JPH0454619B2 - - Google Patents
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- JPH0454619B2 JPH0454619B2 JP6666485A JP6666485A JPH0454619B2 JP H0454619 B2 JPH0454619 B2 JP H0454619B2 JP 6666485 A JP6666485 A JP 6666485A JP 6666485 A JP6666485 A JP 6666485A JP H0454619 B2 JPH0454619 B2 JP H0454619B2
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は均質なシリカゲルを効率よく製造する
方法に関し、特に高濃度の硫酸と珪酸ソーダ溶液
との反応において、局部的なゲル化を防止し高濃
度のシリカゾルを効率よく製造することを特徴と
するシリカゲルの製造方法に関する。
方法に関し、特に高濃度の硫酸と珪酸ソーダ溶液
との反応において、局部的なゲル化を防止し高濃
度のシリカゾルを効率よく製造することを特徴と
するシリカゲルの製造方法に関する。
(従来技術及び発明の課題)
一般に乾燥剤などとして広く用いられるシリカ
ゲルの製造方法は、例えば2〜4Nの硫酸とSiO2
を10〜20%含有する珪酸ソーダ溶液とを低温下で
攪拌しながら反応させてゾルを生成させた後、常
温下で数日〜10日程度または80〜90℃に加温して
数10時間の熟成を行なつてゲル化させ、次いで得
られるゲル状物を粉砕・水洗・乾燥して製品とし
ていた。しかしながら上記の従来の方法では、ゾ
ルを生成させる過程において局部的なゲル化を防
止するために硫酸と珪酸ソーダ溶液との反応時に
0℃程度に冷却する手段が必要であること、ゲル
化工程に長時間を要すること、得られるゲル状物
が多く水分を含有しているために該ゲル状物の乾
燥工程に多大のエネルギーを要するなどの問題が
あつた。
ゲルの製造方法は、例えば2〜4Nの硫酸とSiO2
を10〜20%含有する珪酸ソーダ溶液とを低温下で
攪拌しながら反応させてゾルを生成させた後、常
温下で数日〜10日程度または80〜90℃に加温して
数10時間の熟成を行なつてゲル化させ、次いで得
られるゲル状物を粉砕・水洗・乾燥して製品とし
ていた。しかしながら上記の従来の方法では、ゾ
ルを生成させる過程において局部的なゲル化を防
止するために硫酸と珪酸ソーダ溶液との反応時に
0℃程度に冷却する手段が必要であること、ゲル
化工程に長時間を要すること、得られるゲル状物
が多く水分を含有しているために該ゲル状物の乾
燥工程に多大のエネルギーを要するなどの問題が
あつた。
上記のような問題を解決する目的で、特公昭49
−39756号広報には通常濃度である約2.5Nの珪酸
ソーダに8〜12Nという従来方法における硫酸濃
度に比して著しく高濃度の硫酸を使用して、該珪
酸ソーダ溶液と流下間において均斉に混和させる
方法および装置が提案されている。本発明も同様
の目的で、さらに高濃度の珪酸ソーダ溶液を用い
ても均質なシリカゲルを効率よく製造できる簡便
な方法を提供するものである。
−39756号広報には通常濃度である約2.5Nの珪酸
ソーダに8〜12Nという従来方法における硫酸濃
度に比して著しく高濃度の硫酸を使用して、該珪
酸ソーダ溶液と流下間において均斉に混和させる
方法および装置が提案されている。本発明も同様
の目的で、さらに高濃度の珪酸ソーダ溶液を用い
ても均質なシリカゲルを効率よく製造できる簡便
な方法を提供するものである。
(課題を解決するための手段)
本発明者等は前記の目的を達成するために、原
料である鉱酸と珪酸ソーダ溶液の濃度及びそれら
の接触(混合)反応速度と得られるシリカゾルの
性状の関係について種々検討した。その結果、反
応に供する鉱酸及び珪酸ソーダ溶液の両液をそれ
ぞれ特定な流速以上で接触させることにより、局
部的なゲル化を生ずることなく高濃度の均質なシ
リカゾルが速かに生成することを見い出し、本発
明を提案するに至つた。即ち本発明は、鉱酸と珪
酸ソーダ溶液とを互いに流速10m/秒以上で接触
させてシリカゾルを生成後、ゲル化することを特
徴とするシリカゲルの製造方法である。特に本発
