JP2814379B2 - マスフローコントローラ - Google Patents
マスフローコントローラInfo
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F5/00—Measuring a proportion of the volume flow
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/6847—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow where sensing or heating elements are not disturbing the fluid flow, e.g. elements mounted outside the flow duct
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基体に形成された流体入口と流体出口との
間に、流体流量を測定するマスフローメータ部と、流体
流量を制御する流体制御部とを設けてなるマスフローコ
ントローラの改良に関する。
間に、流体流量を測定するマスフローメータ部と、流体
流量を制御する流体制御部とを設けてなるマスフローコ
ントローラの改良に関する。
従来のマスフローコントローラの流体制御部(制御
弁)は、例えば第5図に示すように、基体51に形成され
た流体入口52と流体出口53との間に弁座54を設けると共
に、先端部55Aが円錐台形に形成された弁体55を例えば
サーマル方式の弁体駆動部56によって駆動し、弁座54に
形成された弁口57の開度を適宜調節するように構成され
ている。
弁)は、例えば第5図に示すように、基体51に形成され
た流体入口52と流体出口53との間に弁座54を設けると共
に、先端部55Aが円錐台形に形成された弁体55を例えば
サーマル方式の弁体駆動部56によって駆動し、弁座54に
形成された弁口57の開度を適宜調節するように構成され
ている。
しかしながら、上記構成のマスフローコントローラに
おいては、弁体55の先端部55Aが円錐台形であるため、
これを、弁口57から流体が漏れないように弁口57壁面に
密着させることができず、従って、極めて小流量領域に
おける制御に限界があり、下限は最大制御流量の精々数
%程度にとどまり、例えば最大制御流量の0.1%といっ
た微小流量領域の制御を行うことができなかった。
おいては、弁体55の先端部55Aが円錐台形であるため、
これを、弁口57から流体が漏れないように弁口57壁面に
密着させることができず、従って、極めて小流量領域に
おける制御に限界があり、下限は最大制御流量の精々数
%程度にとどまり、例えば最大制御流量の0.1%といっ
た微小流量領域の制御を行うことができなかった。
ところで、マスフローコントローラにおいては、仮に
微小流量領域の制御が可能になったとしても、流体流量
を測定するマスフローメータ部におけるノイズレベルが
高いと、微小流量領域の制御を精度よく行うことができ
ない。
微小流量領域の制御が可能になったとしても、流体流量
を測定するマスフローメータ部におけるノイズレベルが
高いと、微小流量領域の制御を精度よく行うことができ
ない。
而して、従来のマスフローコントローラのマスフロー
メータ部においては、流体が流れる導管に互いに独立し
て巻設された2つの抵抗体をそれぞれ一定の温度に保持
するための電力の差に基づいて、導管内を流れる流体の
質量流量を検出するようにしているが、従来のマスフロ
ーコントローラにおいては、前記抵抗体に流す電流の方
向が明確に規定されていなかったため、抵抗体間の相互
電磁誘導作用によりノイズレベルの高い出力信号、つま
り、S/N比がよくない出力信号しか得られなかった。マ
スフローコントローラとして実用上問題がないレベルま
でノイズを低減するには、信号処理部にノイズフィルタ
を設ければよいが、このようにすると制御応答性が損な
われてしまう。
メータ部においては、流体が流れる導管に互いに独立し
て巻設された2つの抵抗体をそれぞれ一定の温度に保持
するための電力の差に基づいて、導管内を流れる流体の
質量流量を検出するようにしているが、従来のマスフロ
ーコントローラにおいては、前記抵抗体に流す電流の方
向が明確に規定されていなかったため、抵抗体間の相互
電磁誘導作用によりノイズレベルの高い出力信号、つま
り、S/N比がよくない出力信号しか得られなかった。マ
スフローコントローラとして実用上問題がないレベルま
でノイズを低減するには、信号処理部にノイズフィルタ
を設ければよいが、このようにすると制御応答性が損な
