JPH0448447A - 光磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、浮上型ヘッドを使用して記録等を行う光磁気
ディスク及びその製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

光磁気記録再生方式では、ガラス、プラスチック、セラ
ミックス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁
化膜を形成したものを記録媒体とし、以下のような方法
で記録、再生を行うようになっている。

すなわち、記録する際には、まず、記録媒体の磁化の方
向を強力な外部磁場等によって一方向に（上向き又は下
向き）に揃え、初期化を行う。その後、記録したい領域
にレーザビームを照射し、記録媒体の温度をキュリー点
近傍以上又は補償点近傍に加熱し、その領域の保磁力を
“０”又はほとんど“０”とした上で初期化の磁化の方
向と逆向きの外部磁場（バイアス磁場）を印加して磁化
の向きを反転させる。そして、レーザビームの照射を停
止すると、記録媒体は常温に戻るので、反転した磁化は
固定され、熱磁気的に情報が記録される。

再生は、直線偏光とされたレーザビームを記録媒体に照
射した際に、その反射光又は透過光の偏光面の回転方向
が磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果又は磁
気ファラデー効果）を利用して行われる。

上記のような光磁気記録再生方式を用いた記録媒体（光
磁気ディスク）は、書換え可能な大容量メモリ素子とし
て注目されているが、情報を書き換える方法には、（ｉ
）記録媒体を再度初期化して従前に記録された情報を一
旦消去した後、新たな情報の書込みを行う方法、（ｉｉ
）記録媒体又は外部磁場発生装置に工夫を加えてオーバ
ライド、つまり、消去動作を経ずに直接情報の書換えを
行う方法の２通りがある。

その内、（ｉ）の方法では、記録用のヘッド以外に初期
化装置が必要になるか、又は記録及び消去用に２個のヘ
ッドが必要になり、部品点数の増加及びコストアップを
招来する。なお、１個のみのヘッドで記録及び消去を行
うこともできるが、その場合は、書換え時に消去のため
の待ち時間が必要となって非効率的である。

一方、（ｉｉ　）における記録媒体を工夫する方法では
、記録媒体の組成、膜厚等のＨ御が困難なものである。

そのため、（ｉｉ）における外部磁場発生装置を工夫す
る方法、具体的には、レーザビームの強度を一定にし、
記録すべき情報に応じて外部磁場の向きを高速スイッチ
ングで反転させる磁界変調方式が最も有力視されている
。

ところで、外部磁場の向きを高速で反転させるためには
、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極め
て小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域も
小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接させ
る必要があるので、一般には、第６図及び第７図に示す
ように、外部磁場発生装置を図示しない記録媒体上で滑
走可能な浮上型ヘッドｌとして構成し、この浮上型ヘッ
ド１におけるスライダ部２に磁気ヘッド３を設けるとと
もに、浮上型ヘッド１を板ばね等からなるサスペンショ
ン４により支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回
転に伴って浮上型ヘッド１を記録媒体の表面から微小な
浮上量で浮上させるようにしている。

この浮上型ヘッド】はスライダ部２と記録媒体間の空気
の流れによって生じる第６図中上向きの浮上刃とサスペ
ンション４による図中下向きの付勢力とを均衡させるこ
とにより、一定の浮上量を保つものである。このような
ヘッドは既存のハードディスク装置にも採用されており
、ハードディスク装置における浮上量はとサブミクロン
のオーダである。

一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合は、ディス
クの交換が可能であるために、塵が付着しやす（なり、
又、浮上型ヘッド１が光磁気ディスクに接近しすぎると
、ヘッドクラッシュ等が生じる恐れがあるので、ハード
ディスク装置に比べて浮上量を大きくして、例えば、５
〜１５μｍ程度とする必要がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、浮上量が５〜１５μｍ程度の大きさになると
、浮上量が浮上型ヘッド１と記録媒体間の相対速度に大
きく依存するようになる。例えば、記録媒体を角速度一
定制御で回転させるのであれば、上記の相対速度は記録
媒体の外周側に向かうにつれて大きくなるが、その場合
、浮上量は相対速度の大きい外周側に向かうにつれて増
加する。

