JPH0456662B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0456662B2 JPH0456662B2 JP27048484A JP27048484A JPH0456662B2 JP H0456662 B2 JPH0456662 B2 JP H0456662B2 JP 27048484 A JP27048484 A JP 27048484A JP 27048484 A JP27048484 A JP 27048484A JP H0456662 B2 JPH0456662 B2 JP H0456662B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- catalyst
- hypochlorite
- nickel
- molding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 52
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- GNMQOUGYKPVJRR-UHFFFAOYSA-N nickel(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ni+3].[Ni+3] GNMQOUGYKPVJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 13
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 13
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- -1 chlorine ions Chemical class 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 4
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 4
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 3
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 2
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K aluminium tristearate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940063655 aluminum stearate Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005619 boric acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000004076 pulp bleaching Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000015170 shellfish Nutrition 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M sodium octadecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、水溶液中の次亜塩素酸塩の分解触媒
に係わり、更に詳しくは次亜塩素酸塩水溶液中の
次亜塩素酸イオンを、塩素イオンと分子状酸素に
分解する触媒で、高濃度の次亜塩素酸塩水溶液に
も長時間安定して、高い分解能力を持つ成型触媒
とその製法に関する。
に係わり、更に詳しくは次亜塩素酸塩水溶液中の
次亜塩素酸イオンを、塩素イオンと分子状酸素に
分解する触媒で、高濃度の次亜塩素酸塩水溶液に
も長時間安定して、高い分解能力を持つ成型触媒
とその製法に関する。
次亜塩素酸塩イオンを含む排水は、塩素、苛性
ソーダの製造、晒粉や塩素化シアヌル酸等の漂白
殺菌剤の製造工場のプロセスあるいはパルプ等の
漂白工程等によつて生ずる。
ソーダの製造、晒粉や塩素化シアヌル酸等の漂白
殺菌剤の製造工場のプロセスあるいはパルプ等の
漂白工程等によつて生ずる。
水溶液の次亜塩素酸イオンは、魚貝類、水棲の
植物に有毒であり、また多くの金属を腐食する。
このため、次亜塩素酸塩イオンを含む排水は、通
常は還元処理し公共河川、湖沼、海等に放出され
ている。
植物に有毒であり、また多くの金属を腐食する。