明においては、10〜15Nの鉱酸とSiO2を20〜30重
量%含有する珪酸ソーダよりシリカゾルを生成し
た後、ゲル化することに好適な製造方法である。
料である鉱酸と珪酸ソーダ溶液の濃度及びそれら
の接触(混合)反応速度と得られるシリカゾルの
性状の関係について種々検討した。その結果、反
応に供する鉱酸及び珪酸ソーダ溶液の両液をそれ
ぞれ特定な流速以上で接触させることにより、局
部的なゲル化を生ずることなく高濃度の均質なシ
リカゾルが速かに生成することを見い出し、本発
明を提案するに至つた。即ち本発明は、鉱酸と珪
酸ソーダ溶液とを互いに流速10m/秒以上で接触
させてシリカゾルを生成後、ゲル化することを特
徴とするシリカゲルの製造方法である。特に本発
明においては、10〜15Nの鉱酸とSiO2を20〜30重
量%含有する珪酸ソーダよりシリカゾルを生成し
た後、ゲル化することに好適な製造方法である。
本発明に用いる鉱酸としては、例えば硫酸、塩
酸、硝酸等であるが、特に硫酸が好適である。ま
た鉱酸の濃度は一般に10〜15Nで、特に12〜13N
が本発明において好適で、該濃度が10Nよりも低
濃度の場合はゲル化に長時間を要するし、得られ
るゲル状物の乾燥に要するエネルギーも多くな
る。一方、鉱酸が15Nよりも高濃度になるに従
い、珪酸ソーダ溶液の量に比較して該鉱酸の量が
著しく少くなるため、珪酸ソーダ溶液と完全混合
を行わせることが難しく、反応が不均質となる。
酸、硝酸等であるが、特に硫酸が好適である。ま
た鉱酸の濃度は一般に10〜15Nで、特に12〜13N
が本発明において好適で、該濃度が10Nよりも低
濃度の場合はゲル化に長時間を要するし、得られ
るゲル状物の乾燥に要するエネルギーも多くな
る。一方、鉱酸が15Nよりも高濃度になるに従
い、珪酸ソーダ溶液の量に比較して該鉱酸の量が
著しく少くなるため、珪酸ソーダ溶液と完全混合
を行わせることが難しく、反応が不均質となる。
本発明に用いる珪酸ソーダ溶液は、一般式
SiO2/Na2Oで示される水溶性の珪酸ソーダで、
該溶液のSiO2とNa2Oのモル比(SiO2/Na2O)
が2.5〜3.5で、SiO2の含有量 (SiO2(重量)/SiO2(重量)+Na2
O(重量)+H2O(重量)×100) が20〜30重量%、特に25〜29重量%のものが好適
である。SiO2の含有量が20重量%より低くなる
程、ゲル化に要する時間及びゲル状物の乾燥に要
するエネルギーが多くなる。一方、SiO2の含有
量が30重量%より高くなると粘度が急激に上昇す
ることにより、鉱酸との混合が困難となるためゾ
ルの生成が不均質となる。
SiO2/Na2Oで示される水溶性の珪酸ソーダで、
該溶液のSiO2とNa2Oのモル比(SiO2/Na2O)
が2.5〜3.5で、SiO2の含有量 (SiO2(重量)/SiO2(重量)+Na2
O(重量)+H2O(重量)×100) が20〜30重量%、特に25〜29重量%のものが好適
である。SiO2の含有量が20重量%より低くなる
程、ゲル化に要する時間及びゲル状物の乾燥に要
するエネルギーが多くなる。一方、SiO2の含有
量が30重量%より高くなると粘度が急激に上昇す
ることにより、鉱酸との混合が困難となるためゾ
ルの生成が不均質となる。
本発明の最大の特徴は、上記した原料溶液を互
いに10m/秒以上、好ましくは15m/秒以上の流
速で接触させることにより両液を反応させること
で、このようにすることにより、珪酸ソーダおよ
び鉱酸の高濃度原料より局部的にゲル化を生じる
ことなく均質なゾルを効率よく製造することがで
きる。そのため、該ゾルをゲル化したものも当
然、高濃度かつ均質なシリカのゲル状物を得るこ
とが出来る。
いに10m/秒以上、好ましくは15m/秒以上の流
速で接触させることにより両液を反応させること
で、このようにすることにより、珪酸ソーダおよ
び鉱酸の高濃度原料より局部的にゲル化を生じる
ことなく均質なゾルを効率よく製造することがで
きる。そのため、該ゾルをゲル化したものも当
然、高濃度かつ均質なシリカのゲル状物を得るこ
とが出来る。
原料溶液の流速が10m/秒より遅いと、特に高
濃度な原料を用いる場合に、ゾルの生成時に局部
的なゲル化が生じるため均質なゾルが得られな
い。一方、原料溶液の流速の上限については特に