このように、浮上型ヘッド１と記録媒体との相対速度が
一定でなく、従って、浮上型ヘッド１の浮上量、つまり
、浮上型ヘッド１と記録媒体間の距離が半径位置等によ
って変化する場合は、それに伴って記録媒体に印加され
る磁場の大きさが変動し、一定の条件で記録、消去を行
うことができなくなるという問題を生じる。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係る光磁気ディスクは、上記の課題を解決する
ために、基板と、基板上に積層される記録層及び保護層
を有し、上記保護層上で浮上する浮上型ヘッドを使用し
、角速度一定で回転させながら記録又は消去を行う光磁
気ディスクにおいて、保護層の膜厚をｔＩ、本光磁気デ
ィスク上の半径位置をｒ、ａｔを正の定数、ｂ、を負で
ない定数（≧０）として、 式ｔ、　＝ａ　、　／　ｒ　（１／り　　ｌ）　、　　
　　　−・■で近似される関係が設定されていることを
特徴とするものである（以下、第１の態様と呼ぶ）。

又、本発明に係る光磁気ディスクは、基板と、基板上に
積層される記録層、保護層及びヘッド吸着防止膜を有し
、上記ヘッド吸着防止膜上で浮上する浮上型ヘッドを使
用し、角速度一定で回転させながら記録又は消去を行う
光磁気ディスクにおいて、保護層の膜厚をＬ１を、ヘッ
ド吸着防止層の膜厚をｔ７、本光磁気ディスク上の半径
位置をｒ、ａ：を正の定数、ｂｔを負でない定数（≧０
）として 式ｊ、　＝＝　Ｃａ、　／ｒ　（＋／ｌ）　　１１．　
）　−ｔ、　　・・−■で近似される関係が設定されて
いても良い（以下、第２の態様と呼ぶ）。

なお、上記第１の態様の光磁気ディスクは、例えば、基
板上に記録層を形成した後、光磁気ディスクの内周部で
目が粗く、外周部に向かうにつれて目が細かくなるスク
リーンを介して保護層用の樹脂を盛り、続いて、この樹
脂を硬化させることにより製造することができる。

又、上記第２の態様の光磁気ディスクは、例えば、基板
上に記録層及び保護層を順次形成した後、光磁気ディス
クの内周部で目が粗く、外周部に向かうにつれて目が細
かくなるスクリーンを介してヘッド吸着防止層用の樹脂
を盛り、続いて、この樹脂を硬化させることにより製造
することができる。

〔作　用〕

前述したように、浮上型ヘッドの浮上量は浮上型ヘッド
と、記録媒体である光磁気ディスクとの間の相対速度に
より変化する。本発明では、浮上型ヘッドの浮上量りが
浮上型ヘッドと光磁気ディスク間の相対速度の平方根、
つまり、（１／２）乗にほぼ比例し、従って、光磁気デ
ィスクを角速度一定制御で回転させるのであれば、浮上
量りが半径位置ｒの（１／２）乗にほぼ比例することに
着目し、上記第１の態様の如く、記録層上に保護層を有
する場合、保護層の膜厚ｔ１を上記の０式の如く、半径
位置ｒの（１／２）乗にほぼ反比例させることにより、
半径位置ｒの変化にかかわらず浮上型ヘッドと記録層と
の間の距離（ｈ＋ｔ。

）をほぼ一定に維持するようにしている。これにより、
記録又は消去時に記録層に印加される磁場の大きさが半
径位置ｒにかかわらず、はぼ一定となる。

又、上記第２の態様に係る光磁気ディスクでは、同様の
考え方により、記録層上に保護層及びヘッド吸着防止層
を有する場合、上記の■式の如く、保護層の膜厚ｔ１を
ほぼ一定とするとともに、ヘッド吸着防止層の膜厚Ｌ２
を半径位置ｒの（１／２）乗にほぼ反比例させることに
より、半径位置ｒの変化にかかわらず浮上型ヘッドと記
録層との間の距離（ｈ＋ｔ、＋ｔオ）をほぼ一定に維持
するようにしている。これにより、記録又は消去時に記
録層に印加される磁場の大きさが半径位置ｒにかかわら
ず、はぼ一定となる。

次に、上記第１の態様の光磁気ディスクの製造に際して
、保護層の膜厚を外周部に向かうに伴って薄くする必要
があるが、上記のように、外周部に向かうにつれて目が
細かくなるスクリーンを介して保護層用の樹脂を盛るこ
とにより、膜厚に変化を与えることができる。又、第２
の態様の光磁気ディスクにおけるヘッド吸着防止層の膜
厚に変化を与える際にも、同様のスクリーンを使用する
ことができる。