われてしまう。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、そ
の目的とするところは、制御範囲を微小流量領域にまで
拡げ、かつ、その制御を高速で精度よく行えるようにし
たマスフローコントローラを提供することにある。
の目的とするところは、制御範囲を微小流量領域にまで
拡げ、かつ、その制御を高速で精度よく行えるようにし
たマスフローコントローラを提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明に係るマスフロー
コントローラは、基体に形成された流体入口と流体出口
との間に、流体流量を測定するマスフローメータ部と、
流体流量を制御する流体制御部とを設けてなる常開のマ
スフローコントローラにおいて、前記流体制御部には、
所定のオリフィス径に開口する弁口を備えた弁座が設け
られ、その弁座との間の隙間を調整するために弁体駆動
部よって駆動される弁体がダイヤフラムを介して前記基
体側に支持され、その弁座及び弁体の相対向する部分が
それぞれ鏡仕上げされた平面に形成される一方、前記マ
スフローメータ部における導管に所定の間隔をおいて互
いに独立させて巻設した温度感応抵抗線よりなる2つの
抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の向きが前記導管内を流れ
る流体の方向と逆向きになるように、かつ、前記両抵抗
体の温度が常に所定の温度で相等しくなるように、前記
各抵抗体にそれぞれ制御電極を供給する2つの定温度制
御回路を設けると共に、その両定温度制御回路からの出
力電位を加算する加算回路と、一方の前記定温度制御回
路の出力電位から他方の前記定温度制御回路の出力電位
を減算する減算回路と、前記減算回路からの減算出力を
前記加算回路からの加算出力で除算する除算回路とを設
けてなることを特徴としている。
コントローラは、基体に形成された流体入口と流体出口
との間に、流体流量を測定するマスフローメータ部と、
流体流量を制御する流体制御部とを設けてなる常開のマ
スフローコントローラにおいて、前記流体制御部には、
所定のオリフィス径に開口する弁口を備えた弁座が設け
られ、その弁座との間の隙間を調整するために弁体駆動
部よって駆動される弁体がダイヤフラムを介して前記基
体側に支持され、その弁座及び弁体の相対向する部分が
それぞれ鏡仕上げされた平面に形成される一方、前記マ
スフローメータ部における導管に所定の間隔をおいて互
いに独立させて巻設した温度感応抵抗線よりなる2つの
抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の向きが前記導管内を流れ
る流体の方向と逆向きになるように、かつ、前記両抵抗
体の温度が常に所定の温度で相等しくなるように、前記
各抵抗体にそれぞれ制御電極を供給する2つの定温度制
御回路を設けると共に、その両定温度制御回路からの出
力電位を加算する加算回路と、一方の前記定温度制御回
路の出力電位から他方の前記定温度制御回路の出力電位
を減算する減算回路と、前記減算回路からの減算出力を
前記加算回路からの加算出力で除算する除算回路とを設
けてなることを特徴としている。
上記構成によれば、流体制御部に設けられる弁座及び
弁体の相対向する部分を平面とし、この平面を鏡面仕上
げとしているから、微小流量領域における流量制御が高
精度に行え、そして、マスフローメータ部における導管
に巻設された2つの抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の向き
が前記導管内を流れる流体の方向と逆向きになるよう
に、両定温度制御回路から前記各抵抗体に制御電流を流
すと共に、加算回路、減算回路及び除算回路を設け、両
定温度制御回路からの減算出力を加算出力で除算して除
算出力を得るようにしたので、ノイズフィルタを用いな
くてもノイズの影響がない出力信号を得ることができ、
かつ、高速応答で流量を精度よく制御することができ
る。
弁体の相対向する部分を平面とし、この平面を鏡面仕上
げとしているから、微小流量領域における流量制御が高
精度に行え、そして、マスフローメータ部における導管
に巻設された2つの抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の向き
が前記導管内を流れる流体の方向と逆向きになるよう
に、両定温度制御回路から前記各抵抗体に制御電流を流
すと共に、加算回路、減算回路及び除算回路を設け、両
定温度制御回路からの減算出力を加算出力で除算して除
算出力を得るようにしたので、ノイズフィルタを用いな
くてもノイズの影響がない出力信号を得ることができ、
かつ、高速応答で流量を精度よく制御することができ
る。
