JPH0451218B2 - - Google Patents
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- JPH0451218B2 JPH0451218B2 JP59252290A JP25229084A JPH0451218B2 JP H0451218 B2 JPH0451218 B2 JP H0451218B2 JP 59252290 A JP59252290 A JP 59252290A JP 25229084 A JP25229084 A JP 25229084A JP H0451218 B2 JPH0451218 B2 JP H0451218B2
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Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は気体分離用複合膜および製造法に関す
るものである。 〔従来の技術〕 近年、混合気体から特定の気体を分離、濃縮す
る手段として高分子薄膜を用いる方法が注目され
つつある。 従来、気体分離用複合膜としてアルキル基置換
アセチレン重合体、アリールアセチレン重合体、
１−モノアルキルジメチルシリルプロピン重合体
などの薄膜と多孔質ポリプロピレンなどの支持体
を複合化させたものが知られている（たとえば特
開昭52−223405〜９号公報、特開昭59−19506号
公報および特願昭58−29786号明細書）。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明者らは、良好な気体（酸素）透過性およ
び選択透過性を有し、かつこれらの性能をより安
定に持続し得る気体分離用複合膜を得るべく鋭意
検討した結果、本発明に到達した。 〔問題を解決するための手段〕 本発明は多孔性支持体層(A)とその上に厚さ100
Å〜2000Åのシロキサン化合物(B)と更にその上に
厚さ50Å〜1000Åの気体分離性を有する下記一般
式(1)で示される繰り返し単位を有する置換アセチ
レン重合体(C) （但し、式中ＲはC1〜12のアルキル基、またはSi
含有のアルキル基である。） を有することを特徴とする気体分離用複合膜（第
一発明）およびシロキサン化合物(B)の有機溶剤溶
液および気体分離性を有する重合体(C)の有機溶剤
溶液をそれぞれ水面上に展開させて極薄膜を形成
させ、その極薄膜をそれぞれ多孔性支持体層(A)上
に積層することにより多孔性支持体層(A)とその上
に厚さ100Å〜2000Åのシロキサン化合物(B)と更
にその上に厚さ50Å〜1000Åの気体分離性を有す
る下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する
置換アセチレン重合体(C) （但し、式中ＲはC1〜12のアルキル基、またはSi
含有のアルキル基である。） を有する複合膜を製造することを特徴とする気体
分離用複合膜の製造方法（第二発明）である。 一般式(1)においてＲのC1--12のアルキル基とし
ては直鎖状アルキル基（メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ドデシル基など）；分
岐状のアルキル基（イソブチル基、ターシヤリー
ブチル基など）；Si含有のアルキル基（アルキル
基はC1-4）としてはトリメチルシリルメチル基、
トリメチルシリルエチル基などがあげられる。 一般式(1)で示される置換アセチレン重合体を構
成するモノマーとしては、１−トリメチルシリル
プロピン、１−モノ−ｎ−プロピルジメチルシリ
ルプロピン、１−モノ−ｎ−ヘキシルジメチルシ
リルプロピン、１−（トリメチルシリル）メチル
ジエチル−１−プロピン、１−（トリメチルシリ
ル）エチルジメチルシリル−１−プロピンおよび
これらの２種以上の混合物があげられる。 これらのうち好ましいのは、１−トリメチルシ
リルプロピンである。 １−トリメチルシリル−１−プロピンは市販の
モノマー（米国のペトラーク社製品、チツソ社
SP開発部製品T3728）を使用することができる。 置換アセチレン重合体は白色〜淡黄色の繊維状
または粉末状の固体である。その分子量は重量平
均分子量（光散乱法）で通常１万以上、好ましく
は10万以上である。 これら重合体については特願昭58−29786号明
細書および特願昭58−87207号明細書に記載され
ている。 本発明におけるシロキサン化合物層となるシロ
キサン化合物は主鎖がポリシロキサンからなるも
のとして一般式 （式中ＲはC1-18のアルキル基、フエニル基また
はフロロアルキル基などの非反応性基、好ましく
はメチル基；Ｘはハイドロジエン基、ビニル基、
ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノア
ルキル基、カルボキシアルキル基、Cl基、クロロ
アルキル基、グリシドキシアルキル基、メタクリ
ロキシアルキル基、メルカプトアルキル基などの
反応性基；ＹおよびＺはＲまたは反応性基Ｘであ
り、ｍは１以上、ｎは０または１以上である） および一般式 （式中Ｙ、Ｚ、Ｒ、Ｘ、ｍ、ｎは一般式(3)のＹ、
Ｚ、Ｒ、Ｘ、ｍ、ｎと同様である。）で示される
ポリオルガノシロキサン、およびこれらの二種以
上の混合物、または二種以上からなる架橋反応物
があげられる。 一般式(3)、(4)において、C1-18のアルキル基と
してはメチル、エチル、ヘキシル、オクチル、デ
シル、オクタデシル基など、フロロアルキル基と
しては−CH2CH2CF3、−CH2CH2C6F13など、ヒ
ドロキシアルキル基としては（―OCH2CH2―）o
OH、（Ｐは１以上）、−CH2CH2CH2OHなど、ア
ミノアルキル基としては−CH2CH2CH2NH2な
ど、カルボキシアルキル基としては−
CH2CH2CH2COOHなど、クロロアルキル基とし
ては−CH2Clなど、グリシドキシアルキル基とし
ては
るものである。 〔従来の技術〕 近年、混合気体から特定の気体を分離、濃縮す
る手段として高分子薄膜を用いる方法が注目され
つつある。 従来、気体分離用複合膜としてアルキル基置換
アセチレン重合体、アリールアセチレン重合体、
１−モノアルキルジメチルシリルプロピン重合体
などの薄膜と多孔質ポリプロピレンなどの支持体
を複合化させたものが知られている（たとえば特
開昭52−223405〜９号公報、特開昭59−19506号
公報および特願昭58−29786号明細書）。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明者らは、良好な気体（酸素）透過性およ
び選択透過性を有し、かつこれらの性能をより安
定に持続し得る気体分離用複合膜を得るべく鋭意
検討した結果、本発明に到達した。 〔問題を解決するための手段〕 本発明は多孔性支持体層(A)とその上に厚さ100
Å〜2000Åのシロキサン化合物(B)と更にその上に
厚さ50Å〜1000Åの気体分離性を有する下記一般
式(1)で示される繰り返し単位を有する置換アセチ
レン重合体(C) （但し、式中ＲはC1〜12のアルキル基、またはSi
含有のアルキル基である。） を有することを特徴とする気体分離用複合膜（第
一発明）およびシロキサン化合物(B)の有機溶剤溶
液および気体分離性を有する重合体(C)の有機溶剤
溶液をそれぞれ水面上に展開させて極薄膜を形成
させ、その極薄膜をそれぞれ多孔性支持体層(A)上
に積層することにより多孔性支持体層(A)とその上
に厚さ100Å〜2000Åのシロキサン化合物(B)と更
にその上に厚さ50Å〜1000Åの気体分離性を有す
る下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する
置換アセチレン重合体(C) （但し、式中ＲはC1〜12のアルキル基、またはSi
含有のアルキル基である。） を有する複合膜を製造することを特徴とする気体
分離用複合膜の製造方法（第二発明）である。 一般式(1)においてＲのC1--12のアルキル基とし
ては直鎖状アルキル基（メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ドデシル基など）；分
岐状のアルキル基（イソブチル基、ターシヤリー
ブチル基など）；Si含有のアルキル基（アルキル
基はC1-4）としてはトリメチルシリルメチル基、
トリメチルシリルエチル基などがあげられる。 一般式(1)で示される置換アセチレン重合体を構
成するモノマーとしては、１−トリメチルシリル
プロピン、１−モノ−ｎ−プロピルジメチルシリ
ルプロピン、１−モノ−ｎ−ヘキシルジメチルシ
リルプロピン、１−（トリメチルシリル）メチル
ジエチル−１−プロピン、１−（トリメチルシリ
ル）エチルジメチルシリル−１−プロピンおよび
これらの２種以上の混合物があげられる。 これらのうち好ましいのは、１−トリメチルシ
リルプロピンである。 １−トリメチルシリル−１−プロピンは市販の
モノマー（米国のペトラーク社製品、チツソ社
SP開発部製品T3728）を使用することができる。 置換アセチレン重合体は白色〜淡黄色の繊維状
または粉末状の固体である。その分子量は重量平
均分子量（光散乱法）で通常１万以上、好ましく
は10万以上である。 これら重合体については特願昭58−29786号明
細書および特願昭58−87207号明細書に記載され
ている。 本発明におけるシロキサン化合物層となるシロ
キサン化合物は主鎖がポリシロキサンからなるも
のとして一般式 （式中ＲはC1-18のアルキル基、フエニル基また
はフロロアルキル基などの非反応性基、好ましく
はメチル基；Ｘはハイドロジエン基、ビニル基、
ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アミノア
ルキル基、カルボキシアルキル基、Cl基、クロロ
アルキル基、グリシドキシアルキル基、メタクリ
ロキシアルキル基、メルカプトアルキル基などの
反応性基；ＹおよびＺはＲまたは反応性基Ｘであ
り、ｍは１以上、ｎは０または１以上である） および一般式 （式中Ｙ、Ｚ、Ｒ、Ｘ、ｍ、ｎは一般式(3)のＹ、
Ｚ、Ｒ、Ｘ、ｍ、ｎと同様である。）で示される
ポリオルガノシロキサン、およびこれらの二種以
上の混合物、または二種以上からなる架橋反応物
があげられる。 一般式(3)、(4)において、C1-18のアルキル基と
してはメチル、エチル、ヘキシル、オクチル、デ
シル、オクタデシル基など、フロロアルキル基と
しては−CH2CH2CF3、−CH2CH2C6F13など、ヒ
ドロキシアルキル基としては（―OCH2CH2―）o
OH、（Ｐは１以上）、−CH2CH2CH2OHなど、ア
ミノアルキル基としては−CH2CH2CH2NH2な
ど、カルボキシアルキル基としては−
CH2CH2CH2COOHなど、クロロアルキル基とし
ては−CH2Clなど、グリシドキシアルキル基とし
ては
【式】など、メ
タクリロキシアルキル基としては
以下実施例により本発明をさらに説明するが、
本発明はこれにより限定されるものではない。 製造例 １ トルエン100ml中に２−トリメチルシリル−１
−プロピン（チツ素(株)SP開発部販売T3728）を
0.2モル、触媒としてTaCl5を１ミリモル加えN2
下80℃で24時間重合させた。得られた粘調な重合
体ゲルをトルエンで希釈溶解させ、多量のメタノ
ール中に投入精製した。別乾燥後得られたポリ
（１−トリメチルシリル−１−プロピン）
（PMSP）は白色繊維状であり、光散乱法で求め
た重量平均分子量は140万であつた。 製造例 ２ ポリスルホン樹脂、コーデールT1700（日産化
学製）をＮ−メチルピロリドンに10重量％濃度に
なるように溶解し、不織布（日本バイリーン(株)製
MF−90）上にアプリケーターを用いて250μの厚
さで塗布し、たゞちにメタノール中に浸漬し凝固
させた。その後十分洗浄したのち、50℃にて循環
乾燥し非対称構造を持つた多孔質支持体を得た。
このポリスルホン支持体の気体透過係数は30m3／
m2・hr・0.1であつた。 実施例 １ ジメチル−メチルビニルスロキサンコポリマー
（トーレシリコーン(株)製シリコンゴムSH−410）
１ｇをヘキサン50ｇに溶解した後、該溶液0.33ml
を水面に滴下延展させた。得られた水面膜を製造
例３で得られたポリスルホン多孔質支持体上に積
層した。形成された薄膜の膜厚を水面膜の面積と
滴下したSH−410の重量から計算すると500Åで
あつた。次に製造例１で得られたPMSP1ｇをヘ
キサン100ｇに溶解し、該溶液0.2mlを水面上に滴
下して水面膜を得た。この膜厚を上記と同様に計
算で求めたところ100Åであつた。このPMSP水
面膜を先のSH−410積層膜上に積層し複合膜を得
た。得られた複合膜の気体透過性能を酸素と窒素
を用いて測定した。結果を表−１に示す。 実施例 ２ 実施例１のSH−410溶液0.2mlを水面に滴下延
展させた。得られた水面膜の膜厚は300Åであつ
た。製造例１で作成したポリスルホン多孔質支持
体上に捕集した後、実施例１と同様にPMSP水面
膜を積層し複合膜を得た。気体透過性能の測定結
果を表−１に示す。 実施例 ３ 支持体としてポリスルホン支持体のかわりにニ
トロセルロースメンブランフイルター（東洋紙
製、TM−５）を用いる以外は実施例１と同様に
して複合膜を得た。気体透過性能を表−１に示
す。 比較例 １ 実施例１と同様にして100Å厚のPMSP水面膜
を得た。これを製造例１で得たポリスルホン多孔
質支持体上に直接積層した。得られた複合膜の気
体透過性能を表−１に示す。 比較例 ２ 実施例１と同様にして500Å厚のSH−410水面
膜をポリスルホン多孔質支持体上に積層した複合
膜を得た。得られた複合膜の気体透過性能を測定
したところ、全く気体分離性を示さなかつた。測
定結果を表−１に示す。 実施例 ４ 実施例１と同様にして得た複合膜を用いてメタ
ンとCO2の気体透過性能を測定したメタンガス、
二酸化炭素それぞれの透過速度はQCH4＝26m3／
m2・hr・atm、QCO2＝105m3／m2・hr・atmであ
り、１ケ月連続測定後もほとんど値は変化しなか
つた。 比較例 ３ 実施例１と同様にして500Å厚のSH−410水面
膜をポリスルホン多孔質支持体上に積層した複合
膜を得た。次にこの複合膜の上にアクリル酸エチ
ルの重合体薄膜をプラズマ重合法により形成させ
た。用いたプラズマ重合装置は直径10cmの下部電
極を有するガラス製ベルジヤータイプで重合は複
合膜を下部電極上に置いてジヤー内部を真空に引
き、次にアクリル酸エチルを導入し、ジヤー内部
