JPH0449689Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0449689Y2 JPH0449689Y2 JP15218285U JP15218285U JPH0449689Y2 JP H0449689 Y2 JPH0449689 Y2 JP H0449689Y2 JP 15218285 U JP15218285 U JP 15218285U JP 15218285 U JP15218285 U JP 15218285U JP H0449689 Y2 JPH0449689 Y2 JP H0449689Y2
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- JP
- Japan
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- signal
- fluid
- mass flow
- flow rate
- valve
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
- Flow Control (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は熱式質量流量制御装置に係り、特に被
測流体を流路の2点で加熱して2点間の温度差よ
り被測流体の流量を計測し、所定の流量に制御す
る熱式質量流量制御装置に関する。
測流体を流路の2点で加熱して2点間の温度差よ
り被測流体の流量を計測し、所定の流量に制御す
る熱式質量流量制御装置に関する。
従来の技術
従来、流路を流れるガス等の被測流体の質量流
量を精度良く安定的に制御する装置として、バイ
パス流路より分流されたセンサ流路に設けた一対
の温度差検出センサによりバイパス流路内を通過
する被測流体を加熱し、この一対の温度差検出セ
ンサの設けられた2点間の温度差より流路を流れ
る被測流体の流量を計測して流路に設けた弁部の
弁開度を制御する構成とされた熱式質量流量制御
装置が知られている。このような、熱式質量流量
制御装置では流路を流れる被測流体の流量を所定
の流量となるよう正確に制御するため、一対の温
度差検出センサから得られる計測信号と予め設定
された設定信号との偏差が零となるように弁部の
弁開度を制御して被測流体の質量流量を一定に保
つている。
量を精度良く安定的に制御する装置として、バイ
パス流路より分流されたセンサ流路に設けた一対
の温度差検出センサによりバイパス流路内を通過
する被測流体を加熱し、この一対の温度差検出セ
ンサの設けられた2点間の温度差より流路を流れ
る被測流体の流量を計測して流路に設けた弁部の
弁開度を制御する構成とされた熱式質量流量制御
装置が知られている。このような、熱式質量流量
制御装置では流路を流れる被測流体の流量を所定
の流量となるよう正確に制御するため、一対の温
度差検出センサから得られる計測信号と予め設定
された設定信号との偏差が零となるように弁部の
弁開度を制御して被測流体の質量流量を一定に保
つている。
考案が解決しようとする問題点
上記の装置では、温度差信号と設定信号との差
が小なる場合には弁開度の可変量を減少させてハ
ンチングを防止している。また、弁開度を可変す
る機構部には機械的な遊びがある。開弁(又は閉
弁)方向の動作から閉弁(又は開弁)方向の動作
に移行する際には、上記の如く可変量が減少し、
かつ機構部の遊びのために、弁開度が事実上可変
されない期間が生じる。このため、被測流体の質
量流量制御の応答時間が長くなり、また、被測流
体の圧力変動等の外乱によりハンチングが発生
し、質量流量が不規則に変動する等の問題点があ
つた。
が小なる場合には弁開度の可変量を減少させてハ
ンチングを防止している。また、弁開度を可変す
る機構部には機械的な遊びがある。開弁(又は閉
弁)方向の動作から閉弁(又は開弁)方向の動作
に移行する際には、上記の如く可変量が減少し、
かつ機構部の遊びのために、弁開度が事実上可変
されない期間が生じる。このため、被測流体の質
量流量制御の応答時間が長くなり、また、被測流
体の圧力変動等の外乱によりハンチングが発生
し、質量流量が不規則に変動する等の問題点があ
つた。
そこで、本考案は、制御パルス生成回路を設け
ることにより、上記の問題点を解決した熱式質量
流量制御装置を提供することを目的する。
ることにより、上記の問題点を解決した熱式質量
流量制御装置を提供することを目的する。
考案が解決しようとする問題点