このため、次亜塩素酸塩イオンを含む排水は、通
常は還元処理し公共河川、湖沼、海等に放出され
ている。
(従来の技術)
次亜塩素酸塩を水溶液中から除去する化学的に
分解する方法として、例えばH2O2、
NaSHNa2SO3、NaHSO3、Na2S2O3、NaNO2
等が用いられるが、大量の排水に対しては処理費
用が高くなり、またNaSH、Na2SO3は処理水が
白濁するため2次、3次の排水処理が必要とな
る。従つてこれらの化学的処理はいずれも排水処
理のために多大の経費がかかる。このようにして
大量の濃度の高い次亜塩素酸塩水溶液を経済的に
処理する方法として、触媒による分解方法が提案
されている。
分解する方法として、例えばH2O2、
NaSHNa2SO3、NaHSO3、Na2S2O3、NaNO2
等が用いられるが、大量の排水に対しては処理費
用が高くなり、またNaSH、Na2SO3は処理水が
白濁するため2次、3次の排水処理が必要とな
る。従つてこれらの化学的処理はいずれも排水処
理のために多大の経費がかかる。このようにして
大量の濃度の高い次亜塩素酸塩水溶液を経済的に
処理する方法として、触媒による分解方法が提案
されている。
水溶液中の次亜塩素酸塩を分解させる触媒とし
ては、重金属、特にコバルト、ニツケル、銅、鉄
など及びこれらの塩類、あるいは酸化物、水酸化
物等が知られている。
ては、重金属、特にコバルト、ニツケル、銅、鉄
など及びこれらの塩類、あるいは酸化物、水酸化
物等が知られている。
例えば、ある種の遷移金属は次亜塩素酸塩を塩
素イオンと酸素への分解触媒になることが知られ
ている(特開昭58−115002号公報)。
素イオンと酸素への分解触媒になることが知られ
ている(特開昭58−115002号公報)。
しかしながら、この方法では、遷移金属イオン
を用いるためその溶解損失及び、その損失を防ぐ
ために複雑な工程を必要とし経済的でなく、また
重金属による排水の汚染を起こす可能性をもつ。
を用いるためその溶解損失及び、その損失を防ぐ
ために複雑な工程を必要とし経済的でなく、また
重金属による排水の汚染を起こす可能性をもつ。
また、鉄、銅、マグネシウム、ニツケル及びコ
バルトの酸化物ないし、水酸化物よりなる次亜塩
素酸塩の分解触媒が報告されている。前記の金属
の内コバルトが一番分解能力があると報告されて
いるが、コバルトは高価であるので経済的でな
い。
バルトの酸化物ないし、水酸化物よりなる次亜塩
素酸塩の分解触媒が報告されている。前記の金属
の内コバルトが一番分解能力があると報告されて
いるが、コバルトは高価であるので経済的でな
い。
これらの触媒には粉末状、あるいは粒状、ペレ
ツト状に成型されたものが使用されている。粉末
状の触媒は分解反応で生成する分子状酸素によ
り、触媒が浮上するため有用な触媒を損失する。
これを防ぐため複雑な触媒回収工程を必要とす
る。このため成型された触媒が好ましい。この成
型触媒を製造する場合、多くの場合硝酸塩をアル
カリで中和し水酸化物で濾過、水洗するか、セラ
ミツク等の担体に硝酸塩を含浸させ焼成して酸化
物触媒を得る。成型された担体に硝酸塩を含浸さ
せ乾燥後焼成して酸化物触媒を製造するが、この
際に有害なNOxが大量に発生するため、NOxガ
スの除害装置を必要とする。
ツト状に成型されたものが使用されている。粉末
状の触媒は分解反応で生成する分子状酸素によ
り、触媒が浮上するため有用な触媒を損失する。
これを防ぐため複雑な触媒回収工程を必要とす
る。このため成型された触媒が好ましい。この成
型触媒を製造する場合、多くの場合硝酸塩をアル
カリで中和し水酸化物で濾過、水洗するか、セラ
ミツク等の担体に硝酸塩を含浸させ焼成して酸化
物触媒を得る。成型された担体に硝酸塩を含浸さ
せ乾燥後焼成して酸化物触媒を製造するが、この
際に有害なNOxが大量に発生するため、NOxガ
スの除害装置を必要とする。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明者等は次亜塩素酸塩を分解する触媒を製
造するにあたり、上記NOxを発生させず、しか
も、長時間固定層反応器に触媒を充填して、次亜
塩素酸塩を含む廃液を処理しても、触媒が崩壊せ
ず、また触媒寿命の非常に長い触媒について鋭意
研究をし本発明を完成した。
造するにあたり、上記NOxを発生させず、しか
も、長時間固定層反応器に触媒を充填して、次亜
塩素酸塩を含む廃液を処理しても、触媒が崩壊せ
ず、また触媒寿命の非常に長い触媒について鋭意
研究をし本発明を完成した。
(問題点を解決するための手段)
即ち、本発明の次亜塩素酸塩分解用成型は三二