〔実施例１〕 請求項第１項及び第３項に関連する本発明の一実施例を
第１図、第２図及び第５図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。

第１図に示すように、光磁気ディスク１１は、ガラス、
又はポリカーボネイト、ポリメチルメタアクリレート、
アモルファスポリオレフィン等の透光性樹脂等からなり
、中央に孔１２ａが設けられた基板１２を備えている。

基Ｆｉ、１２には具体的に図示しないが、記録、再生又
は消去に際して光ビームを案内する案内溝及びアドレス
を示すビットが必要に応じて設けられる。

基板１２上には記録層１３が形成されている。

記録層１３は磁性膜の単層膜、又は再生時の磁気カー効
果を強調するための誘電体膜、磁性膜及び反射膜等を含
む多層膜からなり、上記の磁性膜等は蒸着もしくはスパ
ッタリング等により基ｔｒＩｉ１２上に積層される。上
記磁性膜には、ＭｎＢ１．ＰｔＭｎ５ｂ等の多結晶薄膜
、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＦｅＣｏ等の希土
類遷移金属のアモルファス薄膜もしくは（Ｐ　ｔ　／　
Ｃｏ　）多層膜等の人工格子膜等が使用される。

記録層１３は保護層１４により被覆されている。保護層
１４は、例えば、１０００　（ｃｐｓ：１以上の高粘度
のスクリーン印刷用の紫外線硬化型樹脂からなる。

又、光磁気ディスク１１に記録、再生又は消去を行う記
録再生装置は、保護層１４上で滑走可能なスライダ部と
、磁気ヘッドとを有し、サスペンション１６により光磁
気ディスク１１の保護層１４側に付勢される浮上型ヘッ
ド１５と、対物レンズ１７を有し、基板１２を介して記
録層１３にレーザビームを照射する光ヘッドとを備えて
いる。

なお、上記スライダ部及び磁気ヘッドは具体的に図示し
ないが、例えば、第７図のものと同様に構成できる。

保護層１４の膜厚は光磁気ディスク１１の外周側に向か
うにつれて小さくなるように設定されている。より具体
的には、上記浮上型ヘッド１５におけるスライダ部の大
きさを縦１０　（ｍｍ）Ｘ横１０（ｍｍ）とし、光磁気
ディスク１１を３６００（ｒｐｍ）で回転（角速度一定
）させるものとすると、保護層重４の膜厚１＋　　Ｃμ
ｍ〕は光磁気ディスク１１上の半径位置をｒ　（ｍｍ）
として、ｔ＋　＝８０／　ｒ　””　　　１０　　　　
−　（１）で表される。ここでは、請求項第１項におけ
る式中の定数ａ＋＝８０、ｂｌ＝１０とされている。

一方、上記した１　０　（ｍｍ）　ｘ　１０　（ｍｍ）
の大きさのスライダ部を有する浮上型ヘッド１５をサス
ペンション１６により５（ｇｆ）の押圧荷重で保護層１
４側に押圧しつつ、光磁気ディスク１１を３６００　（
ｒｐｍ）で回転させた場合の光磁気ディスク１１の各半
径位置における浮上型ヘッド１５の浮上量を測定した結
果を第５図に曲線Ｉで示す、この曲線■から明らかなよ
うに、浮上型ヘッド１５が光磁気ディスク１１の外周側
に移動するに伴って、換言すれば、浮上型ヘッド１５と
光磁気ディスク１１との間の相対速度が大きくなるに伴
って浮上量は大きくなる。

それに対し、保護層１４の膜厚を上記の（１）式に基づ
いて光磁気ディスク１１に外周側はど薄くなるように設
定すると、浮上型へノド１５と記録層１３間の距離を光
磁気ディスク１１０半径位置にかかわらずほぼ一定に維
持することができる。

以下の第１表に各半径位置における浮上量ｈ（第５図の
曲線■）、（１）式により演算した各半径位置での保護
層１４の膜厚ｔ１及び浮上量りと膜厚の和（ｈ十ｔＩ）
、つまり、各半径位置での浮上型へノド１５と記録層１
３間の距離との関係を示す。同表から分かるように、（
ｈ十ｔ＋）は各半径位置で若干の変動はあるものの、（
ｈ　＋　ｔ　Ｉ）の変動は浮上量り自体の変動よりは遥
かに僅かであり、各半径位置で（ｈ＋ｔ＋）がほぼ一定
となっている。