以下、本発明の一実施例を、図面を参照しながら説明
する。
する。
第1図は所謂ノルマルオープンタイプのマスフローコ
ントローラの一例を示し、同図において、1は基体、2,
3は基体1に形成された流体入口,流体出口である。4
は流体入口2と流体出口3との間に形成される流体流路
で、マスフローメータ部5と流体制御部6とが設けてあ
る。尚、図示する例においては、マスフローメータ部5
が流体制御部6よりも上流側に設けてあるが、この配置
を逆にしてもよい。
ントローラの一例を示し、同図において、1は基体、2,
3は基体1に形成された流体入口,流体出口である。4
は流体入口2と流体出口3との間に形成される流体流路
で、マスフローメータ部5と流体制御部6とが設けてあ
る。尚、図示する例においては、マスフローメータ部5
が流体制御部6よりも上流側に設けてあるが、この配置
を逆にしてもよい。
前記マスフローメータ部5は、流体流路4に臨むよう
に開設された測定流路入口7と測定流路出口8との間を
接続する例えば薄肉毛細管よりなる導管9に例えば熱式
質量流量センサよりなる抵抗体10u,10d(以下、第1抵
抗体10u、第2抵抗体10dという)を巻回してなるもので
ある。
に開設された測定流路入口7と測定流路出口8との間を
接続する例えば薄肉毛細管よりなる導管9に例えば熱式
質量流量センサよりなる抵抗体10u,10d(以下、第1抵
抗体10u、第2抵抗体10dという)を巻回してなるもので
ある。
第2図は前記第1抵抗体10u、第2抵抗体10dに対して
それぞれ電力を供給する回路の一例を示し、図示する例
においては、第1抵抗体10u、第2抵抗体10dは、流体F
が流れる導管9に対して互いに逆方向にしかも互いに独
立した状態に巻設されている。第1抵抗体10u、第2抵
抗体10dは例えば鉄・ニッケル合金等温度係数の大なる
温度感応抵抗線よりなり、導管9内を流れる流体Fの流
量の僅かな変化をも検知するべく構成してある。
それぞれ電力を供給する回路の一例を示し、図示する例
においては、第1抵抗体10u、第2抵抗体10dは、流体F
が流れる導管9に対して互いに逆方向にしかも互いに独
立した状態に巻設されている。第1抵抗体10u、第2抵
抗体10dは例えば鉄・ニッケル合金等温度係数の大なる
温度感応抵抗線よりなり、導管9内を流れる流体Fの流
量の僅かな変化をも検知するべく構成してある。
11,12は第1抵抗体10u、第2抵抗体10dをそれぞれ後
述するフリッジ回路17,22の構成要素として含む定温度
制御回路(以下、第1定温度制御回路11、第2定温度制
御回路12という)で、これら第1定温度制御回路11、第
2定温度制御回路12は互いに同一の部品より構成されて
おり、第1抵抗体10uと第2抵抗体10dとの温度が常に所
定の温度で相等しくなるように制御するものである。
述するフリッジ回路17,22の構成要素として含む定温度
制御回路(以下、第1定温度制御回路11、第2定温度制
御回路12という)で、これら第1定温度制御回路11、第
2定温度制御回路12は互いに同一の部品より構成されて
おり、第1抵抗体10uと第2抵抗体10dとの温度が常に所
定の温度で相等しくなるように制御するものである。
即ち、第1定温度制御回路11は第1抵抗体10uとこの
第1抵抗体10uの温度設定用抵抗13とブリッジ抵抗14,15
とからなるブリッジ回路16と、制御回路17とを備えてい
る。又、第2定温度制御回路12は第2抵抗体10dとこの
第2抵抗体10dの温度設定用抵抗18とブリッジ抵抗19,20
と可変抵抗21とからなるブリッジ回路22と、制御回路23
とを備えている。尚、可変抵抗21は導管9における流体
Fの流量がゼロのとき、ブリッジ回路16,22のそれぞれ
の出力が互いに等しくなるように調整するものである。
又、抵抗13,14,15,18,19,20,21は第1抵抗体10u,第2抵
抗体10dに比べて温度係数が十分小さくしてある。
第1抵抗体10uの温度設定用抵抗13とブリッジ抵抗14,15
とからなるブリッジ回路16と、制御回路17とを備えてい
る。又、第2定温度制御回路12は第2抵抗体10dとこの
第2抵抗体10dの温度設定用抵抗18とブリッジ抵抗19,20
と可変抵抗21とからなるブリッジ回路22と、制御回路23
とを備えている。尚、可変抵抗21は導管9における流体
Fの流量がゼロのとき、ブリッジ回路16,22のそれぞれ
の出力が互いに等しくなるように調整するものである。
又、抵抗13,14,15,18,19,20,21は第1抵抗体10u,第2抵
抗体10dに比べて温度係数が十分小さくしてある。
そして、上記第1抵抗体10u,第2抵抗体10dは、第1
定温度制御回路11、第2定温度制御回路12によってそれ