本考案においては、制御パルス生成回路は偏差
の極性が反転して弁部の弁体の開閉方向を逆転さ
せるとき弁部の遊びに相当する所定のパルス数の
パルス信号を生成し、偏差の大きさに応じた繰り
返し周波数のパルス信号に付加して出力する。こ
の出力パルス及び偏差の極性に応じてモータが駆
動され上記弁体が変位せしめられる。
の極性が反転して弁部の弁体の開閉方向を逆転さ
せるとき弁部の遊びに相当する所定のパルス数の
パルス信号を生成し、偏差の大きさに応じた繰り
返し周波数のパルス信号に付加して出力する。こ
の出力パルス及び偏差の極性に応じてモータが駆
動され上記弁体が変位せしめられる。
作 用
本発明においては、弁体の開閉方向が逆転する
とき、弁部の遊びに相当するパルス数のパルス信
号が生成され、このパルス信号によつてモータが
駆動せしめられ弁部の遊びが弁体のこれから変位
しようとする方向に除去される。
とき、弁部の遊びに相当するパルス数のパルス信
号が生成され、このパルス信号によつてモータが
駆動せしめられ弁部の遊びが弁体のこれから変位
しようとする方向に除去される。
実施例
第1図は本考案になる熱式質量流量制御装置の
一実施例を示す。同図中、熱式質量流量制御装置
のバイパス流路1中には絞り2が設けられてお
り、絞り2により被測流体は所定の分流比でバイ
パス流路1と、バイパス流路1より分岐したセン
サパイプで形成されるセンサ流路3とに分流され
る。センサ流路3は例えば熱伝導率が良く、しか
も被測流体による腐食を考慮してステンレス製の
パイプで構成されている。また、センサ流路3に
は夫々加熱と温度検出とを兼ねる一対の自己加熱
抵抗体4,5が巻回されている。センサ流路3及
び絞り2の下流には流路6を流れる質量流量を制
御する制御弁7が配設されている。この制御弁7
はステツピングモータ8の回転角度によりその弁
開度を可変されて流路6内の質量流量を一定に保
つよう制御される。
一実施例を示す。同図中、熱式質量流量制御装置
のバイパス流路1中には絞り2が設けられてお
り、絞り2により被測流体は所定の分流比でバイ
パス流路1と、バイパス流路1より分岐したセン
サパイプで形成されるセンサ流路3とに分流され
る。センサ流路3は例えば熱伝導率が良く、しか
も被測流体による腐食を考慮してステンレス製の
パイプで構成されている。また、センサ流路3に
は夫々加熱と温度検出とを兼ねる一対の自己加熱
抵抗体4,5が巻回されている。センサ流路3及
び絞り2の下流には流路6を流れる質量流量を制
御する制御弁7が配設されている。この制御弁7
はステツピングモータ8の回転角度によりその弁
開度を可変されて流路6内の質量流量を一定に保
つよう制御される。
センサ流路3内に流入した被測流体は自己加熱
抵抗体4,5により加熱される。被測流体は自己
加熱抵抗体4で加熱された後自己加熱抵抗体5で
加熱されるため、被測流体の質量流量が大なる程
上記自己加熱抵抗体4,5間の温度差が大となり
夫々を流れる電流値の差が大となる。自己加熱抵
抗体4,6は検出回路9に接続されており、検出
回路9は上記自己加熱抵抗体4,5と共にブリツ
ジ回路を構成している。これによつて検出回路9
は自己加熱抵抗体4,5夫々を流れる電流値の差
つまり温度差に応じた電圧Va(計測信号)を出力
する。この電圧Vaは被測流体の流量が零のとき
0Vとなるよう調整されている。
抵抗体4,5により加熱される。被測流体は自己
加熱抵抗体4で加熱された後自己加熱抵抗体5で
加熱されるため、被測流体の質量流量が大なる程
上記自己加熱抵抗体4,5間の温度差が大となり
夫々を流れる電流値の差が大となる。自己加熱抵
抗体4,6は検出回路9に接続されており、検出
回路9は上記自己加熱抵抗体4,5と共にブリツ
ジ回路を構成している。これによつて検出回路9
は自己加熱抵抗体4,5夫々を流れる電流値の差
つまり温度差に応じた電圧Va(計測信号)を出力
する。この電圧Vaは被測流体の流量が零のとき
0Vとなるよう調整されている。
電圧Vaは増幅回路10で増幅されて電圧Vbと
された後比較回路11に供給される。比較回路1
1には外部回路より流量設定用の設定電圧Vc(設
定信号)が供給されている。比較回路11は電圧
Vbと設定電圧Vcとの偏差の絶対値である偏差電
圧Vdを生成すると共に、偏差の極性に応じて電
圧Vbが設定電圧Vcより小なるときHレベルで弁
開方向を指示し大なるときLレベルで弁閉方向を
指示する弁開閉方向信号eを生成して出力する。
この偏差電圧Vdび弁開閉方向信号eは制御パル
ス生成回路12に供給される。
された後比較回路11に供給される。比較回路1