第１表 次に、上記の光磁気ディスク１１の製造方法を説明する
。

第２図（ａ）に示すように、まず、基板１２上に記録層
１３を形成する。次に、同図０））に示すように、記録
１１８１３上に保護層１４を形成する紫外線硬化型樹脂
１４“がスクリーン印刷技術により盛られる。このスク
リーン印刷用の版１８は底部に網目状のスクリーン２０
を有している。そして、スクリーン２０における光磁気
ディスク１１の内周部に対応する部位は目が粗くなって
おり、光磁気ディスク１１の外周側に向かうにつれてス
クリーン２０の目が細かくなっている。これにより、紫
外線硬化型樹脂１４′は光磁気ディスク１１の内周側で
厚く、外周側に向かうにつれて薄くなるように、具体的
には光磁気ディスク１１の半径ｒと紫外線硬化型樹脂１
４°の厚さｔ、が上記の（１）式の関係を満たすように
盛られる。

次に、第２図（Ｃ）に示すように、紫外線ランプ２１に
より紫外線が照射されることにより、紫外線硬化型樹脂
１４゛が硬化されて保護層１４が形成される。なお、こ
の際、保護層１４への浮上型ヘッド１５の吸着を防止す
るために保護層１４の表面に比較的大きな物理的凹凸を
形成したい場合、紫外線硬化型樹脂１４”を表面硬化と
内部硬化の２段階で硬化させることにより保護層１４を
形成することもできる。

〔実施例２〕 次に、請求項第２項及び第４項に関連する本発明の第２
実施例を説明する。

第３図に示すように、この実施例の光磁気ディスク２２
は基板１２上に記録層１３と、保護層２３と、ヘッド吸
着防止層２４とを順次積層してなっている。保護層２３
は、例えば、ウレタンアクリレート等の紫外線硬化型樹
脂で一定の膜厚ｔ１となるように形成される一方、へ・
ノド吸着防止層２４は、１０００　（ｃｐｓ）以上程度
の高粘度のスクリーン印刷用の紫外線硬化型樹脂で形成
されヘッド吸着防止層２４の膜厚ｔ２は光磁気ディスク
２２の内周から外周に向かうにつれて小さくされている
。

具体的には、例えば、浮上型ヘッド１５のスライダ部の
大きさが縦５　（ｍｍ）Ｘ横５　（ｍｍ）であり、光磁
気ディスク２２が３６００　［ｒｐｍ）で角速度一定で
回転されるものとした時、光磁気ディスク２２上の半径
位置ｒ　［ｍｍ）と、保護層２３及びヘッド吸着防止層
２４の各膜厚ｊ＋、ｔｚとの間に ｔｔ　＝　（５０／ｒ　（１／２）−　　　０）　　　
ｔ＋　　−（２）の関係が与えられる。ここでは、請求
項第２項の式中の定数ａ、＝５０、ｂ２＝０とされてい
る。

一方、スライダ部の大きさが５　（ｍｍ）Ｘ５　（ｍｍ
）の浮上型ヘッド１５を３５ＱＯ（ｒｐｍ）で回転する
光磁気ディスク２２上にサスペンション１６により５（
ｇｆ）の押圧荷重で押゛圧した時の光磁気ディスク２２
上の半径位置と浮上型ヘッド１５の浮上量との関係を測
定した結果を第５図中に曲線■で示す。又、以下の第２
表に各半径位置における浮上型ヘッド１５の浮上量ｈ、
保護層２３の膜厚ｊ１を、ヘッド吸着防止層２４の膜厚
ｔ：及び（ｈ＋ｔ、＋ｔ、）、つまり、記録層１３と浮
上型ヘッド１５間の距離を示す。

第２表から明らかなように、浮上量りは半径位置により
かなり大きな変動を有するものの、（ｈ＋１．＋１．）
は半径位置にかかわりなくほぼ一定であり、従って、浮
上型ヘッド１５と記録層１３間の距離はほぼ不変となり
、光磁気ディスク２２の半径位置にかかわらず同一の条
件で記録・消去が行われることになる。