制限されないが、一般には15〜25m/秒で、それ
以上高くすることは物理的に困難であるし、また
効果も同様でそれ以上に達しない。また本発明に
おいては、鉱酸と珪酸ソーダ溶液のそれぞれを上
記特定した流速以上で直接接触させることが必須
であり、例えば一方の溶液だけ10m/秒の流速と
し、他方の溶液の流速を10m/秒より遅くした場
合、あるいは両液を混合した後に攪拌機等により
10m/秒以上の流速を与えて反応させた場合等で
は、本発明の効果は達成されない。
濃度な原料を用いる場合に、ゾルの生成時に局部
的なゲル化が生じるため均質なゾルが得られな
い。一方、原料溶液の流速の上限については特に
制限されないが、一般には15〜25m/秒で、それ
以上高くすることは物理的に困難であるし、また
効果も同様でそれ以上に達しない。また本発明に
おいては、鉱酸と珪酸ソーダ溶液のそれぞれを上
記特定した流速以上で直接接触させることが必須
であり、例えば一方の溶液だけ10m/秒の流速と
し、他方の溶液の流速を10m/秒より遅くした場
合、あるいは両液を混合した後に攪拌機等により
10m/秒以上の流速を与えて反応させた場合等で
は、本発明の効果は達成されない。
このような反応を行わせるための装置は特に制
限されないが、特に両液の接触を容易に且つ特定
な流速を得るために、簡便な装置として第1図に
示す様なY字型の反応装置が好ましく用いられ
る。即ち、第1図はY字型反応装置の概要図であ
る。この装置は全体がY字型になるように鉱酸ま
たは珪酸ソーダの原料供給管1,1′とゾル排出
管2が配置構成される。原料供給管1,1′及び
ゾル排出管2の材質は鉱酸又は珪酸ソーダ等の耐
薬品性に優れたものであれば例えばガラス、金
属、プラスチツク、ゴム等の公知の材料が特に制
限なく用いられる。また管の形状及び構造につい
ては、処理量や所望する流速により適宜選定され
るが、特に反応部(Y字型の交点部)3において
原料液を所定流速で接触反応させるためには、原
料供給管1,1′の一部に絞り部4,4′を設ける
ことが好ましい。このため原料供給管1,1′の
形状は、一般に原料液を1m/秒以下の流速で供
給し、絞り部4,4′で10m/秒以上となる如く
に適宜選定すればよく、また絞り部4,4′から
反応部3までの距離は原料供給管の管径の1〜3
倍を均質に行なわせることが出来るため好まし
い。そのほかY字型反応装置の製造方法等につい
ては特に制限されなく、また一般に原料供給間
1,1′には第2図に示す如く供給するための原
料貯槽5,5′及びポンプ6,6′等の原料移送手
段が、一方ゾル排出管2の後には反応後のゾルを
貯槽し、ゲル化するためのゲル化槽7が接続され
る。
限されないが、特に両液の接触を容易に且つ特定
な流速を得るために、簡便な装置として第1図に
示す様なY字型の反応装置が好ましく用いられ
る。即ち、第1図はY字型反応装置の概要図であ
る。この装置は全体がY字型になるように鉱酸ま
たは珪酸ソーダの原料供給管1,1′とゾル排出
管2が配置構成される。原料供給管1,1′及び
ゾル排出管2の材質は鉱酸又は珪酸ソーダ等の耐
薬品性に優れたものであれば例えばガラス、金
属、プラスチツク、ゴム等の公知の材料が特に制
限なく用いられる。また管の形状及び構造につい
ては、処理量や所望する流速により適宜選定され
るが、特に反応部(Y字型の交点部)3において
原料液を所定流速で接触反応させるためには、原
料供給管1,1′の一部に絞り部4,4′を設ける
ことが好ましい。このため原料供給管1,1′の
形状は、一般に原料液を1m/秒以下の流速で供
給し、絞り部4,4′で10m/秒以上となる如く
に適宜選定すればよく、また絞り部4,4′から
反応部3までの距離は原料供給管の管径の1〜3
倍を均質に行なわせることが出来るため好まし
い。そのほかY字型反応装置の製造方法等につい
ては特に制限されなく、また一般に原料供給間
1,1′には第2図に示す如く供給するための原
料貯槽5,5′及びポンプ6,6′等の原料移送手
段が、一方ゾル排出管2の後には反応後のゾルを
貯槽し、ゲル化するためのゲル化槽7が接続され
る。
上記の如き方法によつて得たゾルは、数分間放
置することによりSiO2が18〜22%のゲルとなる。
このようにしてゲル化したものは以下、常法によ
り小塊に割つて水洗後、一般に110℃程度で数時