ぞれ供給される電流Iu,Idが流れることによって第1抵
抗体10u,第2抵抗体10dにそれぞれ発生する磁界Φu,Φ
dの向きが導管9内を流れる流体Fの向きと逆になるよ
うに(第3図(A)参照)、前記第1定温度制御回路1
1、第2定温度制御回路12にそれぞれ接続してある。
定温度制御回路11、第2定温度制御回路12によってそれ
ぞれ供給される電流Iu,Idが流れることによって第1抵
抗体10u,第2抵抗体10dにそれぞれ発生する磁界Φu,Φ
dの向きが導管9内を流れる流体Fの向きと逆になるよ
うに(第3図(A)参照)、前記第1定温度制御回路1
1、第2定温度制御回路12にそれぞれ接続してある。
24,25はそれぞれ加算回路,減算回路であり、ブリッ
ジ回路16,22の出力点26,27にそれぞれ出力される電位
P1,P2をそれぞれ入力とし、前者24からは加算出力とし
てP1+P2が、又、後者25からは減算出力としてP1−P2が
それぞれ出力される。28は除算回路であり、加算回路24
及び減算回路からの出力を入力とし、除算出力として
(P1−P2)/(P1+P2)を出力する。そして、この出力
(P1−P2)/(P1+P2)は、導管9内を流れる流体Fの
質量流量に比例しているので、これに適宜の定数を乗ず
ることにより、導管9内を流れる流体Fの質量流量を得
ることができる。尚、29は出力端子である。
ジ回路16,22の出力点26,27にそれぞれ出力される電位
P1,P2をそれぞれ入力とし、前者24からは加算出力とし
てP1+P2が、又、後者25からは減算出力としてP1−P2が
それぞれ出力される。28は除算回路であり、加算回路24
及び減算回路からの出力を入力とし、除算出力として
(P1−P2)/(P1+P2)を出力する。そして、この出力
(P1−P2)/(P1+P2)は、導管9内を流れる流体Fの
質量流量に比例しているので、これに適宜の定数を乗ず
ることにより、導管9内を流れる流体Fの質量流量を得
ることができる。尚、29は出力端子である。
再び、第1図に戻り、30は流体流路4に形成された定
分流比特性を有するバイバス部である。
分流比特性を有するバイバス部である。
そして、前記流体制御部6は次のように構成されてい
る。即ち、前記バイバス部30よりも下流側の流体流路4
に弁口31を備えた弁座32が設けられると共に、弁口31の
開度を調節する弁体33がその弁頭部33Aを弁口31に近接
した状態で設けられている。この弁体33は弁体ガイド部
34内を上下方向に移動し得るように、しかも、通常時、
弁座32との間に若干の隙間が形成されるように、金属製
のダイヤフラム35によって保持されている。
る。即ち、前記バイバス部30よりも下流側の流体流路4
に弁口31を備えた弁座32が設けられると共に、弁口31の
開度を調節する弁体33がその弁頭部33Aを弁口31に近接
した状態で設けられている。この弁体33は弁体ガイド部
34内を上下方向に移動し得るように、しかも、通常時、
弁座32との間に若干の隙間が形成されるように、金属製
のダイヤフラム35によって保持されている。
更に、前記弁座32及び弁体33の相対向する部分、32a,
33aはそれぞれ鏡面仕上げによって極めて平滑な平面(R
maxが0.5tl以下)に形成されている。
33aはそれぞれ鏡面仕上げによって極めて平滑な平面(R
maxが0.5tl以下)に形成されている。
36は弁体33を所定の方向に駆動する弁体駆動部で、例
えば複数の圧電素子を積層してなるピエゾスタックより
なる。この弁体駆動部36は弁ブロック37に螺着された筒
状カバー体38内に収容され、所定の直流電圧を印加する
ことによりその出力部が下方に変位し、これによって弁
体33が下降し、弁口31の開度が変化するのである。
えば複数の圧電素子を積層してなるピエゾスタックより
なる。この弁体駆動部36は弁ブロック37に螺着された筒
状カバー体38内に収容され、所定の直流電圧を印加する
ことによりその出力部が下方に変位し、これによって弁
体33が下降し、弁口31の開度が変化するのである。
尚、第1図において、39〜45はシール部材としてのス
テンレス製のOリングである。
テンレス製のOリングである。
而して、上記構成のマスフローコントローラにおい
て、弁座32及び弁体33の相対向する部分32a,33aが鏡面
仕上げされているので、弁口31の開度調節をサブミクロ
ン乃至ミクロンオーダーで行うことができ、それだけ小
さい制御分解能を得ることができるから、極めて小流量
領域において精度よく流量制御することができる。
て、弁座32及び弁体33の相対向する部分32a,33aが鏡面
仕上げされているので、弁口31の開度調節をサブミクロ
ン乃至ミクロンオーダーで行うことができ、それだけ小
さい制御分解能を得ることができるから、極めて小流量