1には外部回路より流量設定用の設定電圧Vc(設
定信号)が供給されている。比較回路11は電圧
Vbと設定電圧Vcとの偏差の絶対値である偏差電
圧Vdを生成すると共に、偏差の極性に応じて電
圧Vbが設定電圧Vcより小なるときHレベルで弁
開方向を指示し大なるときLレベルで弁閉方向を
指示する弁開閉方向信号eを生成して出力する。
この偏差電圧Vdび弁開閉方向信号eは制御パル
ス生成回路12に供給される。
第2図は制御パルス生成回路12の一実施例の
回路図を示す。同図中、端子20には弁開閉方向
信号eが供給され、端子21には偏差電圧Vdが
供給される。弁開閉方向信号eはイクスクルーシ
ブオア回路22の一方の入力端子に直接供給され
ると共に、抵抗R1及びコンデンサC1で構成され
る積分回路で遅延された後イクスクルーシブオア
回路22の他方の入力端子に供給される。これに
よつてイクスクルーシブオア回路22は第3図A
に示す如き弁開閉方向信号eの立上り及び立下が
りのエツヂを検出したとき第3図Bに示すエツヂ
検出パルスfを生成出力する。
回路図を示す。同図中、端子20には弁開閉方向
信号eが供給され、端子21には偏差電圧Vdが
供給される。弁開閉方向信号eはイクスクルーシ
ブオア回路22の一方の入力端子に直接供給され
ると共に、抵抗R1及びコンデンサC1で構成され
る積分回路で遅延された後イクスクルーシブオア
回路22の他方の入力端子に供給される。これに
よつてイクスクルーシブオア回路22は第3図A
に示す如き弁開閉方向信号eの立上り及び立下が
りのエツヂを検出したとき第3図Bに示すエツヂ
検出パルスfを生成出力する。
イクスクルーシブオア回路22の出力エツヂ検
出パルスfは、抵抗R2及びコンデンサC2により
出力パルス幅が決定される単安定マルチバイブレ
ータ(以下「モノマルチ」という)23に供給さ
れる。モノマルチ23は例えば「MC14538」の
如き集積回路であり、エツヂ検出パルスfの入来
により所定パルス幅の第3図Cに示すパルス信号
gを発生してナンド回路24の一方の入力端子に
供給する。ナンド回路24の他方の入力端子はコ
ンデンサC3を介して接地されると共に抵抗R3を
介してナンド回路24の出力端子に接続されて、
一方の入力端子がHレベルのとき発振する無安定
マルチバイブレータを構成している。つまり、モ
ノマルチ23よりパルス信号gの入来がないとき
ナンド回路24の出力はHレベルであり、パルス
信号gの入来と共に抵抗R3とコンデンサC3の接
続点25の電圧は第3図Dに示す如く変化し、こ
れによつてナンド回路24より第3図Eに示す如
き所定パルス数のパルス信号Paが出力されノア
回路26に供給される。このパルス信号Paのパ
ルス数は制御弁7の弁開度を可変する機構部の遊
びに応じて抵抗R3及びコンデンサC3の定数を選
定することにより所定の値に設定されている。つ
まり、弁開閉方向が変化する毎にナンド回路24
より所定パルス数のパルス信号Paがノア回路2
6の一方の入力端子に供給される。また、端子2
0に入来する弁開閉方向信号eは端子27から出
力される。
出パルスfは、抵抗R2及びコンデンサC2により
出力パルス幅が決定される単安定マルチバイブレ
ータ(以下「モノマルチ」という)23に供給さ
れる。モノマルチ23は例えば「MC14538」の
如き集積回路であり、エツヂ検出パルスfの入来
により所定パルス幅の第3図Cに示すパルス信号
gを発生してナンド回路24の一方の入力端子に
供給する。ナンド回路24の他方の入力端子はコ
ンデンサC3を介して接地されると共に抵抗R3を
介してナンド回路24の出力端子に接続されて、
一方の入力端子がHレベルのとき発振する無安定
マルチバイブレータを構成している。つまり、モ
ノマルチ23よりパルス信号gの入来がないとき
ナンド回路24の出力はHレベルであり、パルス
信号gの入来と共に抵抗R3とコンデンサC3の接
続点25の電圧は第3図Dに示す如く変化し、こ
れによつてナンド回路24より第3図Eに示す如
き所定パルス数のパルス信号Paが出力されノア
回路26に供給される。このパルス信号Paのパ
ルス数は制御弁7の弁開度を可変する機構部の遊
びに応じて抵抗R3及びコンデンサC3の定数を選
定することにより所定の値に設定されている。つ
まり、弁開閉方向が変化する毎にナンド回路24
より所定パルス数のパルス信号Paがノア回路2
6の一方の入力端子に供給される。また、端子2
0に入来する弁開閉方向信号eは端子27から出
力される。
端子21よりの偏差電圧VdはV/Fコンバー
タ28に供給され、ここで偏差電圧Vdの値に応