の気圧を約0.5トールになるように保ち、この状
態で高周波電圧（13.56MHz、出力20W）をかけ
ることによつて行なつた。複合膜上に形成された
アクリル酸エチル重合体の膜厚評価は、下部電極
上に併置したスライドガラスにデポジツトした薄
膜を干渉縞膜厚計で測定することによつて行なつ
た。膜厚を厚くするに従つて複合膜の分離性は上
がり、膜厚約1000Åでほぼ一定になつた。この測
定値を表−１に示す。 比較例 ４ ビニルピバレートとクロロトリフロロエチルン
（＝三弗化塩化エチレン）の共重合体（モル比：
50／50、固有粘度：1.5）を特開昭58−92448号公
報の実施例１、２に示される方法に従い作成し
た。この共重合体１ｇを50ｇのテトラフルオロエ
タンに溶解し、水上延展法により膜厚200Åの水
面膜を得た。次に実施例１と同様にして作成した
SH−410積層膜上にこの水面膜を積層し複合膜を
得た。気体透過性能の測定結果を表−１に示す。
本発明はこれにより限定されるものではない。 製造例 １ トルエン100ml中に２−トリメチルシリル−１
−プロピン（チツ素(株)SP開発部販売T3728）を
0.2モル、触媒としてTaCl5を１ミリモル加えN2
下80℃で24時間重合させた。得られた粘調な重合
体ゲルをトルエンで希釈溶解させ、多量のメタノ
ール中に投入精製した。別乾燥後得られたポリ
（１−トリメチルシリル−１−プロピン）
（PMSP）は白色繊維状であり、光散乱法で求め
た重量平均分子量は140万であつた。 製造例 ２ ポリスルホン樹脂、コーデールT1700（日産化
学製）をＮ−メチルピロリドンに10重量％濃度に
なるように溶解し、不織布（日本バイリーン(株)製
MF−90）上にアプリケーターを用いて250μの厚
さで塗布し、たゞちにメタノール中に浸漬し凝固
させた。その後十分洗浄したのち、50℃にて循環
乾燥し非対称構造を持つた多孔質支持体を得た。
このポリスルホン支持体の気体透過係数は30m3／
m2・hr・0.1であつた。 実施例 １ ジメチル−メチルビニルスロキサンコポリマー
（トーレシリコーン(株)製シリコンゴムSH−410）
１ｇをヘキサン50ｇに溶解した後、該溶液0.33ml
を水面に滴下延展させた。得られた水面膜を製造
例３で得られたポリスルホン多孔質支持体上に積
層した。形成された薄膜の膜厚を水面膜の面積と
滴下したSH−410の重量から計算すると500Åで
あつた。次に製造例１で得られたPMSP1ｇをヘ
キサン100ｇに溶解し、該溶液0.2mlを水面上に滴
下して水面膜を得た。この膜厚を上記と同様に計
算で求めたところ100Åであつた。このPMSP水
面膜を先のSH−410積層膜上に積層し複合膜を得
た。得られた複合膜の気体透過性能を酸素と窒素
を用いて測定した。結果を表−１に示す。 実施例 ２ 実施例１のSH−410溶液0.2mlを水面に滴下延
展させた。得られた水面膜の膜厚は300Åであつ
た。製造例１で作成したポリスルホン多孔質支持
体上に捕集した後、実施例１と同様にPMSP水面
膜を積層し複合膜を得た。気体透過性能の測定結
果を表−１に示す。 実施例 ３ 支持体としてポリスルホン支持体のかわりにニ
トロセルロースメンブランフイルター（東洋紙
製、TM−５）を用いる以外は実施例１と同様に
して複合膜を得た。気体透過性能を表−１に示
す。 比較例 １ 実施例１と同様にして100Å厚のPMSP水面膜
を得た。これを製造例１で得たポリスルホン多孔
質支持体上に直接積層した。得られた複合膜の気
体透過性能を表−１に示す。 比較例 ２ 実施例１と同様にして500Å厚のSH−410水面
膜をポリスルホン多孔質支持体上に積層した複合
膜を得た。得られた複合膜の気体透過性能を測定
したところ、全く気体分離性を示さなかつた。測
定結果を表−１に示す。 実施例 ４ 実施例１と同様にして得た複合膜を用いてメタ
ンとCO2の気体透過性能を測定したメタンガス、
二酸化炭素それぞれの透過速度はQCH4＝26m3／
m2・hr・atm、QCO2＝105m3／m2・hr・atmであ
り、１ケ月連続測定後もほとんど値は変化しなか
つた。 比較例 ３ 実施例１と同様にして500Å厚のSH−410水面
膜をポリスルホン多孔質支持体上に積層した複合
膜を得た。次にこの複合膜の上にアクリル酸エチ
ルの重合体薄膜をプラズマ重合法により形成させ
た。用いたプラズマ重合装置は直径10cmの下部電
極を有するガラス製ベルジヤータイプで重合は複
合膜を下部電極上に置いてジヤー内部を真空に引
き、次にアクリル酸エチルを導入し、ジヤー内部
の気圧を約0.5トールになるように保ち、この状
態で高周波電圧（13.56MHz、出力20W）をかけ
ることによつて行なつた。複合膜上に形成された
アクリル酸エチル重合体の膜厚評価は、下部電極
上に併置したスライドガラスにデポジツトした薄
膜を干渉縞膜厚計で測定することによつて行なつ