間乾燥されて製品となる。
置することによりSiO2が18〜22%のゲルとなる。
このようにしてゲル化したものは以下、常法によ
り小塊に割つて水洗後、一般に110℃程度で数時
間乾燥されて製品となる。
(効果)
本発明方法によれば、原料を互いに特定な流速
で接触させるため、特に高濃度の鉱酸および珪酸
ソーダである原料においても反応時に0℃まで冷
却することなく常温で均質なゾルを生成すること
が出来る。また、このようにして得たゾルは
SiO2濃度が高いため、該ゾルをゲル化するに要
する時間も短縮され且つゲル状物の乾燥に要する
エネルギーも低減することが出来る。したがつ
て、本発明方法は工業的に極めて有利なシリカゲ
ルの製造方法である。
で接触させるため、特に高濃度の鉱酸および珪酸
ソーダである原料においても反応時に0℃まで冷
却することなく常温で均質なゾルを生成すること
が出来る。また、このようにして得たゾルは
SiO2濃度が高いため、該ゾルをゲル化するに要
する時間も短縮され且つゲル状物の乾燥に要する
エネルギーも低減することが出来る。したがつ
て、本発明方法は工業的に極めて有利なシリカゲ
ルの製造方法である。
(実施例)
以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明す
る。
る。
実施例 1
第1図に示す如き形状、即ち管径(内径)9mm
φ×長さ50mmで絞り部の管径1.3mmφ×長さ10mm
の珪酸ソーダ供給管、管径9mmφ×長さ50mmで絞
り部の管径0.7mmφ×長さ10mmの硫酸供給管およ
び管径9mmφ×長さ100mmのゾル排出管よりなる
Y字型反応装置を第2図の如く組み込んだ装置を
用いて、以下の実験を実施した。
φ×長さ50mmで絞り部の管径1.3mmφ×長さ10mm
の珪酸ソーダ供給管、管径9mmφ×長さ50mmで絞
り部の管径0.7mmφ×長さ10mmの硫酸供給管およ
び管径9mmφ×長さ100mmのゾル排出管よりなる
Y字型反応装置を第2図の如く組み込んだ装置を
用いて、以下の実験を実施した。
硫酸貯槽および珪酸ソーダ溶液貯槽よりポンプ
を介してそれぞれ12Nの硫酸を0.38/min、
SiO2=28重量%の珪酸ソーダ溶液を1.6/min
の流量でY字型反応装置の原料供給管へ供給し
た。このような状態での反応部に供される硫酸お
よび珪酸ソーダ溶液の流速はそれぞれ16m/sec、
20m/secであり、反応温度は20℃であり、この
時に局部的なゲル化は観察されず均一なゾル30
を得た。
を介してそれぞれ12Nの硫酸を0.38/min、
SiO2=28重量%の珪酸ソーダ溶液を1.6/min
の流量でY字型反応装置の原料供給管へ供給し
た。このような状態での反応部に供される硫酸お
よび珪酸ソーダ溶液の流速はそれぞれ16m/sec、
20m/secであり、反応温度は20℃であり、この
時に局部的なゲル化は観察されず均一なゾル30
を得た。
このゾルをゾル化槽で5分間放置することによ
り、SiO2を20重量%含有するシリカゲルを得た。
さらに該ゲルを水洗、乾燥することによりシリカ
ゲル製品とした。
り、SiO2を20重量%含有するシリカゲルを得た。
さらに該ゲルを水洗、乾燥することによりシリカ
ゲル製品とした。
第1図は本発明方法に用いる反応装置の代表的
1例を示す概要図であり、第2図は本発明方法の
フロー図である。 図中1,1′は原料供給管、2はゾル排出管、
3は反応部、4,4′は絞り部、5は原料貯槽、
6,6′はポンプ、7はゲル化槽である。
1例を示す概要図であり、第2図は本発明方法の
フロー図である。 図中1,1′は原料供給管、2はゾル排出管、
3は反応部、4,4′は絞り部、5は原料貯槽、
6,6′はポンプ、7はゲル化槽である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 鉱酸と珪酸ソーダ溶液とを互いに流速10m/
秒以上で接触させてシリカゾルを生成後、ゲル化
することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 2 10〜15Nの鉱酸とSiO2を20〜30重量%含有す
る珪酸ソーダ溶液とを互いに流速度10m/秒以上
で接触させてシリカゾルを生成後、ゲル化するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のシリ