じた繰り返し周波数のパルス信号Pbが生成され
る。勿論、偏差電圧Vdが小なるときは大なると
きに対してパルス信号Pbの繰り返し周波数が小
となるよう、V/Fコンバータ28は非線形な特
性を有している。このため、第3図Aに示す如く
弁開閉方向信号eが反転するときには偏差電圧
Vdの値は小であり、パルス信号Pbのパルス数は
第3図Fに示す如くパルス信号Paのパルス数に
対して非常に少ない。このパルス信号Pbはノア
回路26の他方の入力端子に供給される。ノア回
路26は上記のパルス信号Pa及びPbを加算して
第3図Gに示す制御パルス信号Pcを生成して端
子29より出力する。
タ28に供給され、ここで偏差電圧Vdの値に応
じた繰り返し周波数のパルス信号Pbが生成され
る。勿論、偏差電圧Vdが小なるときは大なると
きに対してパルス信号Pbの繰り返し周波数が小
となるよう、V/Fコンバータ28は非線形な特
性を有している。このため、第3図Aに示す如く
弁開閉方向信号eが反転するときには偏差電圧
Vdの値は小であり、パルス信号Pbのパルス数は
第3図Fに示す如くパルス信号Paのパルス数に
対して非常に少ない。このパルス信号Pbはノア
回路26の他方の入力端子に供給される。ノア回
路26は上記のパルス信号Pa及びPbを加算して
第3図Gに示す制御パルス信号Pcを生成して端
子29より出力する。
第2図示の端子27,29夫々より出力される
弁開閉方向信号e、制御パルス信号Pc夫々は第
1図示のステツピングモータ駆動回路13に供給
される。この駆動回路13は弁開閉方向信号eの
Hレベル又はLレベルで指示される回転方向に、
かつパルス信号Pcのパルス数と同数のステツプ
数だけステツピングモータ8をステツプ回転せし
める駆動信号を生成してステツピングモータ8に
供給し、ステツピングモータ8の回転角度に応じ
て制御弁7が開弁又は閉弁せしめられる。
弁開閉方向信号e、制御パルス信号Pc夫々は第
1図示のステツピングモータ駆動回路13に供給
される。この駆動回路13は弁開閉方向信号eの
Hレベル又はLレベルで指示される回転方向に、
かつパルス信号Pcのパルス数と同数のステツプ
数だけステツピングモータ8をステツプ回転せし
める駆動信号を生成してステツピングモータ8に
供給し、ステツピングモータ8の回転角度に応じ
て制御弁7が開弁又は閉弁せしめられる。
偏差電圧Vdが略0Vで弁開閉方向信号eが例え
ばHレベルからLレベルに変化した場合とは、被
測流体の入力圧力が僅かに高くなり制御弁7の入
力側と出力側とでの圧力差が大きくなり、制御弁
7の弁開度が一定であつても被測流体の質量流量
が大となつた状況である。このように制御弁7の
弁開閉方向が逆転したときパルス信号Paが生成
され、このパルス信号Paによつてステツピング
モータ8が駆動されて制御弁7の機構部の遊び
が、これから制御弁7を変位しようとする開方向
(又は閉方向)に除去され、この後制御弁7はパ
ルス信号Paのパルス数に応じて開方向(又は閉
方向)に可変制御される。従つて、被測流体の質
量流量制御の応答時間が短縮されて正確な制御が
可能となり、また被測流体の圧力変動等の外乱を
抑制することが可能となる。
ばHレベルからLレベルに変化した場合とは、被
測流体の入力圧力が僅かに高くなり制御弁7の入
力側と出力側とでの圧力差が大きくなり、制御弁
7の弁開度が一定であつても被測流体の質量流量
が大となつた状況である。このように制御弁7の
弁開閉方向が逆転したときパルス信号Paが生成
され、このパルス信号Paによつてステツピング
モータ8が駆動されて制御弁7の機構部の遊び
が、これから制御弁7を変位しようとする開方向
(又は閉方向)に除去され、この後制御弁7はパ
ルス信号Paのパルス数に応じて開方向(又は閉
方向)に可変制御される。従つて、被測流体の質
量流量制御の応答時間が短縮されて正確な制御が
可能となり、また被測流体の圧力変動等の外乱を
抑制することが可能となる。
なお、制御パルス生成回路12では、ナンド回
路24等で構成される無安定マルチバイブレータ
の出力パルス信号Paをノア回路26で加算して
いるが、このパルス信号Paをカウンタで計数し、
パルス信号Paのパルス数を常時一定に管理して
ノア回路26に供給しても良く、またモノマルチ
23の出力パルス信号gと偏差電圧Vdとをアナ
ログ的に加算した後V/Fコンバータ28に供給
してV/Fコンバータ28で制御パルス信号Pc
を生成しても良く、上記実施例に限定されない。
路24等で構成される無安定マルチバイブレータ
の出力パルス信号Paをノア回路26で加算して