領域において精度よく流量制御することができる。
一方、マスフローメータ部5においては、導管9に巻
設された2つの抵抗体10u,10dにそれぞれ生ずる磁界
Φu,Φdの向きが導管9内を流れる流体Fの方向と逆に
なるように、抵抗体10u,10dに電流Iu,Idを流すようにし
ているので、第4図(A)に示すように、ノイズレベル
が極めて低い出力信号Kを得ることができる。従って、
従来のマスフローコントローラと異なる、ノイズフィル
タを用いなくても電圧変動が小さいノイズレベルが極め
て低い出力を得ることができるので、微小流量領域にお
いても、高速応答性をもって制御することができるので
ある。
設された2つの抵抗体10u,10dにそれぞれ生ずる磁界
Φu,Φdの向きが導管9内を流れる流体Fの方向と逆に
なるように、抵抗体10u,10dに電流Iu,Idを流すようにし
ているので、第4図(A)に示すように、ノイズレベル
が極めて低い出力信号Kを得ることができる。従って、
従来のマスフローコントローラと異なる、ノイズフィル
タを用いなくても電圧変動が小さいノイズレベルが極め
て低い出力を得ることができるので、微小流量領域にお
いても、高速応答性をもって制御することができるので
ある。
尚、ここで、第3図及び第4図について説明すると、
第3図(A)〜(D)は2つの抵抗体10u,10dに電流Iu,
Idを供給する場合における供給方向と、前記電流Iu,Id
によって各抵抗体10u,10dに生じる磁界Φu,Φdの向き
と、導管9内を流れる流体Fの方向を示し、そのうち、
(B)〜(D)は比較例を示す。又、第4図(A)〜
(D)は前記第3図(A)〜(D)の各場合における出
力信号の波形図を示し、そのうち、(B)〜(D)は比
較例を示す。これらの図から、比較例においては、ノイ
ズレベルが極めて高いことが判る。
第3図(A)〜(D)は2つの抵抗体10u,10dに電流Iu,
Idを供給する場合における供給方向と、前記電流Iu,Id
によって各抵抗体10u,10dに生じる磁界Φu,Φdの向き
と、導管9内を流れる流体Fの方向を示し、そのうち、
(B)〜(D)は比較例を示す。又、第4図(A)〜
(D)は前記第3図(A)〜(D)の各場合における出
力信号の波形図を示し、そのうち、(B)〜(D)は比
較例を示す。これらの図から、比較例においては、ノイ
ズレベルが極めて高いことが判る。
本発明は、上述の実施例に限られるものではなく、例
えば抵抗体10u,10dを導管9に対して上記図示例以外の
方向に巻回してもよく、又、弁体駆動部36はサーマル駆
動方式等種々のもので構成することができる。更に、ノ
ルマルクローズタイプのマスフローコントローラにも適
用することができる。
えば抵抗体10u,10dを導管9に対して上記図示例以外の
方向に巻回してもよく、又、弁体駆動部36はサーマル駆
動方式等種々のもので構成することができる。更に、ノ
ルマルクローズタイプのマスフローコントローラにも適
用することができる。
以上説明したように、本発明に係るマスフローコント
ローラは、流体制御部に設けられる弁座及び弁体の相対
向する部分を平面とし、その平面を鏡面仕上げすると共
に、前記マスフローメータ部における導管に巻設された
2つの抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の向きが前記導管内
を流れる流体の方向と逆になるように、かつ、前記両抵
抗体の温度が常に所定の温度で相等しくなるように、前
記各抵抗体に電流を流すようにしているので、例えば最
大制御流量の0.1%といった微小流量領域においても精
度よく、しかも、高速応答性をもって制御することがで
きる。
ローラは、流体制御部に設けられる弁座及び弁体の相対
向する部分を平面とし、その平面を鏡面仕上げすると共
に、前記マスフローメータ部における導管に巻設された
2つの抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の向きが前記導管内
を流れる流体の方向と逆になるように、かつ、前記両抵
抗体の温度が常に所定の温度で相等しくなるように、前
記各抵抗体に電流を流すようにしているので、例えば最
大制御流量の0.1%といった微小流量領域においても精
度よく、しかも、高速応答性をもって制御することがで
きる。
第1図は本発明の一実施例に係るマスフローコントロー
ラを示す縦断面図、第2図は抵抗体に電力を供給する回
路の一例を示すブロック図である。第3図(A)〜
(D)は2つの抵抗体に電流を供給する場合における電
流供給方向と前記電流によって各抵抗体に生じる磁界の
向きと導管内を流れる流体の方向とを示す説明図、第4