カゲルの製造方法。 3 鉱酸が硫酸である特許請求の範囲第1項記載
のシリカゲルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6666485A JPS61227915A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | シリカゲルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6666485A JPS61227915A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | シリカゲルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61227915A JPS61227915A (ja) | 1986-10-11 |
JPH0454619B2 true JPH0454619B2 (ja) | 1992-08-31 |
Family
ID=13322391
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6666485A Granted JPS61227915A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | シリカゲルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61227915A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012057086A1 (ja) | 2010-10-25 | 2012-05-03 | 株式会社トクヤマ | エアロゲル及びその製造方法 |
WO2012147812A1 (ja) | 2011-04-28 | 2012-11-01 | 株式会社トクヤマ | 金属酸化物粉末及びその製造方法 |
JP2014240036A (ja) * | 2013-06-11 | 2014-12-25 | 株式会社トクヤマ | 混合器、および、それを用いる金属酸化物ゾルの製造方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4014896B2 (ja) * | 2001-05-25 | 2007-11-28 | 株式会社トクヤマ | 水処理用凝集剤の製造方法 |
KR100740346B1 (ko) * | 2005-12-01 | 2007-07-19 | 이엔비나노텍(주) | 나노기공 실리카의 제조장치 및 그 제조방법 |
FR2910459B1 (fr) * | 2006-12-22 | 2010-09-17 | Rhodia Recherches & Tech | Nouveau procede de preparation de silices precipitees par mise en oeuvre d'un melangeur rapide |
JP6102404B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2017-03-29 | ライト工業株式会社 | シリカゾルグラウトの製造方法及び製造設備 |
JP6204695B2 (ja) * | 2013-05-15 | 2017-09-27 | 株式会社トクヤマ | 金属酸化物ゾルの製造方法 |
-
1985
- 1985-04-01 JP JP6666485A patent/JPS61227915A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012057086A1 (ja) | 2010-10-25 | 2012-05-03 | 株式会社トクヤマ | エアロゲル及びその製造方法 |
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JPS61227915A (ja) | 1986-10-11 |
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