酸化ニツケルを60〜90重量%含有し、SiO2を1
〜30重量%またはAl2O3を1〜15重量%、成型賦
与剤を0.1〜10重量%含有することを特徴とする。
酸化ニツケルを60〜90重量%含有し、SiO2を1
〜30重量%またはAl2O3を1〜15重量%、成型賦
与剤を0.1〜10重量%含有することを特徴とする。
その製造方法は三二酸化ニツケル100重量部あ
たり、シリカゾルあるいはアルミナゾル10〜100
重量部を添加し、混合、乾燥し、300〜500℃で焼
成し、この焼成物に成型賦与剤を0.1〜10重量%
添加し、加圧成型し、300〜500℃で焼成すること
を特徴とする。
たり、シリカゾルあるいはアルミナゾル10〜100
重量部を添加し、混合、乾燥し、300〜500℃で焼
成し、この焼成物に成型賦与剤を0.1〜10重量%
添加し、加圧成型し、300〜500℃で焼成すること
を特徴とする。
本発明の触媒である酸化ニツケルは、炭酸ニツ
ケル若しくは塩基性炭酸ニツケルを焼成したもの
であり、組成的には三二酸化ニツケルに相当す
る。
ケル若しくは塩基性炭酸ニツケルを焼成したもの
であり、組成的には三二酸化ニツケルに相当す
る。
しかしながら通常の三二酸化ニツケルは、0.1μ
程度の微粒子であり、該粉末の成型化は極めて困
難である。本発明の成型化にあたり三二酸化ニツ
ケル粉末を水溶性の高濃度シリカゾル、あるいは
アルミナゾルを結合剤として用い混練し、100〜
110℃で乾燥し水分を除去する。高濃度シリカゾ
ルとしては日産化学社製「スノーテクス」あるい
は高濃度アルミナゾルとしては「アルミナゾル−
100」、「アルミナゾル−200」が好適に使用でき
る。これらの結合剤は、三二酸化ニツケル100重
量部に対し10〜100重量部加え混練する。好まし
くは20〜30重量部加え混練すれば、乾燥で除去す
る水分が少なくて済む。この混練、乾燥した三二
酸化ニツケルを主成分とする組成物を300〜500℃
で、好ましくは380℃〜420℃で加熱処理する。
500℃以上では三二酸化ニツケルの焼結が起こり、
次亜塩素酸塩の分解触媒としての活性が著しく失
われる。又、300℃以下ではシリカ、アルミナが
安定な耐アルカリ性の化合物を形成しないため結
合剤としての機能をしない。加熱時間は処理温度
により異なるが、10分〜3時間加熱処理する。こ
の加熱処理により結合剤に耐アルカリ性が付与さ
れる。
程度の微粒子であり、該粉末の成型化は極めて困
難である。本発明の成型化にあたり三二酸化ニツ
ケル粉末を水溶性の高濃度シリカゾル、あるいは
アルミナゾルを結合剤として用い混練し、100〜
110℃で乾燥し水分を除去する。高濃度シリカゾ
ルとしては日産化学社製「スノーテクス」あるい
は高濃度アルミナゾルとしては「アルミナゾル−
100」、「アルミナゾル−200」が好適に使用でき
る。これらの結合剤は、三二酸化ニツケル100重
量部に対し10〜100重量部加え混練する。好まし
くは20〜30重量部加え混練すれば、乾燥で除去す
る水分が少なくて済む。この混練、乾燥した三二
酸化ニツケルを主成分とする組成物を300〜500℃
で、好ましくは380℃〜420℃で加熱処理する。
500℃以上では三二酸化ニツケルの焼結が起こり、
次亜塩素酸塩の分解触媒としての活性が著しく失
われる。又、300℃以下ではシリカ、アルミナが
安定な耐アルカリ性の化合物を形成しないため結
合剤としての機能をしない。加熱時間は処理温度
により異なるが、10分〜3時間加熱処理する。こ
の加熱処理により結合剤に耐アルカリ性が付与さ
れる。
次にこの加熱処理した粉末又は顆粒を成型し、
再焼成処理をする。成型は通常の成型賦与剤であ
るステアリン酸ソーダ、ステアリン酸マグネシウ
ム、ステアリン酸アルミニウム、硼酸、タルク等
を0.1〜10%加えて行う。望ましい成型賦与剤は、
硼酸、タルクである。
再焼成処理をする。成型は通常の成型賦与剤であ
るステアリン酸ソーダ、ステアリン酸マグネシウ
ム、ステアリン酸アルミニウム、硼酸、タルク等
を0.1〜10%加えて行う。望ましい成型賦与剤は、
硼酸、タルクである。
また、結合剤として用いる高濃度シリカゾル、
高濃度アルミナゾルは次亜塩素酸塩を分解するの
に好ましい比表面積の大きい状態で焼成できる結
合剤として最も適している。この結合剤は、400
℃焼成による粉末及び成型化の後での再焼成によ
つても大きな比表面積を残しており、次亜塩素酸
塩の液の浸透性、接触性を良くしている。
高濃度アルミナゾルは次亜塩素酸塩を分解するの
に好ましい比表面積の大きい状態で焼成できる結
合剤として最も適している。この結合剤は、400
℃焼成による粉末及び成型化の後での再焼成によ