いるが、このパルス信号Paをカウンタで計数し、
パルス信号Paのパルス数を常時一定に管理して
ノア回路26に供給しても良く、またモノマルチ
23の出力パルス信号gと偏差電圧Vdとをアナ
ログ的に加算した後V/Fコンバータ28に供給
してV/Fコンバータ28で制御パルス信号Pc
を生成しても良く、上記実施例に限定されない。
考案の効果
上述の如く、本考案になる熱式質量流量制御装
置は、制御パルス生成回路を設けたため、弁体の
開閉方向が逆転するとき弁部の遊びに相当するパ
ルス数のパルス信号によつてモータが駆動せしめ
られ弁部の遊びが弁体のこれから変位しようとす
る方向に除去され、制御の応答時間が短縮され質
量流量の正確な制御ができ、また被測流体の圧力
変動等の外乱を抑制することができる等の特長を
有している。
置は、制御パルス生成回路を設けたため、弁体の
開閉方向が逆転するとき弁部の遊びに相当するパ
ルス数のパルス信号によつてモータが駆動せしめ
られ弁部の遊びが弁体のこれから変位しようとす
る方向に除去され、制御の応答時間が短縮され質
量流量の正確な制御ができ、また被測流体の圧力
変動等の外乱を抑制することができる等の特長を
有している。
第1図は本考案装置の一実施例のブロツク系統
図、第2図は本考案装置の要部の一実施例の回路
図、第3図は第1図及び第2図示の装置各部の一
実施例の信号波形図である。 1……バイパス流路、3……センサ流路、4,
5……自己加熱抵抗体、7……制御弁、8……ス
テツピングモータ、9……検出回路、12……制
御パルス生成回路。
図、第2図は本考案装置の要部の一実施例の回路
図、第3図は第1図及び第2図示の装置各部の一
実施例の信号波形図である。 1……バイパス流路、3……センサ流路、4,
5……自己加熱抵抗体、7……制御弁、8……ス
テツピングモータ、9……検出回路、12……制
御パルス生成回路。
Claims (1)
- 被測流体を流路の2点で加熱し該2点間の温度
差より該被測流体の質量流量に応じた値の計測信
号を得、該計測信号と予め設定された設定信号と
の偏差に基づいて弁部の弁体を変位させ該被測流
体の質量流量を制御する熱式質量流量制御装置に
おいて、該偏差の極性が反転して該弁体の開閉方
向を逆転させるとき所定パルス数のパルス信号を
生成し、該偏差の大きさに応じた繰り返し周波数
のパルス信号に付加して出力する制御パルス生成
回路を設けてなり、該偏差の極性及び該制御パル
ス生成回路の出力パルスに応じてモータを駆動さ
せ該弁体を変位されるよう構成してなる熱式質量
流量制御装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15218285U JPH0449689Y2 (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | |
KR1019860000246A KR900000663B1 (ko) | 1985-01-19 | 1986-01-17 | 유량제어장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15218285U JPH0449689Y2 (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6262309U JPS6262309U (ja) | 1987-04-17 |
JPH0449689Y2 true JPH0449689Y2 (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=31069931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15218285U Expired JPH0449689Y2 (ja) | 1985-01-19 | 1985-10-04 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0449689Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-10-04 JP JP15218285U patent/JPH0449689Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6262309U (ja) | 1987-04-17 |
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