た。膜厚を厚くするに従つて複合膜の分離性は上
がり、膜厚約1000Åでほぼ一定になつた。この測
定値を表−１に示す。 比較例 ４ ビニルピバレートとクロロトリフロロエチルン
（＝三弗化塩化エチレン）の共重合体（モル比：
50／50、固有粘度：1.5）を特開昭58−92448号公
報の実施例１、２に示される方法に従い作成し
た。この共重合体１ｇを50ｇのテトラフルオロエ
タンに溶解し、水上延展法により膜厚200Åの水
面膜を得た。次に実施例１と同様にして作成した
SH−410積層膜上にこの水面膜を積層し複合膜を
得た。気体透過性能の測定結果を表−１に示す。
本発明の気体分離用複合膜は、良好な選択気体
透過性（たとえば酸素と窒素の分離係数QO2／
QN2＝2.0〜4.0）を保持しつつ、卓越した気体透
過性（たとえば酸素透過係数が通常５m3／m2・
hr・atm以上、好ましくは10〜50m3／m2・hr・
atm）を有するものである。またこれらの性能を
より安定に持続しうるものである。 本発明の特定の重合体(C)を用い、これとシロキ
サン化合物とを特定の順序で多孔性支持体層上に
積層させることによつて上記すぐれた効果が発揮
できるものである。 上記効果を奏することから本発明の複合膜は、
酸素富化膜として好ましく使用できるが、酸素の
透過性ばかりでなく一般に気体透過性が大きいの
で他の混合ガスの分離、例えばバイオガスにおけ
る二酸化炭素／メタンの分離、化学工業において
関心の高い水素／窒素および水素／一酸化炭素の
分離、天然ガスからのヘリウムの濃縮、炭化水素
類の分類などにも利用できる。
透過性（たとえば酸素と窒素の分離係数QO2／
QN2＝2.0〜4.0）を保持しつつ、卓越した気体透
過性（たとえば酸素透過係数が通常５m3／m2・
hr・atm以上、好ましくは10〜50m3／m2・hr・
atm）を有するものである。またこれらの性能を
より安定に持続しうるものである。 本発明の特定の重合体(C)を用い、これとシロキ
サン化合物とを特定の順序で多孔性支持体層上に
積層させることによつて上記すぐれた効果が発揮
できるものである。 上記効果を奏することから本発明の複合膜は、
酸素富化膜として好ましく使用できるが、酸素の
透過性ばかりでなく一般に気体透過性が大きいの
で他の混合ガスの分離、例えばバイオガスにおけ
る二酸化炭素／メタンの分離、化学工業において
関心の高い水素／窒素および水素／一酸化炭素の
分離、天然ガスからのヘリウムの濃縮、炭化水素
類の分類などにも利用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 多孔性支持体層(A)と、その上に厚さ100Å〜
2000Åのシロキサン化合物(B)と、更にその上に厚
さ50Å〜1000Åの気体分離性を有する下記一般式
(1)で示される繰り返し単位を有する置換アセチレ
ン重合体(C) （但し、式中ＲはC1〜C12のアルキル基、または
Si含有のアルキル基である。） を有することを特徴とする気体分離用複合膜。 ２ 気体分離用複合膜の酸素透過係数が５m3／
m2・hr・atm以上である特許請求の範囲第１項記
載の複合膜。 ３ シロキサン化合物(B)の有機溶剤溶液および気
体分離性を有する重合体(C)の有機溶剤溶液をそれ
ぞれ水面上に展開させて極薄膜を形成させ、その
極薄膜をそれぞれ多孔性支持体層(A)上に積層する
ことにより多孔性支持体層(A)とその上に厚さ100
Å〜2000Åのシロキサン化合物(B)と更にその上に
厚さ50Å〜1000Åの気体分離性を有する下記一般
式(1)で示される繰り返し単位を有する置換アセチ
レン重合体(C) （但し、式中ＲはC1〜C12のアルキル基、または
Si含有のアルキル基である。） を有する複合膜を製造することを特徴とする気体
分離用複合膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25229084A JPS61129008A (ja) | 1984-11-28 | 1984-11-28 | 気体分離用複合膜および製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25229084A JPS61129008A (ja) | 1984-11-28 | 1984-11-28 | 気体分離用複合膜および製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61129008A JPS61129008A (ja) | 1986-06-17 |
| JPH0451218B2 true JPH0451218B2 (ja) | 1992-08-18 |
Family