つても大きな比表面積を残しており、次亜塩素酸
塩の液の浸透性、接触性を良くしている。
成型物の焼成温度は最初の焼成温度と同じく
300〜500℃で、好ましくは380〜420℃である。
300〜500℃で、好ましくは380〜420℃である。
成型触媒の形状は種々考えられるが、円柱形又
はリング形が好ましい。その大きさは固定層反応
器に充填される固定層の内径に対し触媒の径が1/
4以下である。固定層の内径に対し触媒の径が1/4
以上だと液の浸透が悪くなり、触媒の利用効率が
劣る。
はリング形が好ましい。その大きさは固定層反応
器に充填される固定層の内径に対し触媒の径が1/
4以下である。固定層の内径に対し触媒の径が1/4
以上だと液の浸透が悪くなり、触媒の利用効率が
劣る。
尚、本願発明の触媒組成物は上述のように成型
物として固定層型反応器で使用するのが好ましい
が、顆粒状の形態でも、その触媒形態にあつた反
応器を使用すれば、次亜塩素酸塩の分解触媒とし
て使用できる。
物として固定層型反応器で使用するのが好ましい
が、顆粒状の形態でも、その触媒形態にあつた反
応器を使用すれば、次亜塩素酸塩の分解触媒とし
て使用できる。
(発明の効果)
本発明の成型触媒は水溶液中に高濃度に含有さ
れる次亜塩素酸塩を効率良く分解し、触媒の崩壊
がなく、また触媒の分離工程等を必要としないの
で、工業的に非常に優れた次亜塩素酸塩分解用成
型触媒である。更に、該成型触媒を製造する方法
は、その製造工程でNOxを発生しないで、前記
の成型触媒を製造することが出来る。
れる次亜塩素酸塩を効率良く分解し、触媒の崩壊
がなく、また触媒の分離工程等を必要としないの
で、工業的に非常に優れた次亜塩素酸塩分解用成
型触媒である。更に、該成型触媒を製造する方法
は、その製造工程でNOxを発生しないで、前記
の成型触媒を製造することが出来る。
以下、本発明の成型触媒を製造する方法及び、
その触媒を用いての次亜塩素酸塩水溶液の分解を
実施例によつて更に詳細に説明する。
その触媒を用いての次亜塩素酸塩水溶液の分解を
実施例によつて更に詳細に説明する。
実施例 1
〔触媒の製法〕
三二酸化ニツケル粉末(市販品、純度95%
min.)100部に対し高濃度シリカゾル(スノーテ
ツクス−O、SiO2として30%含有)を30部加え、
ミキサーで混合する。この混合物を100〜110℃で
約16時間乾燥し顆粒状物を得、このものを400℃
で1時間焼成した。このようにして得た顆粒980
gにタルク(滑石、含水珪酸マグネシウム)20g
を加え打錠機で径3/16インチ、長さ3/16インチの
円柱状ペレツトに成型する。
min.)100部に対し高濃度シリカゾル(スノーテ
ツクス−O、SiO2として30%含有)を30部加え、
ミキサーで混合する。この混合物を100〜110℃で
約16時間乾燥し顆粒状物を得、このものを400℃
で1時間焼成した。このようにして得た顆粒980
gにタルク(滑石、含水珪酸マグネシウム)20g
を加え打錠機で径3/16インチ、長さ3/16インチの
円柱状ペレツトに成型する。
内径25mmの重点塔に触媒100gを充填し、次亜
塩素酸ソーダ(有効塩素3.5%)水溶液を50℃で
7.5ml/分の流量で充填塔の上部より通した。流
出液の有効塩素0.175%であり、次亜塩素酸塩が
95%分解されていることを示す。また流出液中の
ニツケルは検出されず、触媒の損失は認められな
かつた。
塩素酸ソーダ(有効塩素3.5%)水溶液を50℃で
7.5ml/分の流量で充填塔の上部より通した。流
出液の有効塩素0.175%であり、次亜塩素酸塩が
95%分解されていることを示す。また流出液中の
ニツケルは検出されず、触媒の損失は認められな
かつた。
実施例 2
ペレツトを径5/8インチ、長さ5/16インチとし
た以外は実施例1と同様の方法で、成型触媒を製
造した。
た以外は実施例1と同様の方法で、成型触媒を製
造した。
この触媒を断面積0.049m2の充填塔に40Kgを充
填し、次亜塩素酸塩(有効塩素3.0〜3.5%)を含
む水溶液を70℃で200/時間で連続通液した。
4ケ月以上使用しても触媒は崩壊せず、また流出
液の有効塩素は0.2%以下を維持し、次亜塩素酸
塩は94%〜98%の分解率を得た。
填し、次亜塩素酸塩(有効塩素3.0〜3.5%)を含
む水溶液を70℃で200/時間で連続通液した。
4ケ月以上使用しても触媒は崩壊せず、また流出
液の有効塩素は0.2%以下を維持し、次亜塩素酸
塩は94%〜98%の分解率を得た。
比較例 1
市販のモレキユラーシーブ5A(4mm球状品)に
硝酸ニツケルを浸漬させ、乾燥し400℃、1時間
焼成して三二酸化ニツケルを30%担持している触
媒を得た。
硝酸ニツケルを浸漬させ、乾燥し400℃、1時間
焼成して三二酸化ニツケルを30%担持している触
媒を得た。
この触媒を内径25mmの充填塔に100g充填し、
次亜塩素酸塩水溶液(有効塩素2.6%、)を70℃で
4.3ml/分で通液した。流出液の有効塩素は0.65
%であり、有効塩素の分解率は75%となつた。ま
た、流出液は赤紫色に着色し、ニツケルの溶出が
50ppmとかなり大きく、ニツケルの流出が認めら
れた。
次亜塩素酸塩水溶液(有効塩素2.6%、)を70℃で
4.3ml/分で通液した。流出液の有効塩素は0.65
%であり、有効塩素の分解率は75%となつた。ま
た、流出液は赤紫色に着色し、ニツケルの溶出が
50ppmとかなり大きく、ニツケルの流出が認めら
れた。
比較例 2
市販のニツケル成型触媒(日産ガードラー触媒
社製 G−53D)100gを実施例1と同様に内径
25mmの充填塔に充填し、次亜塩素酸ソーダ(有効
塩素3.5%)を50℃で7.5ml/分で通液したところ
約10分で触媒が崩壊した。
社製 G−53D)100gを実施例1と同様に内径
25mmの充填塔に充填し、次亜塩素酸ソーダ(有効
塩素3.5%)を50℃で7.5ml/分で通液したところ
約10分で触媒が崩壊した。
また、通液開始直後の出口の有効塩素は1.4%
であり、実施例1と比較して劣つていた。
であり、実施例1と比較して劣つていた。
比較例 3
市販の酸化ニツケル顆粒状触媒に対しグラフア
イトを0.5重量%添加し、打錠機で径3/16インチ、
長さ3/16インチの円柱状に成型し、400℃で1時
間焼成した。このようにして得た成型触媒100g
を実施例1と同様に、100gを内径25mmの充填塔
に充填し、次亜塩素酸ソーダ(有効塩素2.6%)
を70℃で4.3ml/分で通液したところ約20分で触
媒が崩壊し、通液が出来なくなつた。また、通液
開始直後の出口の有効塩素は0.65%であり、実施
例1と比較して劣つていた。
イトを0.5重量%添加し、打錠機で径3/16インチ、
長さ3/16インチの円柱状に成型し、400℃で1時
間焼成した。このようにして得た成型触媒100g
を実施例1と同様に、100gを内径25mmの充填塔
に充填し、次亜塩素酸ソーダ(有効塩素2.6%)
を70℃で4.3ml/分で通液したところ約20分で触
媒が崩壊し、通液が出来なくなつた。また、通液
開始直後の出口の有効塩素は0.65%であり、実施
例1と比較して劣つていた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 水溶液中の次亜塩素酸塩を分解する成型触媒
であつて、該成型触媒が三二酸化ニツケルを60〜
90重量%含有し、SiO21〜30重量%またはAl2O3
を1〜15重量%と、成型賦与剤を0.1〜10重量%
含有することを特徴とする次亜塩素酸塩分解用成
型触媒。 2 三二酸化ニツケル100重量部あたり、シリカ
ゾルあるいはアルミナゾルを10〜100重量部添加
し、混合、乾燥し、300〜500℃で焼成し、この焼
成物に成型賦与剤を0.1〜10重量%添加し、加圧
成型し、300〜500℃で焼成して、三二酸化ニツケ
ルを60〜90重量%含有し、SiO21〜30重量%また
はAl2O3を1〜15重量%と、成型賦与剤を0.1〜10
重量%含有する次亜塩素酸塩分解用成型触媒の製
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27048484A JPS61149240A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | 次亜塩素酸塩分解用成型触媒及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27048484A JPS61149240A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | 次亜塩素酸塩分解用成型触媒及びその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61149240A JPS61149240A (ja) | 1986-07-07 |
JPH0456662B2 true JPH0456662B2 (ja) | 1992-09-09 |
Family