図(A)〜(D)は出力波形図である。 第5図は従来技術を説明するための断面図である。 1……基体、2……流体入口、3……流体出口、5……
マスフローメータ部、6……流体制御部、9……導管、
10u,10d……抵抗体、32……弁座、33……弁体、32a,33a
……流量制御部分、F……流体、Iu,Id……電流、Φu,
Φd……磁界。
ラを示す縦断面図、第2図は抵抗体に電力を供給する回
路の一例を示すブロック図である。第3図(A)〜
(D)は2つの抵抗体に電流を供給する場合における電
流供給方向と前記電流によって各抵抗体に生じる磁界の
向きと導管内を流れる流体の方向とを示す説明図、第4
図(A)〜(D)は出力波形図である。 第5図は従来技術を説明するための断面図である。 1……基体、2……流体入口、3……流体出口、5……
マスフローメータ部、6……流体制御部、9……導管、
10u,10d……抵抗体、32……弁座、33……弁体、32a,33a
……流量制御部分、F……流体、Iu,Id……電流、Φu,
Φd……磁界。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−128123(JP,A) 特開 昭62−132120(JP,A) 実開 昭61−94906(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01F 1/68 G05D 7/06
Claims (1)
- 【請求項1】基体に形成された流体入口と流体出口との
間に、流体流量を測定するマスフローメータ部と、流体
流量を制御する流体制御部とを設けてなる常開のマスフ
ローコントローラにおいて、前記流体制御部には、所定
のオリフィス径に開口する弁口を備えた弁座が設けら
れ、その弁座との間の隙間を調整するために弁体駆動部
によって駆動される弁体がダイヤフラムを介して前記基
体側に支持され、その弁座及び弁体の相対向する部分が
それぞれ鏡仕上げされた平面に形成される一方、前記マ
スフローメータ部における導管に所定の間隔をおいて互
いに独立させて巻設した温度感応抵抗線よりなる2つの
抵抗体にそれぞれ生ずる磁界の向きが前記導管内を流れ
る流体の方向と逆向きになるように、かつ、前記両抵抗
体の温度が常に所定の温度で相等しくなるように、前記
各抵抗体にそれぞれ制御電極を供給する2つの定温度制
御回路を設けると共に、その両定温度制御回路からの出
力電位を加算する加算回路と、一方の前記定温度制御回
路の出力電位から他方の前記定温度制御回路の出力電位
を減算する減算回路と、前記減算回路からの減算出力を
前記加算回路からの加算出力で除算する除算回路とを設
けてなることを特徴とするマスフローコントローラ。
Priority Applications (2)
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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JP15267488A JP2814379B2 (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | マスフローコントローラ |
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JP2814379B2 true JP2814379B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=15545627
Family Applications (1)
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JPS61128123A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-16 | Esutetsuku:Kk | 質量流量計 |
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-
1988
- 1988-06-20 JP JP15267488A patent/JP2814379B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-06-15 US US07/366,618 patent/US4921005A/en not_active Expired - Lifetime
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US4921005A (en) | 1990-05-01 |
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