第２表 次に、この実施例の光磁気ディスク２２の製造方法の一
例を説明する。

第４図（ａ）に示すように、まず、基板１２上に記録層
１３が形成され、次に、同図い）の如く、保護層２３を
形成する紫外線硬化型樹脂２３“が滴下された後、基板
１２を回転させることにより紫外線硬化型樹脂２３′が
均一に塗布され、続いて、同図（Ｃ）のように紫外線ラ
ンプ２１により紫外線が照射されて紫外線硬化型樹脂２
３“が硬化され、保護層２３が形成される。

次に、同図（ｄ）の如く、第１実施例と同様の、光磁気
ディスク２２の外周側に向かうにつれて目が細かくなる
スクリーン２０を介してヘッド吸着防止層２４を形成す
る紫外線硬化型樹脂２４′が盛られた後、紫外線ランプ
２１により紫外線が照射（同図（ｅ））されてヘッド吸
着防止層２４が形成される。

なお、上記の実施例では、保護層２３の膜厚１゜を一定
としてヘッド吸着防止層２４の膜厚ｔ２を半径位置ｒに
応じて変化させたが、逆に、ヘッド吸着防止層２４の膜
厚ｔ２を一定として保護層２３の膜厚ｔ１を半径位置ｒ
に応じて変化させるようにすることもでき、要は保護層
２３及びヘッド吸着防止層２４の合計の膜厚（ｔＩ＋ｔ
２）が外周側で小さくなるように半径位置ｒに応じて変
化していれば良い。

又、上記の第１及び第２実施例では、光磁気ディスク１
１又は２２を角速度一定制御で回転させ、保護層１４又
はヘッド吸着防止層２４の膜厚ｔ。

・ｔ２を半径位置ｒの（１／２）乗にほぼ反比例させて
変化させるようにしたが、基本的には、保護層１４又は
ヘッド吸着防止層２４の膜厚１゜ｔ２が浮上型ヘノド１
５と光磁気ディスク１１又は２２との間の相対速度の（
１／２）乗にほぼ反比例して変化するようになっていれ
ば良い。

又、上記の第１実施例の保護層１４及び第２実施例のへ
ノド吸着防止層２４はそれぞれスクリーン印刷用の紫外
線硬化型樹脂により形成したが、それ以外の樹脂等を使
用しても良い。

〔発明の効果〕

本発明に係る光磁気ディスクは、以上のように、記録層
上に保護層を有し、浮上型ヘッドを使用するとともに、
角速度一定で回転させながら記録又は再生を行う場合に
、保護層の膜厚をｔ１を、本光磁気ディスク上の半径位
置をｒ、ａｌを正の定数、ｂ、を負でない定数（≧０）
として、式ｔ、　−ａ、　／　ｒ　（１／ｉ）　　１を
、。

で返信される関係が設定されている構成である（第１の
態様と呼ぶ）。

これにより、浮上型ヘッドの浮上量がが半径位置の（１
／２）乗にほぼ比例するのに対し、保護層の膜厚を半径
位置の（１／２）乗にほぼ反比例させるようにしたので
、半径位置の変化にかかわらず浮上型ヘッドと記録層と
の間の距離がほぼ一定に維持され、その結果、記録又は
消去時に記録層に印加される磁場の大きさが半径位置に
かかわらず、はぼ一定となるので、安定的に記録・消去
を行えるようになる。

又、本発明に係る光磁気ディスクは、記録層上に保護層
及びヘッド吸着防止層を有し、浮上型ヘッドを使用する
とともに、角速度一定で回転させながら記録又は再生を
行う場合に、保護層の膜厚をｔ１を、ヘッド吸着防止層
の膜厚をｔｚ、本光磁気ディスク上の半径位置をｒ、ａ
２を正の定数、ｂ、を負でない定数（≧Ｏ）として 弐ｔ２−（ａ２／ｒ（１″）−ｂ２）−ｔｌで近位され
る関係が設定されている構成でも良い（第２の態様と呼
ぶ）。

このように、上記第１の態様の場合と同様の考え方に基
づいて、保護層の膜厚をほぼ一定とするとともに、ヘッ
ド吸着防止層の膜厚を半径位置の（１／２）乗にほぼ反
比例させるようにしたので、半径位置の変化にかかわら
ず浮上型ヘッドと記録層との間の距離がほぼ一定に維持
され、従って、記録又は消去時に記録層に印加される磁
場の大きさがほぼ一定となるので、安定的に記録・消去
が行えるようになる。