ID=17486934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27048484A Granted JPS61149240A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | 次亜塩素酸塩分解用成型触媒及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61149240A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8701397D0 (en) * | 1987-01-22 | 1987-02-25 | Ici Plc | Effluent treatment |
JP3941924B2 (ja) | 2002-02-18 | 2007-07-11 | 松下電器産業株式会社 | ナビゲーションスイッチ装置 |
JP2017177016A (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | Jfeエンジニアリング株式会社 | バラスト水への塩素剤供給装置、バラスト水処理装置、バラスト水への塩素剤供給方法及びバラスト水処理方法 |
CN110316810A (zh) * | 2019-07-31 | 2019-10-11 | 同济大学 | 一种基于镍掺杂的复合材料、其制备方法和循环降解水中酚类有机污染物的方法 |
-
1984
- 1984-12-21 JP JP27048484A patent/JPS61149240A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61149240A (ja) | 1986-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2573641B2 (ja) | 排出流中の酸化剤の分解方法 | |
US4732688A (en) | Effluent treatment | |
JP4556159B2 (ja) | ガス混合物中のCOSおよび/またはHCNを加水分解するための触媒としてのTiO2系組成物の使用 | |
TW200808440A (en) | Absorption composition and process for purifying streams of substances | |
JPH0456662B2 (ja) | ||
US4400304A (en) | Catalyst pellets with resin binder for decomposition of hypochlorite | |
JP2711463B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPH0366241B2 (ja) | ||
JPH0212620B2 (ja) | ||
USRE32392E (en) | Catalyst pellets with resin binder for decomposition of hypochlorite | |
JPS6259973B2 (ja) | ||
JP3695845B2 (ja) | 浄水用材 | |
JP5547455B2 (ja) | 次亜塩素酸塩分解用触媒およびその製造方法並びにその使用方法 | |
JP6006492B2 (ja) | 揮発性無機水素化物含有排ガス除害剤及び揮発性無機水素化物含有排ガス除害方法 | |
JPH053404B2 (ja) | ||
US5220110A (en) | Catalysts | |
JPH074506B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JP4072624B2 (ja) | 特異的アルカリ金属イオン吸着剤及び高純度リチウムまたは高純度セシウムの製造方法 | |
JPS61129026A (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JPH02139033A (ja) | 有毒ガス吸着剤、その製造方法及びそれを用いる排ガスの浄化方法 | |
JP4553187B2 (ja) | ナトリウムイオンの選択的除去方法 | |
JPH02144155A (ja) | オゾン分解用触媒の製造法 | |
JP4572309B2 (ja) | 特異的アルカリ金属イオン吸着剤及び高純度リチウムまたは高純度セシウムの製造方法 | |
JP2668397B2 (ja) | 排ガスの浄化方法 | |
JP3244728B2 (ja) | 気体分離濃縮用ゼオライトの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |