976-03-17 1977-09-19 Toyo Giken Kougiyou Kk Method of circulating liquid in surface treating means
JPS6026693A (ja) * 1983-07-25 1985-02-09 C Uyemura & Co Ltd 高速電解装置

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