又、上記第１の態様の光磁気ディスクは、例えば、基板
上に記録層を形成した後、光磁気ディスクの内周部で目
が粗く、外周部に向かうにつれて目が細かくなるスクリ
ーンを介して保護層用の樹脂を盛り、続いて、この樹脂
を硬化させることにより製造することができる。

このように、保護層の形成に際して、外周部に向かうに
つれて目が細かくなるスクリーンを介して保護層用の樹
脂を盛ることにより、膜厚に所定の変化を与えることが
できる。

又、上記第２の態様の光磁気ディスクは、例えば、基板
上に記録層及び保護層を順次形成した後、光磁気ディス
クの内周部で目が粗く、外周部に向かうにつれて目が細
かくなるスクリーンを介してヘッド吸着防止層用の樹脂
を盛り、続いて、この樹脂を硬化させることにより製造
することができる。

この場合も、同様に外周部に向かうにつれて目が細かく
なるスクリーンを介してヘッド吸着防止層用の樹脂を盛
ることにより、膜厚に所定の変化を与えることができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の第１実施例を示すものであ
る。 第１図は光磁気ディスクの概略縦断面図である。 第２図（ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ光磁気ディスクの製造
手順を示す概略縦断面図である。 第３図及び第４図は本発明の第２実施例を示すものであ
る。 第３図は光磁気ディスクの概略縦断面図である。 第４図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ光磁気ディスクの製造
手順を示す概略縦断面図である。 第５図は半径位置と浮上量との関係を示す第１及び第２
実施例に共通のグラフである。 第６図及び第７図は従来例を示すものである。 第６図は浮上型ヘッドを示す斜視図である。 第７図は第６図の部分拡大図である。 １２は基板、１３は記録層、１４・２３は保護層、１４
′　・２３“　・２４°は紫外線硬化型樹脂（樹脂）、
１５は浮上型ヘッド、２４はヘッド吸着防止層である。 特許出願人　　　　　シャープ　株式会社第　１　図 第　２　図（ａ） 第　２　図（ｂ） 第　２　図（Ｃ） 第 図 第 図（ａ） 第 １！Ｉ（ｂ） 第 ｉ１！！（ｅ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板と、基板上に積層される記録層及び保護層を有
   し、上記保護層上で浮上する浮上型ヘッドを使用し、角
   速度一定で回転させながら記録又は消去を行う光磁気デ
   ィスクにおいて、 保護層の膜厚をｔ＿１を、本光磁気ディスク上の半径位
   置をｒ、ａ＿１を正の定数、ｂ＿１を負でない定数とし
   て、 式ｔ＿１＝ａ＿１／ｒ＾（＾１＾／＾２＾）−ｂ＿１で
   近似される関係が設定されていることを特徴とする光磁
   気ディスク。 ２、基板と、基板上に積層される記録層、保護層及びヘ
   ッド吸着防止膜を有し、上記ヘッド吸着防止膜上で浮上
   する浮上型ヘッドを使用し、角速度一定で回転させなが
   ら記録又は消去を行う光磁気ディスクにおいて、 保護層の膜厚をｔ＿１、ヘッド吸着防止層の膜厚をｔ＿
   ２、本光磁気ディスク上の半径位置をｒ、ａ＿２を正の
   定数、ｂ＿２を負でない定数として 式をｔ＿２＝（ａ＿２／ｒ＾（＾１＾／＾２＾）−ｂ＿
   ２）−ｔ＿１、で近似される関係が設定されていること
   を特徴とする光磁気ディスク。 ３、請求項第１項記載の光磁気ディスクの製造方法であ
   って、 基板上に記録層が形成された後、光磁気ディスクの内周
   部で目が粗く、外周部に向かうにつれて目が細かくなる
   スクリーンを介して保護層用の樹脂が盛られ、続いて、
   この樹脂が硬化されることを特徴とする光磁気ディスク
   の製造方法。 ４、請求項第２項記載の光磁気ディスクの製造方法であ
   って、 基板上に記録層及び保護層が順次形成された後、光磁気
   ディスクの内周部で目が粗く、外周部に向かうにつれて
   目が細かくなるスクリーンを介してヘッド吸着防止層用
   の樹脂が盛られ、続いて、この樹脂が硬化されることを
   特徴とする光磁気ディスクの製造方法。