ID=17235196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25229084A Granted JPS61129008A (ja) | 1984-11-28 | 1984-11-28 | 気体分離用複合膜および製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61129008A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61149226A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-07 | Agency Of Ind Science & Technol | ガス選択透過性複合膜およびその製造方法 |
| US5176724A (en) * | 1987-11-10 | 1993-01-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Permselective composite membrane having improved gas permeability and selectivity |
| US4877528A (en) * | 1988-10-27 | 1989-10-31 | Bend Research, Inc. | Siloxane-grafted membranes |
| KR920703191A (ko) * | 1989-12-23 | 1992-12-17 | 펜스케, 라피체 | 복합막, 이의 제조방법 및 이의 용도 |
| DE102013203127A1 (de) * | 2013-02-26 | 2014-08-28 | Wacker Chemie Ag | Poröse Membranen aus vernetztem thermoplastischem Siliconelastomer |
| JP2014176795A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Fujifilm Corp | ガス分離複合膜 |
| US10293301B2 (en) * | 2017-02-09 | 2019-05-21 | Saudi Arabian Oil Company | Modified siloxane composite membranes for heavy hydrocarbon recovery |
| JP2020203227A (ja) * | 2017-08-30 | 2020-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 分離膜、分離膜モジュール、分離装置、分離膜形成用組成物、分離用複合膜の製造方法、及びセルロース化合物 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730528A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-18 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | Vapor-separating member |
| JPS5959210A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 選択性気体透過複合膜 |
| JPS5959214A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-05 | Asahi Glass Co Ltd | ガス分離用複合膜 |
-
1984
- 1984-11-28 JP JP25229084A patent/JPS61129008A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730528A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-18 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | Vapor-separating member |
| JPS5959210A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 選択性気体透過複合膜 |
| JPS5959214A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-05 | Asahi Glass Co Ltd | ガス分離用複合膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61129008A (ja) | 1986-06-17 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |